专利摘要

本实用新型公开了一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，包括前端基座，所述前端基座上设有输出孔，所述前端基座的一侧壁上固定连接有外侧管，所述外侧管内设有外侧孔，所述外侧孔正对输出孔设置，所述外侧孔内设有内侧管，所述内侧管远离前端基座的一端贯穿外侧孔设置，所述内侧管的外壁上转动连接有固定环，所述外侧管的外壁上固定连接有两个呈对称设置的固定板，所述固定环靠近固定板的一侧壁上设有两个呈对称设置的滑动槽，两个所述滑动槽内均滑动连接有滑动块。本实用新型极大的提高了装置对离子流的耐冲击性，还极大的方便了用户对装置进行拆卸，继而完成装置的维护、更换工作。

权利要求

1.一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，包括前端基座(1)，其特征在于，所述前端基座(1)上设有输出孔(2)，所述前端基座(1)的一侧壁上固定连接有外侧管(3)，所述外侧管(3)内设有外侧孔(4)，所述外侧孔(4)正对输出孔(2)设置，所述外侧孔(4)内设有内侧管(5)，所述内侧管(5)远离前端基座(1)的一端贯穿外侧孔(4)设置，所述内侧管(5)的外壁上转动连接有固定环(6)，所述外侧管(3)的外壁上固定连接有两个呈对称设置的固定板(7)，所述固定环(6)靠近固定板(7)的一侧壁上设有两个呈对称设置的滑动槽(8)，两个所述滑动槽(8)内均滑动连接有滑动块(9)，两个所述滑动块(9)远离滑动槽(8)的一端均固定连接有螺纹柱(10)，两个所述螺纹柱(10)远离滑动块(9)的一端分别贯穿两个固定板(7)设置，两个所述螺纹柱(10)远离滑动块(9)的一端上均螺纹连接有螺母(11)。

2.根据权利要求1所述的一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，其特征在于,所述内侧管(5)靠近前端基座(1)的一侧壁上设有环形槽(12)，所述环形槽(12)内滑动连接有环形块(13)，所述环形块(13)靠近前端基座(1)的一侧壁上固定连接有接触管(14)，所述环形块(13)远离接触管(14)的一侧壁与环形槽(12)远离接触管(14)的一侧内壁之间通过多个弹簧(15)相连。

3.根据权利要求2所述的一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，其特征在于，所述内侧管(5)靠近前端基座(1)的一端外壁上固定连接有缓冲垫(17)。

4.根据权利要求1所述的一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，其特征在于，两个所述滑动槽(8)均呈T型设置，两个所述滑动块(9)的形状分别与两个滑动槽(8)呈匹配设置。

5.根据权利要求1所述的一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，其特征在于，两个所述螺纹柱(10)上均套设有垫片(16)，两个所述垫片(16)分别位于两个螺母(11)和两个固定板(7)之间设置。

6.根据权利要求3所述的一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，其特征在于，所述外侧孔(4)的形状呈锥形设置，所述缓冲垫(17)的形状与外侧孔(4)呈匹配设置。

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管。

背景技术

离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型，在离子注入机需要用到位于质量分析器前端的离子传输管。

现有的设置在质量分析器前端的离子传输管由于长期受到高温、高速离子流的冲击，极易在工作过程中出现被击穿的情况，这样一来就会造成漏点的情况，影响离子注入机的正常工作，且现有的离子传送管不方便进行拆卸，这样一来便极大的不便于用户进行维护、更换工作。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，如：现有的离子传输管耐冲击性差，且不便于拆卸进行维护、更换工作。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，包括前端基座，所述前端基座上设有输出孔，所述前端基座的一侧壁上固定连接有外侧管，所述外侧管内设有外侧孔，所述外侧孔正对输出孔设置，所述外侧孔内设有内侧管，所述内侧管远离前端基座的一端贯穿外侧孔设置，所述内侧管的外壁上转动连接有固定环，所述外侧管的外壁上固定连接有两个呈对称设置的固定板，所述固定环靠近固定板的一侧壁上设有两个呈对称设置的滑动槽，两个所述滑动槽内均滑动连接有滑动块，两个所述滑动块远离滑动槽的一端均固定连接有螺纹柱，两个所述螺纹柱远离滑动块的一端分别贯穿两个固定板设置，两个所述螺纹柱远离滑动块的一端上均螺纹连接有螺母。

优选的，所述内侧管靠近前端基座的一侧壁上设有环形槽，所述环形槽内滑动连接有环形块，所述环形块靠近前端基座的一侧壁上固定连接有接触管，所述环形块远离接触管的一侧壁与环形槽远离接触管的一侧内壁之间通过多个弹簧相连。

优选的，所述内侧管靠近前端基座的一端外壁上固定连接有缓冲垫。

优选的，两个所述滑动槽均呈T型设置，两个所述滑动块的形状分别与两个滑动槽呈匹配设置。

优选的，两个所述螺纹柱上均套设有垫片，两个所述垫片分别位于两个螺母和两个固定板之间设置。

优选的，所述外侧孔的形状呈锥形设置，所述缓冲垫的形状与外侧孔呈匹配设置。

本实用新型的有益效果是：在本装置中，用于离子注入工作的内侧管在受到冲击时可以自由的发生偏转，并借助缓冲垫完成进一步的缓冲工作，极大的保障了离子注入工作的正常进行，且用户可以通过拆下螺母，方便的解除螺纹柱的固定状态，继而解除了内侧管的固定状态，使得用户可以方便的进行维护、更换工作。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管的正面结构剖视图；

图2为图1中A结构的放大图；

图3为本实用新型提出的一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管的滑动槽部分俯视结构剖视图。

图中：1前端基座、2输出孔、3外侧管、4外侧孔、5内侧管、6固定环、7固定板、8滑动槽、9滑动块、10螺纹柱、11螺母、12环形槽、13环形块、14接触管、15弹簧、16垫片、17缓冲垫。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-3，一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管，包括前端基座1，前端基座1上设有输出孔2，前端基座1的一侧壁上固定连接有外侧管3，外侧管3内设有外侧孔4，外侧孔4正对输出孔2设置，外侧孔4内设有内侧管5，内侧管5靠近前端基座1的一侧壁上设有环形槽12，环形槽12内滑动连接有环形块13，环形块13靠近前端基座1的一侧壁上固定连接有接触管14，环形块13远离接触管14的一侧壁与环形槽12远离接触管14的一侧内壁之间通过多个弹簧15相连，弹簧15可以在自身弹力作用下推动环形块13，继而推动接触管14靠近输出孔2并贴合在前端基座1的侧壁上，使得离子流可以顺利的通过接触管14到达内侧管5内完成离子注入工作，内侧管5靠近前端基座1的一端外壁上固定连接有缓冲垫17，缓冲垫17的设置使得内侧管5可以稳定的插入外侧孔4内，还可以在内侧管5受到冲击发生偏转时对内侧管5进行有效的缓冲处理，极大的保障了内侧管5的安全和稳定，外侧孔4的形状呈锥形设置，缓冲垫17的形状与外侧孔4呈匹配设置，锥形设置使得内侧管5受到冲击时可以发生偏转来进行缓冲，极大的提高了内侧管5的耐冲击能力；

内侧管5远离前端基座1的一端贯穿外侧孔4设置，内侧管5的外壁上转动连接有固定环6，转动连接使得内侧管5可以与固定环6发生相对转动，这样一来内侧管5便可以完成不同方向的偏移缓冲工作，外侧管3的外壁上固定连接有两个呈对称设置的固定板7，固定环6靠近固定板7的一侧壁上设有两个呈对称设置的滑动槽8，两个滑动槽8内均滑动连接有滑动块9，滑动块9和滑动槽8的配合设置使得内侧管5和固定环6的偏转不会受到干涉，两个滑动槽8均呈T型设置，两个滑动块9的形状分别与两个滑动槽8呈匹配设置，T型设置使得滑动块9可以更加稳定的在滑动槽8内滑动，继而使得固定环6可以借助滑动块9完成固定工作，两个滑动块9远离滑动槽8的一端均固定连接有螺纹柱10，两个螺纹柱10远离滑动块9的一端分别贯穿两个固定板7设置，两个螺纹柱10远离滑动块9的一端上均螺纹连接有螺母11，用户可以借助螺母11与螺纹柱10的螺纹连接方便的完成螺纹柱10的固定工作，继而完成滑动块9、固定环6和内侧管5的固定工作，两个螺纹柱10上均套设有垫片16，两个垫片16分别位于两个螺母11和两个固定板7之间设置，垫片16的设置使得螺母11可以更加稳定的完成对螺纹柱10的螺纹固定，还使得用户可以更加省力的转动螺母11完成拆卸工作。

本实用新型中，使用者使用该装置时，直接开启离子注入机，使得离子流顺利通过输出孔2到达内侧管5内，当离子流对内侧管5进行冲击时，内侧管5会发生转动，继而带动固定环6发生移动，内侧管5在移动的过程中可以借助缓冲垫17完成进一步的缓冲工作，这样一来便极大的提高了内侧管5的耐冲击性，使得离子注入工作可以顺利的进行下去，当需要进行拆卸时，用户可以直接转动螺母11，使得螺母11脱离螺纹柱10，然后拉动固定环6，带动螺纹柱10脱离固定板7，这样一来用户便可以快速的拉动内侧管5脱离外侧孔4，完成拆卸工作，极大的方便了用户进行维护、更换工作。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

一种耐冲击性好的离子注入机质量分析器前端离子传输管专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。