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一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置

一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置

IPC分类号 : G03B21/14

申请号
CN202210257235.3
可选规格
  • 专利类型: 发明专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2022-03-16
  • 公开号: CN114326273A
  • 公开日: 2022-04-12
  • 主分类号: G03B21/14
  • 专利权人: 成都工业学院

专利摘要

为以信息密度最优方式进行光场信息密度提升,光场投影机的位置应进行精确设计。而光场投影系统用户通常不具备专门知识,难以自行进行光场扩展。为解决这一问题,本发明提出了一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置。该用于光场扩展的投影机阵列定位装置包含定位板及标尺。定位板为不同投影光场显示系统预设了若干刻度线,用户只需根据现有投影光场显示系统的结构参数将标尺放置于对应刻度线位置,则可方便地以信息密度最优方式进行光场扩展。

权利要求

1.一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置,其特征在于:

该用于光场扩展的投影机阵列定位装置包含定位板及标尺;

定位板上至少具有若干一类定位孔及若干二类定位孔行;定位板上至少具有标尺左定位槽及标尺右定位槽;标尺左定位槽设置有标尺左定位槽刻度,标尺右定位槽设置有标尺右定位槽刻度;

一类定位孔为长宽一致开孔,其在定位板上一维排列;

现有投影光场系统的投影机均安装于一类定位孔所在位置;

二类定位孔为长宽不一致开孔,其设置于两个相邻一类定位孔的中垂线上;二类定位孔排列方向与一类定位孔排列方向一致,且其开孔长轴方向与一类定位孔排列方向垂直;

标尺左定位槽及标尺右定位槽均为长宽不一致开孔,标尺左定位槽位于标尺右定位槽左侧;

标尺左定位槽刻度及标尺右定位槽刻度,用于示出具有不同结构参数q的现有投影光场显示系统其在进行光场扩展时,新增投影机的适配位置;对任意现有投影光场显示系统,设其到一维逆反射幕布的距离为l,其投影图像的宽度为d,则其结构参数q=l/d;设一类定位孔所在直线与左右定位槽的交点为左右原点,标尺左右定位槽刻度分别距离左右原点位移为k位置的刻度,其对应的光学系统应具有的结构参数q满足k =g×q,其中g为一类定位孔节距;

标尺上至少具有1个标尺定位孔;标尺上设置有标尺左基准线及标尺右基准线;

标尺定位孔为一长宽不一致开孔,其开孔长轴方向与一类定位孔排列方向一致;标尺左基准线及标尺右基准线与标尺定位孔长轴方向一致,用于表示标尺定位孔长轴的中轴线位置。

2.如权利要求1所述的一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置,其特征在于:

在任意k位置处,标识数值为k/g,则其数值应等于结构参数q

一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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