专利摘要

投影光场立体显示中，一维逆反射片到投影机的距离发生变化时，其一维逆反射效果会发生恶化。为解决这一问题，本发明提出了一种用于投影光场立体显示的一维逆反射片。该用于投影光场立体显示的一维逆反射片由第一柱透镜光栅、狭缝光栅、第二柱透镜光栅及漫反射层构成。第一柱透镜光栅构成第一逆反射结构。第二柱透镜光栅及漫反射层构成第二逆反射结构。该一维逆反射片利用狭缝光栅对光束的约束作用配合复合逆反射结构可优化一维逆反射效果，从而最终使得在投影机距离较近条件下本一维逆反射片仍然具有较好的逆反射效果。

权利要求

1.一种用于投影光场立体显示的一维逆反射片，其特征在于：

该用于投影光场立体显示的一维逆反射片由第一柱透镜光栅、狭缝光栅、第二柱透镜光栅及漫反射层构成；

第一柱透镜光栅、第二柱透镜光栅及漫反射层前后依次放置；狭缝光栅放置于漫反射层之前；第一柱透镜光栅中各柱透镜的排列方向与狭缝光栅中各狭缝的排列方向平行，且与第二柱透镜光栅中各柱透镜排列方向平行；

第一柱透镜光栅中各柱透镜顶点到第二柱透镜光栅中各柱透镜顶点的距离大于第一柱透镜光栅焦距，第二柱透镜光栅中各柱透镜顶点到漫反射层的距离大于等于第二柱透镜光栅焦距；

狭缝光栅上各狭缝宽度小于第一柱透镜光栅节距或第二柱透镜光栅节距。

2.如权利要求1所述的一种用于投影光场立体显示的一维逆反射片，其特征在于：

狭缝光栅放置于第一柱透镜光栅和第二柱透镜光栅之间，且第一柱透镜光栅中各柱透镜顶点到狭缝光栅的距离小于等于第一柱透镜光栅焦距，狭缝光栅上各狭缝宽度小于第二柱透镜光栅节距。

3.如权利要求1所述的一种用于投影光场立体显示的一维逆反射片，其特征在于：

若第一柱透镜光栅中各柱透镜顶点到第二柱透镜光栅中各柱透镜顶点的距离小于等于第一柱透镜光栅焦距，第二柱透镜光栅中各柱透镜顶点到漫反射层的距离小于第二柱透镜光栅焦距。

一种用于投影光场立体显示的一维逆反射片专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。