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一种投影光场立体显示装置

一种投影光场立体显示装置

IPC分类号 : G02B30/35

申请号
CN202111519354.3
可选规格
  • 专利类型: 发明专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2021-12-14
  • 公开号: CN113917701A
  • 公开日: 2022-01-11
  • 主分类号: G02B30/35
  • 专利权人: 成都工业学院

专利摘要

为解决传统投影光场立体显示装置中,当观看者远离屏幕移动时,光场密度越来越低,从而导致立体显示效果逐步减弱的问题,本发明提出了一种投影光场立体显示装置。该投影光场立体显示装置由投影机阵列及一维逆反射片阵列构成。一维逆反射片阵列由多个一维逆反射片构成。一维逆反射片的法线方向一致且不与图像平面的法线平行。投影机阵列中的投影机以任意形式进行密集排列,每一投影机分别投射一幅视差图像。任意一台投影机发生的光线经逆反射后,光线汇聚于一条直线上,该直线不与图像平面的法线方向垂直。当观看者沿该直线方向远离屏幕时,其观看到的光场不再发生变化,从而可使前后不同的观看者都能看到一致的立体图像。

权利要求

1.一种投影光场立体显示装置,其特征在于:该投影光场立体显示装置由投影机阵列及一维逆反射片阵列构成;投影机阵列中各个投影机投射视差图像于一维逆反射片阵列之上,形成图像平面;一维逆反射片阵列由多个一维逆反射片构成;一维逆反射片作为分光元件能在某方向上形成一维逆反射,即在该方向上不同位置的投影机,其发射的光线能经一维逆反射片逆反射后在该方向上分别再次汇聚于各自位置;上述一维逆反射片的法线方向一致且不与图像平面的法线平行;上述一维逆反射片的法线方向与其实现一维逆反射的方向垂直;投影机阵列中的投影机以任意形式进行密集排列,每一投影机分别投射一幅视差图像。

2.如权利要求1所述的一种投影光场立体显示装置,其特征在于:所述一维逆反射片由平面反射镜阵列及一维散射光学元件组合构成,一维散射光学元件沿一方向形成不平整的表面,而在与之正交的方向上具有平整表面。

3.如权利要求2所述的一种投影光场立体显示装置,其特征在于:一维逆反射片利用立方晶反射阵列与一维散射光学元件组合构成。

4.如权利要求2所述的一种投影光场立体显示装置,其特征在于:一维逆反射片利用反射棱镜阵列与一维散射光学元件组合构成,反射棱镜的工作面外角和为90度。

5.如权利要求1所述的一种投影光场立体显示装置,其特征在于:一维逆反射片由透镜阵列或柱透镜及传统一维逆反射层形成的复合结构构成。

一种投影光场立体显示装置专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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