专利摘要
本发明公开一种确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差的方法，步骤是：按照1:1比例绘制箱体加工工艺CAD模型，体现箱体孔系位置与定位元件之间的几何关系；假设定位销和定位孔制造误差为0，模拟一面两孔定位过程建立定位元件与孔系位置之间的关系，利用CAD软件建立二维模型，定义箱体孔系上第一孔的水平坐标A和第二孔的水平坐标E；考虑定位元件的公差，模拟定位过程，利用CAD软件分别建立箱体加工基准顺转模型和箱体加工基准逆转模型，保持第一孔与第二孔的中心距离不变，得到箱体孔系上第一孔的垂直坐标最大、小值和第二孔的垂直坐标最大、小值。此种方法可确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差，直观性好，成本低，精度高。
权利要求
1.一种确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差的方法，其特征在于包括如下步骤：
步骤1，按照1:1比例绘制箱体加工工艺CAD模型，体现箱体孔系位置与定位元件之间的几何关系，JX表示定位基准；由于夹具上的定位销和箱体上的定位销孔存在制造误差，JX基准转动导致箱体孔系上第一孔和第二孔的位置误差；
步骤2，假设夹具上的菱形定位销和箱体上的菱形定位销孔的制造误差为0，夹具上的圆柱形定位销和箱体上的圆柱形定位销孔的制造误差为0，模拟一面两孔定位过程建立定位元件与孔系位置之间的关系，利用CAD软件建立二维模型，定义箱体孔系上第一孔的水平坐标A和第二孔的水平坐标E；
步骤3，考虑定位元件的公差，模拟定位过程，利用CAD软件建立箱体加工基准顺转模型，第一孔与第二孔的中心距离不变，在新基准JX1下，采用CAD软件“标注”菜单下的命令，得到箱体孔系上第一孔的垂直坐标最小值和第二孔的垂直坐标最大值；其中，新基准JX1是指：箱体上的菱形定位销孔取最大值，夹具上的菱形定位销取最小值，夹具上的圆柱形定位销取最大值，箱体上圆柱形定位销孔取最小值；
步骤4，考虑定位元件的公差，模拟定位过程，利用CAD软件建立箱体加工基准逆转模型，第一孔与第二孔的中心距离不变，在新基准JX2下，采用CAD软件“标注”菜单下的命令，得到箱体孔系上第一孔的垂直坐标最大值和第二孔的垂直坐标最小值；其中，新基准JX2是指：箱体上的菱形定位销孔取最小值，夹具上的菱形定位销取最大值，夹具上的圆柱形定位销取最小值，箱体上的圆柱形定位销孔取最大值。
2.如权利要求1所述的确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差的方法，其特征在于：所述步骤2中，一面两孔定位过程的内容是：定位时，使工件定位孔与定位销配合，定位销轴线方向定位于夹具上。
说明书
技术领域
本发明涉及一种箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差确定的二维建模方法。
背景技术
目前，确定转动误差通常采用极值法，它是根据定位过程、极限尺寸和计算公式进行计算，但是，这种方法计算复杂，易出错，直观性差，有待改进。极值法在机械设计和制造上用于装配尺寸链，加工尺寸链等尺寸链计算，最终为了确定零件的加工精度或允许误差。
发明内容
本发明的目的，在于提供一种确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差的方法，其可确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差，直观性好，成本低，精度高。
为了达成上述目的，本发明的解决方案是：
一种确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差的方法，包括如下步骤：
步骤1，按照1:1比例绘制箱体加工工艺CAD模型，体现箱体孔系位置与定位元件之间的几何关系；
步骤2，假设夹具上的菱形定位销和箱体上的菱形定位销孔的制造误差为0，夹具上的圆柱形定位销和箱体上的圆柱形定位销孔的制造误差为0，模拟一面两孔定位过程建立定位元件与孔系位置之间的关系，利用CAD软件建立二维模型，定义箱体孔系上第一孔的水平坐标A和第二孔的水平坐标E；
步骤3，考虑定位元件的公差，模拟定位过程，利用CAD软件建立箱体加工基准顺转模型，第一孔与第二孔的中心距离不变，得到箱体孔系上第一孔的垂直坐标最小值和第二孔的垂直坐标最大值；
步骤4，考虑定位元件的公差，模拟定位过程，利用CAD软件建立箱体加工基准逆转模型，第一孔与第二孔的中心距离不变，得到箱体孔系上第一孔的垂直坐标最大值和第二孔的垂直坐标最小值。
上述步骤2中，一面两孔定位过程的内容是：定位时，使工件定位孔与定位销配合，定位销轴线方向定位于夹具上。
上述步骤3中，箱体上的菱形定位销孔取最大值，夹具上的菱形定位销取最小值，夹具上的圆柱形定位销取最大值，箱体上圆柱形定位销孔取最小值。
上述步骤4中，箱体上的菱形定位销孔取最小值，夹具上的菱形定位销取最大值，夹具上的圆柱形定位销取最小值，箱体上的圆柱形定位销孔取最大值。
采用上述方案后，本发明具有以下特点：
(1)本发明根据箱体孔系位置和定位元件的几何关系，模拟加工时定位过程，采用CAD辅助工具，建立箱体加工基本尺寸模型图，箱体加工基准顺转模型，以及箱体加工基准逆转模型，从而确定孔系垂直坐标基本尺寸、最大尺寸和最小尺寸，采用AUTO CAD二维建模方法确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差，直观性好，成本低，精度高；
(2)采用CAD软件“标注”菜单下的命令，自动测量箱体孔系垂直坐标基本尺寸、最大尺寸和最小尺寸。
附图说明
图1是本发明的流程原理图；
图2是箱加工工艺模型图；
图3是箱体加工基本尺寸模型图；
图4是箱体加工基准顺转模型图；
图5是箱体加工基准逆转模型图。
具体实施方式
以下将结合附图，对本发明的技术方案及有益效果进行详细说明。
本发明提供一种确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差的方法，主要是采用CAD辅助建立二维模型的方式来实现，结合图1所示，箱体加工工艺建模指建立箱体孔系加工几何模型，表达加工孔系位置和定位元件之间的几何关系。基本尺寸建模指建立定位元件公差为0时定位元件与加工孔系位置之间的几何关系模型。基准顺转建模指建立定位元件出现公差导致基准顺时针转动时定位元件与孔系位置之间的几何模型。基准逆转建模指建立定位元件出现公差导致基准逆时针转动时定位元件与孔系位置之间的几何模型。具体步骤如下：
1、箱体加工工艺建模
根据机械制图、机械加工工艺理论，分析箱体孔系位置与定位元件之间的几何关系，按照1:1比例绘制箱体加工工艺CAD模型，设计并表达箱体孔系位置与定位元件之间的几何关系，如图2所示。
图2为箱加工工艺模型图。图2中，1、2表示箱体孔系中需要加工的2个孔，3表示箱体上的菱形定位销孔，4表示夹具上的菱形定位销，夹具上的菱形定位销4与箱体上的菱形定位销孔3配合；5表示夹具上的圆柱形定位销，6表示箱体上的圆柱形定位销孔，夹具上的圆柱形定位销5与箱体上的圆柱形定位销孔6配合。两处销孔配合实现箱体1、2孔加工时的定位。为了看图直观，图2中两处销孔配合间隙放大绘制。
A表示孔1的水平坐标(mm)，B表示孔1的垂直坐标(mm)，E表示孔2的水平坐标(mm)，F表示孔2的垂直坐标(mm)，L表示定位销孔之间的中心距(mm)。
D1表示定位销孔6直径(mm)，D2表示定位销孔3直径(mm)，d1表示定位销5直径(mm)，d2表示菱形定位销4直径(mm)。
JX表示定位基准。
一面两孔定位过程：定位时，使工件定位销孔与定位销配合，定位销轴线方向定位于夹具上。
基准转动误差的产生过程：由于定位销和定位销孔制造误差，JX基准回转动导致孔1和孔2的位置误差。
2、建立箱体加工基本尺寸模型
在图2基础上，假设定位销和定位销孔的制造误差为0，根据工艺理论，模拟一面两孔定位过程建立定位元件与孔系位置之间的关系，利用CAD软件建立二维模型如图3。
图3为箱体加工基本尺寸模型。图3中所有参数同前。D1＝d1为定位元件5、6的基本尺寸。D2＝d2为定位元件3、4的基本尺寸。
3、建立箱体加工基准顺转模型
在图3基础上，考虑定位元件的公差，模拟定位过程，利用CAD软件建立箱体加工基准顺转模型如图4所示。
图4中，A，E，L同前。销5取最大值d1max，定位销孔6取最小值D1min,菱形销4取最小值d2min，定位销孔3取最大值D2max。此时基准会顺时针转动变为JX1。
在新基准JX1下，采用CAD软件“标注”菜单下的命令，自动测量孔1的垂直坐标获得最小值Bmin，和孔2的垂直坐标获得最大值Fmax。
4、建立箱体加工基准逆转模型
在图3基础上，考虑定位元件的公差，模拟定位过程，利用CAD软件建立箱体加工基准逆转模型如图4所示。
图4中，A，E，L同前。销5取最小值d1min，定位销孔6取最大值D1max，菱形销4取最大值d2max，定位销孔3取最小值D2min。此时基准会逆时针转动变为JX2。
在新基准JX2下，采用CAD软件“标注”菜单下的命令，自动测量孔1的垂直坐标获得最大值Bmax，和孔2的垂直坐标获得最小值Fmin。
本发明可应用于机械设计与制造，汽车设计与制造中。应用案例如表1，其中，Bmax，Bmin，Fmax，Fmin数据是由本发明获得的结果，其余数据由设计给出。参数定义同前。
表1箱体加工一面两孔定位基准转动误差计算方案与结果
以上实施例仅为说明本发明的技术思想，不能以此限定本发明的保护范围，凡是按照本发明提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本发明保护范围之内。
确定箱体孔系加工一面两孔定位基准转动误差的方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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