专利摘要

专利摘要

本申请涉及摄像头加工技术领域，具体公开了摄像头支架热处理装置，其包括炉体、进料部和牵引部，进料部和牵引部从左至右布置，炉体内设有两端开口的加热腔；进料部包括进料槽和真空泵，进料槽设于加热腔内并可左右滑动，进料槽的顶部和右侧开口，进料槽的侧壁内设有真空腔，真空腔的右侧设有第一槽口，真空腔内设有与真空泵电连接的压力传感器；牵引部包括堵块和牵引机构，堵块设于加热腔内并可左右滑动，堵块的左侧设有封闭第一槽口的凸起，加热腔的侧壁上设有对进料槽限位的限位凸棱；进料槽与限位凸棱相抵时，炉体、进料槽和堵块围成一封闭空间。该装置能快速对加热腔进行抽真空，并避免打开加热腔时，空气冲入加热腔内损坏加热器。

权利要求

1.摄像头支架热处理装置，包括炉体、进料部和牵引部，进料部和牵引部从左至右布置，进料部内设有加热腔，进料部包括与炉体滑动连接的进料槽；其特征在于：加热腔的两端开口，加热腔内设有加热器；进料槽设于加热腔内，进料槽的顶部和右侧开口，进料槽的侧壁内设有真空腔，真空腔的右侧设有第一槽口，进料部还包括真空泵，所述真空泵与真空腔连接，真空腔内设有与真空泵电连接的压力传感器；所述牵引部包括堵块和用于牵引堵块的牵引机构，所述堵块设于加热腔内，堵块的左侧设有可插入第一槽口并将真空腔密封的凸起，牵引机构设于炉体的右侧，牵引机构与堵块的右端连接并可驱动堵块在加热腔内左右滑动，所述加热腔的侧壁上设有对进料槽限位的限位凸棱；进料槽与限位凸棱相抵时，炉体、进料槽和堵块围成一封闭空间，且牵引机构可继续牵引堵块向右滑动。

2.根据权利要求1所述的摄像头支架热处理装置，其特征在于：所述真空泵与真空腔通过单向阀连通，且单向阀的入口端与真空腔连通。

3.根据权利要求2所述的摄像头支架热处理装置，其特征在于：所述牵引机构为液压缸，液压缸的活塞杆与堵块的右侧固定连接。

4.根据权利要求2所述的摄像头支架热处理装置，其特征在于：所述牵引机构包括伺服电机、丝杠和与丝杠配合的螺母，丝杠的一端与伺服电机的输出轴通过法兰盘固定连接，螺母固定在堵块的右端。

5.根据权利要求4所述的摄像头支架热处理装置，其特征在于：所述加热器固定在堵块的左侧面。

6.根据权利要求5所述的摄像头支架热处理装置，其特征在于：所述进料槽的左侧侧壁倾斜设置，且进料槽左侧侧壁与进料槽的底部的夹角为120-130°。

说明书

技术领域

本发明涉及摄像头加工技术领域，具体涉及一种摄像头支架热处理装置。

背景技术

目前的摄像头支架一般为钢结构，其内部设有供穿线用的空腔；为了防止支架生锈腐蚀，会在支架的表面喷涂油漆，以防止支架的表面暴露在空气中。由于监控系统的大部分摄像头会安装在室外，因此支架表面的油漆在风沙的作用下，很快会从支架表面脱落。支架暴露在空气中，并长期受到雨水的冲刷，将使支架快速腐蚀，从而导致线缆暴露，最终导致线缆老化。为了提高支架的腐蚀性能，目前对支架通常采用光亮退火处理。光亮退火处理不仅可以使支架获得光亮、耐腐蚀性能好的表面；同时，对支架进行退火处理后，则无需再对支架的表面进行打磨，从而可以降低成本。

目前光亮退火的方法通常有真空退火及保护气氛退火，常采用的方法是真空退火。真空退火通常在真空退火炉内进行。现有的真空炉通常包括炉体、用于封闭炉体的炉门，以及对炉体进行抽真空的真空泵。采用现有的真空炉对支架进行退火时，需先将支架放入到炉体内，然后封闭炉体，并对炉体进行抽真空，然后在对工件进行加热。在对支架进行加热时，若支架紧靠热源，则支架靠近热源部分的温度将迅速升高，而远离热源部分的温度升高缓慢，因此将导致支架受热不均，容易导致支架变形。为了避免支架在真空炉内与热源靠得太近，通常真空炉的容积为支架体积的几倍或十几倍，从而热源通过辐射对支架进行加热，可以使支架的温度均匀升高。

由于所采用的真空炉的容积较大，因此对真空炉进行抽真空的时间较长，将导致工作效率降低。另外，当工件冷却后，炉体内为真空状态，则不便于打开炉门；为了使打开炉门更容易，通常会设置一个泄压阀，先让空气通过泄压阀缓慢进入炉体内，然后再打开炉门，但会等待较长时间。若在炉体内仍为真空状态时打开炉门，则空气将迅速冲入炉体内，且由于炉体内空间较大，因此进入炉体内的空气流量较大，从而空气进入炉体时对炉体内部具有较大的冲击，容易损坏热源。

发明内容

本发明的目的在于提供一种摄像头支架热处理装置，以使真空泵能快速对加热腔内进行抽真空，并避免打开加热腔时，空气冲入加热腔内损坏加热器。

为达到上述目的，本发明的基础方案如下：

摄像头支架热处理装置包括炉体、进料部和牵引部，进料部和牵引部从左至右布置，炉体内设有两端开口的加热腔，加热腔内设有加热器；进料部包括进料槽和真空泵，进料槽设于加热腔内并与炉体滑动连接，进料槽的顶部和右侧开口，进料槽的侧壁内设有真空腔，真空腔的右侧设有第一槽口，所述真空泵与真空腔连接，真空腔内设有与真空泵电连接的压力传感器；所述牵引部包括堵块和用于牵引堵块的牵引机构，所述堵块设于加热腔内，堵块的左侧设有可插入第一槽口并将真空腔密封的凸起，牵引机构设于炉体的右侧，牵引机构与堵块的右端连接并可驱动堵块在加热腔内左右滑动，所述加热腔的侧壁上设有对进料槽限位的限位凸棱；进料槽与限位凸棱相抵时，炉体、进料槽和堵块围成一封闭空间，且牵引机构可继续牵引堵块向右滑动。

本方案摄像头支架热处理装置的原理在于：

真空腔内设有压力传感器，当真空腔内的压力增大时，压力传感器将发出信号，同时真空泵将受到执行信号，从而真空泵启动对真空腔抽中空，直至真空腔内的呈真空状态时，真空泵停止工作。在进料槽未与限位凸棱相抵时，由于真空腔呈真空状态，因此进料槽将被吸附在堵块上，即堵块左侧的凸起插入第一槽口内，使进料槽与堵块呈紧固状态。通过牵引机构推动堵块向左侧移动，直至进料槽顶部的开口从加热腔内滑出，从而可从进料槽顶部的开口向进料槽内投入工件。

工件投放到进料槽后，启动牵引机构，使牵引机构拉动堵块向右运动；由于进料槽与堵块呈紧固状态，因此堵块将带动进料槽一同在加热腔内向右滑动。直至进料槽与限位凸棱相抵，则堵块将不能再拉动进料槽向右移动；因此随着牵引机构继续拉动堵块向右滑动，则进料槽与堵块分离。当堵块左侧的凸起从第一槽口内滑出后，真空腔与加热腔连通，且真空腔和加热腔形成一个封闭空间，而进料槽此时也完全滑入加热腔内。由于进料槽滑入加热腔的过程中，进料槽将向加热腔内带入空气，而此时真空腔和加热腔连通，因此真空腔内的压力增大，真空泵启动，从而使得真空腔和加热腔内均呈真空状态。

真空泵停止工作后，打开加热器对工件加热。对工件完成加热后，待工件冷却到60℃以下，驱动牵引机构，使牵引机构推动堵块向左滑动，当堵块与进料槽接触后，堵块左侧的凸起将插入第一槽口内，从而堵块又将真空腔封堵。堵块继续向左滑动，将同时推动进料槽向左滑动，直至进料槽顶部的开口滑出加热腔，则外部空气将涌入加热腔内；而此时进料槽和堵块仍呈紧固状态，真空腔呈真空状态。

本方案产生的有益效果是：

(一)当牵引机构拉动堵块相应移动时，将同时将进料槽拉入加热腔中，从而可将工件送入加热腔中。

(二)当工件被送入加热腔后，真空泵将自动启动对加热腔进行抽真空处理；且真空泵所需抽出的气体仅为进料槽和堵块结合时进料槽内的空气，因此真空泵的工作时间短，能快速对加热箱进行抽真空处理，真空泵消耗的能量也小。

(三)当进料槽顶部的开口从加热腔内滑出时，外部空气仅进入到进料槽内，由于进料槽容积小，因此气流流量也小，从而可减小气流对加热器的冲击。

优选方案一：作为对基础方案的进一步优化，所述真空泵与真空腔通过单向阀连通，且单向阀的入口端与真空腔连通；从而当真空停止工作时，外部空气不会经过真空泵进入真空腔内，且单向阀控制方便。

优选方案二：作为对优选方案一的进一步优化，所述牵引机构为液压缸，液压缸的活塞杆与堵块的右侧固定连接；液压缸机构简单，安装方便且驱动力大。

优选方案三：作为对优选方案一的进一步优化，所述牵引机构包括伺服电机、丝杠和与丝杠配合的螺母，丝杠的一端与伺服电机的输出轴通过法兰盘固定连接，螺母固定在堵块的右端。采用丝杠螺母驱动堵块，可使驱动力更稳定，减少设备的震动。

优选方案四：作为对优选方案三的进一步优化，所述加热器固定在堵块的左侧面。加热器固定在堵块上，从而加热器将跟随堵块一同移动，而无需在加热腔的侧壁上为加热器设置安装空间。若将加热器设于加热腔的侧壁上，为了避免加热器阻挡堵块滑动，则需要在加热腔的侧壁上设置一凹槽以安装加热腔，而将加热器安装在凹槽中，将不便于加热器的安装和维修。

优选方案五：作为对优选方案四的进一步优化，所述进料槽的左侧侧壁倾斜设置，且进料槽左侧侧壁与进料槽的底部的夹角为120-130°。进料槽的左侧侧壁倾斜设置，从而可使工件通过侧壁滑入进料槽内，避免工件落入进料槽时，工件对进料槽底部产生较大的冲击。

附图说明

图1为本明摄像头支架热处理装置实施例一的结构示意图；

图2为本明摄像头支架热处理装置实施例二的结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本发明作进一步详细的说明：

说明书附图中的附图标记包括：炉体10、加热腔11、限位凸棱12、进料槽20、真空腔21、堵块30、加热器31、凸起32、液压缸40、真空泵50、单向阀51、丝杠41、螺母42。

实施例一：

如图1所示，本实施例的摄像头支架热处理装置包括炉体10、进料部和牵引部，进料部和牵引部从左至右布置，炉体10内设有两端开口的加热腔11。进料部包括进料槽20和真空泵50，进料槽20设于加热腔11内并与炉体10滑动连接。进料槽20的顶部和右侧开口，当向左推动进料槽20，使进料槽20的部分从加热腔11的滑出，则可通过进料槽20顶部的开口向进料槽20内投入工件。进料槽20的侧壁内设有真空腔21，真空腔21的右侧设有第一槽口。真空泵50与真空腔21通过管道连接，且管道的一端连接单向阀51，单向阀51的入口端与真空腔21连通，从而真空泵50启动时，单向阀51打开，则真空泵50可将真空腔21内的空气抽出；真空泵50停止工作时，单向阀51关闭，从而可避免外部空气通过真空泵50和管道进入真空腔21内。真空腔21内设有与真空泵50电连接的压力传感器，并设有PLC控制器对信号进行处理；当真空腔21内呈真空状态时，压力传感器将向PLC控制器反馈信号，同时PLC控制器将是真空泵50断开电源；而当真空腔21内进入空气后，真空腔21内的压力将增大，同时压力传感器向PLC控制器反馈信号，PLC控制器将向真空泵50发出执行信号，使空压机接通电源。进料槽20的左侧侧壁倾斜设置，且进料槽20左侧侧壁与进料槽20的底部的夹角为120°，从而在向进料槽20内投放工件时，工件可顺着左侧侧壁滑入进料槽20内，以避免工件撞击进料槽20底部，使底部凹陷。

牵引部包括堵块30和用于牵引堵块30的牵引机构，本实施例中的牵引机构采用液压缸40。堵块30设于加热腔11内并与炉体10滑动连接，加热腔11的右半部分的前、后两侧壁和底部上设有沿左右方向延伸的限位凸棱12，滑块的前、后两侧和底部设有与限位凸棱12配合的凹槽，堵块30的顶部与加热腔11的顶部相抵，从而当堵块30滑动到加热腔11后半部分时，堵块30可将加热腔11右端的开口完全封堵。另外，当进料槽20在加热腔11内向右滑动时，进料槽20将受到限位凸棱12的阻挡，即当进料槽20与限位凸棱12相抵时，进料槽20将不能在继续向右移动；且进料槽20与限位凸棱12相抵时，进料槽20已完全进入到加热腔11内。堵块30的左侧设有可插入第一槽口并将真空腔21密封的凸起32，当凸起32插入真空腔21内时，加热腔11和真空腔21为两个互不连通的腔体。液压缸40的活塞杆固定在堵块30的右侧面，则驱动液压缸40的活塞杆伸缩可带动堵块30在加热腔11内左右滑动。堵块30的左侧面上固定有加热器31，本实施例中的加热器31采用热辐射加热器31。

本实施例的摄像头支架热处理装置的具体工作过程为：

通过液压缸40推动堵块30向左侧移动，直至进料槽20顶部的开口从加热腔11内滑出，通过进料槽20顶部的开口向进料槽20内投入工件，且工件通过进料槽20左侧的侧壁滑入进料槽20内。工件投放到进料槽20后，启动液压缸40，使其拉动堵块30向右运动。由于真空腔21内呈真空状态，使得进料槽20与堵块30吸附在一起，因此堵块30将带动进料槽20一同在加热腔11内向右滑动。直至进料槽20与限位凸棱12相抵，随着液压缸40继续拉动堵块30向右滑动，进料槽20与堵块30分离。堵块30左侧的凸起32从第一槽口内滑出后，真空腔21与加热腔11连通，且真空腔21和加热腔11形成一个封闭空间。由于进料槽20滑入加热腔11的过程中，进料槽20将向加热腔11内带入空气，而真空腔21和加热腔11连通，使得真空腔21内的压力增大，则真空泵50启动，直至真空腔21和加热腔11内均呈真空状态时，真空泵50停止工作。

真空泵50停止工作后，打开加热器31对工件加热。对工件完成加热后，待工件冷却到60℃以下，使液压缸40推动堵块30向左滑动，堵块30与进料槽20接触后，堵块30左侧的凸起32将插入第一槽口内，使得堵块30又将真空腔21封堵。堵块30继续向左滑动，将同时推动进料槽20向左滑动，直至进料槽20顶部的开口滑出加热腔11，则外部空气将涌入加热腔11内；而此时进料槽20和堵块30仍吸附在一起，真空腔21呈真空状态。

实施例二：

如图2所示，实施例二与实施例一的区别仅在于，实施例二中牵引机构包括伺服电机、丝杠41和与丝杠41配合的螺母42，丝杠41通过法兰盘与伺服电机的输出轴固定连接，而螺母42固定在堵块30的右侧，因此通过伺服电机的正反转，则可驱动堵块30在加热箱内左右滑动。

以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

摄像头支架热处理装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。