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一种淋浴池的防溅排水结构

一种淋浴池的防溅排水结构

IPC分类号 : E03C1/20

申请号
CN201921372384.4
可选规格

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  • 专利类型:
  • 法律状态: 有权
  • 公开号: CN211080442U
  • 公开日: 2020-07-24
  • 主分类号: E03C1/20
  • 专利权人: 张新福

专利摘要

专利摘要

本实用新型提供了一种淋浴池的防溅排水结构,属于卫浴技术领域,包括底座、倾斜板、凹槽、凹槽二、凹槽三、排水孔、玻璃板、橡胶垫、滚轮、滚轮二和顶盖,底座一侧表面固定连接有倾斜板,底座右侧顶部表面嵌套设置有凹槽,底座左侧顶部表面嵌套设置有凹槽二,底座左侧顶部表面嵌套设置有凹槽三,且凹槽三位于凹槽二之间,底座一侧末端开孔设置有排水孔,底座顶部配套设置有顶盖,底座和顶盖之间卡接设置有玻璃板。当水从喷头被喷出后,会顺着玻璃板流下,当水流经过橡胶垫时,会顺着呈三角状且两端呈弧形状的橡胶垫被导流,通过该种设置能够有效的避免在凹槽内流下污渍,且能够有效的避免水质溅入,从而更加便于清理。

权利要求

1.一种淋浴池的防溅排水结构,包括底座(1)、倾斜板(101)、凹槽(102)、凹槽二(103)、凹槽三(104)、排水孔(105)、玻璃板(2)、橡胶垫(201)、滚轮(202)、滚轮二(203)和顶盖(3),其特征在于,所述底座(1)一侧表面固定连接有倾斜板(101),所述底座(1)右侧顶部表面嵌套设置有凹槽(102),所述底座(1)左侧顶部表面嵌套设置有凹槽二(103),所述底座(1)左侧顶部表面嵌套设置有凹槽三(104),且凹槽三(104)位于凹槽二(103)之间,所述底座(1)一侧末端开孔设置有排水孔(105),所述底座(1)顶部配套设置有顶盖(3),所述底座(1)和顶盖(3)之间卡接设置有玻璃板(2),所述玻璃板(2)底部表面套接设置有橡胶垫(201),所述橡胶垫(201)左右两侧固定连接有滚轮(202),所述玻璃板(2)底部转动连接有滚轮二(203),且滚轮二(203)与凹槽(102)呈滑动连接。

2.根据权利要求1所述的淋浴池的防溅排水结构,其特征在于:所述倾斜板(101)角度为50-60°,且倾斜板(101)为不锈钢材料制成。

3.根据权利要求1所述的淋浴池的防溅排水结构,其特征在于:所述凹槽二(103)末端均指向排水孔(105),且凹槽三(104)呈“V”形。

4.根据权利要求1所述的淋浴池的防溅排水结构,其特征在于:所述橡胶垫(201)呈三角状,且橡胶垫(201)顶部左右两端呈弧形状。

5.根据权利要求1所述的淋浴池的防溅排水结构,其特征在于:所述凹槽二(103)呈倾斜设置,且位于排水孔(105)一端的凹槽二(103)水平高度低于另一端。

说明书

技术领域

本实用新型涉及卫浴技术领域,更具体的,涉及一种排水结构技术领域。

背景技术

卫浴按字面意思就是卫生、洗浴,卫浴俗称主要用于洗澡的卫生间,是供居住者便溺、洗浴、盥洗等日常卫生活动的空间及用品,现阶段卫浴又不仅仅是单一卫浴这么简单,随着人们生活节奏的加快,对于各种产品的要求提高,出现了彩色卫浴用品,但是现有的淋浴结构玻璃推拉门的滑轨凹槽内容易溅入水流,从而导致滑轨凹槽内流下积垢,且现有的淋浴池内排水效果差,容易在淋浴池四周流下积水,时间久了之后就会变成积垢,从而导致后期清理复杂。

实用新型内容

本实用新型旨在于解决现有的淋浴结构玻璃推拉门的滑轨凹槽内容易溅入水流,从而导致滑轨凹槽内流下积垢,且现有的淋浴池内排水效果差,容易在淋浴池四周流下积水,时间久了之后就会变成积垢,从而导致后期清理复杂的问题,从而提供一种淋浴池的防溅排水结构。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种淋浴池的防溅排水结构,包括底座、倾斜板、凹槽、凹槽二、凹槽三、排水孔、玻璃板、橡胶垫、滚轮、滚轮二和顶盖,所述底座一侧表面固定连接有倾斜板,所述底座右侧顶部表面嵌套设置有凹槽,所述底座左侧顶部表面嵌套设置有凹槽二,所述底座左侧顶部表面嵌套设置有凹槽三,且凹槽三位于凹槽二之间,所述底座一侧末端开孔设置有排水孔,所述底座顶部配套设置有顶盖,所述底座和顶盖之间卡接设置有玻璃板,所述玻璃板底部表面套接设置有橡胶垫,所述橡胶垫左右两侧固定连接有滚轮,所述玻璃板底部转动连接有滚轮二,且滚轮二与凹槽呈滑动连接。

进一步的优选方案:所述倾斜板角度为50-60°,且倾斜板为不锈钢材料制成。

进一步的优选方案:所述凹槽二末端均指向排水孔,且凹槽三呈“V”形。

进一步的优选方案:所述橡胶垫呈三角状,且橡胶垫顶部左右两端呈弧形状。

进一步的优选方案:所述凹槽二呈倾斜设置,且位于排水孔一端的凹槽二水平高度低于另一端。

本实用新型提供了一种淋浴池的防溅排水结构,具有以下有益效果:

1、该种淋浴池的防溅排水结构设置有倾斜板,倾斜板角度为50-60°,且倾斜板为不锈钢材料制成,通过倾斜板增加底座的角度,从而不易产生积垢,且更加便于清理。

2、该种淋浴池的防溅排水结构设置有橡胶垫,橡胶垫呈三角状,且橡胶垫顶部左右两端呈弧形状,当水从喷头被喷出后,会顺着玻璃板流下,当水流经过橡胶垫时,会顺着呈三角状且两端呈弧形状的橡胶垫被导流,通过该种设置能够有效的避免在凹槽内流下污渍,且能够有效的避免水质溅入,从而更加便于清理。

3、该种淋浴池的防溅排水结构设置有凹槽二,凹槽二呈倾斜设置,且位于排水孔一端的凹槽二水平高度低于另一端,通过该种设置能够更加有效的将水从凹槽二一段导引至底座另一端,从而提高装置的排水性。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2为本实用新型的底座侧面剖面结构示意图。

图3为本实用新型的凹槽二结构示意图。

图1-3中:1-底座,101-倾斜板,102-凹槽,103-凹槽二,104-凹槽三,105-排水孔,2-玻璃板,201-橡胶垫,202-滚轮,203-滚轮二,3-顶盖。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至3,本实用新型实施例中,一种淋浴池的防溅排水结构,包括底座1、倾斜板101、凹槽102、凹槽二103、凹槽三104、排水孔105、玻璃板2、橡胶垫201、滚轮202、滚轮二203和顶盖3,底座1一侧表面固定连接有倾斜板101,底座1右侧顶部表面嵌套设置有凹槽102,底座1左侧顶部表面嵌套设置有凹槽二103,底座1左侧顶部表面嵌套设置有凹槽三104,且凹槽三104位于凹槽二103之间,底座1一侧末端开孔设置有排水孔105,底座1顶部配套设置有顶盖3,底座1和顶盖3之间卡接设置有玻璃板2,玻璃板2底部表面套接设置有橡胶垫201,橡胶垫201左右两侧固定连接有滚轮202,玻璃板2底部转动连接有滚轮二203,且滚轮二203与凹槽102呈滑动连接。

进一步的,倾斜板101角度为50-60°,且倾斜板101为不锈钢材料制成。

进一步的,凹槽二103末端均指向排水孔105,且凹槽三104呈“V”形。

进一步的,橡胶垫201呈三角状,且橡胶垫201顶部左右两端呈弧形状。

进一步的,凹槽二103呈倾斜设置,且位于排水孔105一端的凹槽二103水平高度低于另一端。

进一步的,倾斜板101角度为50-60°,且倾斜板101为不锈钢材料制成,通过倾斜板101增加底座1的角度,从而不易产生积垢,且更加便于清理。

进一步的,橡胶垫201呈三角状,且橡胶垫201顶部左右两端呈弧形状,当水从喷头被喷出后,会顺着玻璃板2流下,当水流经过橡胶垫201时,会顺着呈三角状且两端呈弧形状的橡胶垫201被导流,通过该种设置能够有效的避免在凹槽102内流下污渍,且能够有效的避免水质溅入,从而更加便于清理。

进一步的,凹槽二103呈倾斜设置,且位于排水孔105一端的凹槽二103水平高度低于另一端,通过该种设置能够更加有效的将水从凹槽二103一段导引至底座1另一端,从而提高装置的排水性。

在使用本实用新型一种淋浴池的防溅排水结构时,首先,检查设备是否完整,是否组装到位,使用时使用者站在底座1上,然后将玻璃板2关闭就可以在装置内部淋浴,且在玻璃板2关闭时滚轮202和滚轮二203会和底座1和凹槽102滑动,从而使玻璃板2关闭的过程更加的流畅,倾斜板101的作用是增加底座1的角度,从而不易产生积垢,橡胶垫201的作用是当水流经过橡胶垫201时,会顺着呈三角状且两端呈弧形状的橡胶垫201被导流,通过该种设置能够有效的避免在凹槽102内流下污渍。

以上的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以作出若干变形和改进,这些也应该视为本实用新型的保护范围,这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。

一种淋浴池的防溅排水结构专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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