专利摘要
专利摘要
本实用新型提供了一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,涉及新能源技术领域,包括收片盒、和放置装置,放置装置包括有U形槽、升降板和液压升降机,U形槽内嵌入设置有升降板,升降板的底部表面中央焊接设置有液压升降机,U形槽的左侧表面外部贯穿设置有进气管,U形槽的内侧表面中央嵌入设置有倾斜管,升降板的上表面中央焊接设置有定位块,收片盒包括有倾斜底板、海绵层和贯穿槽。本实用新型通过倾斜管的设置使得气管中的气体通过进气管进入到倾斜管从倾斜管吹出,气体吹出使得硅片从自动上下料机上的轨道上滑落时减轻硅片对收纳盒内部表面的撞击力,且使得硅片与硅片之间不易发生摩擦,从而导致出现划痕。
权利要求
1.一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,包括收片盒(1)、和放置装置,其特征在于:
所述放置装置包括有U形槽(2)、升降板(3)和液压升降机(4),所述U形槽(2)内嵌入设置有升降板(3),所述升降板(3)的底部表面中央焊接设置有液压升降机(4),所述U形槽(2)的左侧表面外部贯穿设置有进气管(9),所述U形槽(2)的内侧表面中央嵌入设置有倾斜管(10),所述升降板(3)的上表面中央焊接设置有定位块(11);
所述收片盒(1)包括有倾斜底板(5)、海绵层(6)和贯穿槽(8),所述收片盒(1)的内侧表面底部固定设置有倾斜底板(5),所述收片盒(1)的内侧表面左端通过固定胶固定设置有海绵层(6),所述海绵层(6)的右侧表面通过固定胶固定设置有硅胶板(7),所述收片盒(1)的中央贯穿设置有贯穿槽(8)。
2.根据权利要求1所述的PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,其特征在于:所述收片盒(1)与放置装置均为右侧开口的凹槽状。
3.根据权利要求1所述的PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,其特征在于:所述倾斜底板(5)为右侧水平高度高左侧水平高度低的倾斜状,且倾斜底板的倾斜角度为10°-15°。
4.根据权利要求1所述的PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,其特征在于:所述进气管(9)与倾斜管(10)相互焊接,所述倾斜管(10)为左侧水平高度高右侧水平高度低的倾斜状,且倾斜角度为30°-45°。
5.根据权利要求1所述的PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,其特征在于:所述倾斜管(10)嵌入于贯穿槽(8)内,且倾斜管(10)的长度小于贯穿槽(8)的宽度。
6.根据权利要求1所述的PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,其特征在于:所述收片盒(1)的底部表面中央嵌入设置有嵌入槽,且定位块(11)可嵌入于嵌入槽内。
说明书
技术领域
本实用新型涉及新能源技术领域,更具体的,涉及一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置。
背景技术
在现有的硅片减反射膜制备工序中,需将承载盒中的未经PECVD 处理过的硅片装入石墨舟中、将石墨舟中的经PECVD处理过的硅片装入承载盒,现有的自动上下料装置上的收片盒在收片的过程中通常由于硅片之间的相互摩擦导致硅片表面刮花,导致硅片外观不良,且影响效率,且在收集完成后现有的收纳盒放于桌面上时,由于硅片表面光滑,使得硅片之间相互的摩擦力小,使得硅片容易从收纳盒中滑出,导致硅片破损,因此设计一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置非常的必要。
实用新型内容
本实用新型旨在于解决背景技术中提出的问题,从而提供一种 PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,包括收片盒、和放置装置,所述放置装置包括有U形槽、升降板和液压升降机,所述U形槽内嵌入设置有升降板,所述升降板的底部表面中央焊接设置有液压升降机,所述U形槽的左侧表面外部贯穿设置有进气管,所述U形槽的内侧表面中央嵌入设置有倾斜管,所述升降板的上表面中央焊接设置有定位块,所述收片盒包括有倾斜底板、海绵层和贯穿槽,所述收片盒的内侧表面底部固定设置有倾斜底板,所述收片盒的内侧表面左端通过固定胶固定设置有海绵层,所述海绵层的右侧表面通过固定胶固定设置有硅胶板,所述收片盒的中央贯穿设置有贯穿槽。
优选的,所述收片盒与放置装置均为右侧开口的凹槽状。
优选的,所述倾斜底板为右侧水平高度高左侧水平高度低的倾斜状,且倾斜底板的倾斜角度为10°-15°。
优选的,所述进气管与倾斜管相互焊接,所述倾斜管为左侧水平高度高右侧水平高度低的倾斜状,且倾斜角度为30°-45°。
优选的,所述倾斜管嵌入于贯穿槽内,且倾斜管的长度小于贯穿槽的宽度。
优选的,所述收片盒的底部表面中央嵌入设置有嵌入槽,且定位块可嵌入于嵌入槽内。
有益效果:
1、该种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置设置有倾斜管通过倾斜管的设置使得气管中的气体通过进气管进入到倾斜管从倾斜管吹出,气体吹出使得硅片从自动上下料机上的轨道上滑落时减轻硅片对收纳盒内部表面的撞击力,且使得硅片与硅片之间不易发生摩擦,从而导致出现划痕。
2、该种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置设置有纱布,该装置通过设置有海绵层与硅胶板,通过在收片盒内设置有海绵层和硅胶板,使得太阳能硅片滑落到硅片盒中时硅片与收纳盒内右侧表面的撞击力减少,降机硅片破损隐裂的概率。
3、该种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置设置有倾斜底板,通过在收纳盒内侧表面底部设置有倾斜底板,使得在操作移动装有硅片的收纳盒或者将装有硅片的收纳盒放于桌面上时,硅片左侧水平高度低右侧水平高度高,从而使得硅片不易从收纳盒的右侧开口处滑出,导致硅片损坏。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
图2为本实用新型的收纳盒整体结构示意图。
图3为本实用新型的放置装置结构示意图。
图4为本实用新型的升降板结构示意图。
图1-4中:1-收片盒,2-U形槽,3-升降板,4-液压升降机、5- 倾斜底板,6-海绵层,7-硅胶板,8-贯穿槽,9-进气管,10-倾斜管, 11-定位块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1至4,本实用新型实施例中,一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置,包括收片盒1、和放置装置;
放置装置包括有U形槽2、升降板3和液压升降机4,U形槽2 内嵌入设置有升降板3,升降板3的底部表面中央焊接设置有液压升降机4,U形槽2的左侧表面外部贯穿设置有进气管9,U形槽2的内侧表面中央嵌入设置有倾斜管10,升降板3的上表面中央焊接设置有定位块11;
收片盒1包括有倾斜底板5、海绵层6和贯穿槽8,收片盒1的内侧表面底部固定设置有倾斜底板5,收片盒1的内侧表面左端通过固定胶固定设置有海绵层6,海绵层6的右侧表面通过固定胶固定设置有硅胶板7,收片盒1的中央贯穿设置有贯穿槽8。
本实施例中,收片盒1与放置装置均为右侧开口的凹槽状,使得收片盒1方便嵌入于放置装置内。
本实施例中,倾斜底板5为右侧水平高度高左侧水平高度低的倾斜状,且倾斜底板的倾斜角度为10°-15°,使得硅片处于收片盒1 内呈右侧水平高度高左侧水平高度低的倾斜状,使得更好的收纳硅片,使得硅片不易掉落。
本实施例中,进气管9与倾斜管10相互焊接,倾斜管10为左侧水平高度高右侧水平高度低的倾斜状,且倾斜角度为30°-45°,使得倾斜管10吹出的气吹向收片盒1的底部表面中央,能有效的降低硅片掉落收片盒1的下降速度,使得硅片更不易刮花。
本实施例中,倾斜管10嵌入于贯穿槽8内,且倾斜管10的长度小于贯穿槽8的宽度使得倾斜管10不会挡住硅片装入收片盒1内。
本实施例中,收片盒1的底部表面中央嵌入设置有嵌入槽,且定位块11可嵌入于嵌入槽内。
本实施例中,进气管9与硅片自动上下料机的喷气口通过胶管连接,使得通过胶管对进气管9进程吹气,且通过倾斜管10排出。
本实施例中,液压升降机4通过硅片自动上下料机上显示的硅片数量来控制升降的高度,使得收纳盒1中硅片数量不同使得升降板3 的高度不同,使得更加方便收纳硅片。
在使用本实用新型一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置时,将收片盒1放于放置装置上,通过定位块11嵌入收纳盒 1内使得收片盒1固定于放置装置内,倾斜管10嵌入于贯穿槽8内使得倾斜管10吹出的风对准收片盒1的内侧表面中央,硅片从轨道掉落到收片盒1内时在风的作用下,使得硅片往下掉落的速度不会太快导致硅片损块,掉落于收纳盒1内的硅片撞击到硅胶板7上,通过硅胶板7盒海绵层6的缓冲,使得硅胶板7于海绵层6对硅片进行缓冲,放置硅片破碎和隐裂,掉落于收片盒1内的硅片呈右侧水平高度高左侧水平高度低的倾斜状,使得硅片不会从收片盒1内掉落,且在移动收片盒1和将收片盒1放置桌面上时硅片呈右侧水平高度高左侧水平高度低的倾斜状,使得硅片不易掉落,导致硅片损坏报废。
以上的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以作出若干变形和改进,这些也应该视为本实用新型的保护范围,这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。
一种PECVD硅片自动上下料机用收片盒及放置装置专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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