专利摘要

本发明属于难熔金属表面激光熔覆技术领域，具体涉及一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2涂层的方法。首先在钼合金表面溅射20～30μm厚度的Si薄层，然后再预置硅化物合金粉末，通过激光扫描将钼合金、溅射Si薄层、预置硅化物合金粉末结合起来，可得到力学性能优异、且与钼合金结合良好的MoSi2涂层。本发明制备的钼合金表面MoSi2涂层由于采用磁控溅射Si薄层，随后通过激光熔覆工艺可以形成Mo‑Si元素过渡层，能够改善钼合金和MoSi2涂层之间的结合强度。另一方面，采用激光熔覆工艺在溅射Si薄层的钼合金表面制备硅化物涂层，涂层组织均匀致密、结合良好，且由于多元合金化作用，可以提高涂层的服役性能。

专利附图

一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2涂层的方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。