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一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机

一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机

IPC分类号 : H01L21/67,B01D46/12,B01D53/00,B01D53/86

申请号
CN202122041017.X
可选规格

    看了又看

  • 专利类型:
  • 法律状态: 有权
  • 公开号: CN216084807U
  • 公开日: 2022-03-18
  • 主分类号: H01L21/67
  • 专利权人: 赵崇虎

专利摘要

专利摘要

本实用新型公开了一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机,包括箱体,所述箱体内腔的底部固定连接有承载板,所述承载板的顶部活动连接有芯片本体,所述芯片本体的顶部活动连接有掩模,所述箱体内腔的两侧均开设有凹槽,所述凹槽内腔的顶部固定连接有电动推杆。本实用新型通过箱体、承载板、芯片本体、掩模、凹槽、电动推杆、移动块、连接板、压板、输液板、进液管、通液盒、连接管、吸气板、吸气管、净化箱、第一过滤板、光催化剂板、紫外线灯、第二过滤板、风机、排气管和集液盒的配合,使芯片刻蚀机可以通过气体净化机构对工作腔内部的空气进行循环净化,以此实现了芯片刻蚀机具备空气循环净化功能的优点。

权利要求

1.一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)内腔的底部固定连接有承载板(2),所述承载板(2)的顶部活动连接有芯片本体(3),所述芯片本体(3)的顶部活动连接有掩模(4),所述箱体(1)内腔的两侧均开设有凹槽(5),所述凹槽(5)内腔的顶部固定连接有电动推杆(6),所述电动推杆(6)的底部固定连接有移动块(7),所述移动块(7)相对的一侧均固定连接有连接板(8),所述连接板(8)的底部固定连接有压板(9),所述箱体(1)内腔的顶部通过连接柱固定连接有输液板(10),所述输液板(10)顶部的两侧均连通有进液管(11),所述进液管(11)远离输液板(10)的一端连通有通液盒(12),所述通液盒(12)的右侧连通有连接管(13),所述箱体(1)内腔左侧的顶部固定连接有吸气板(14),所述吸气板(14)的左侧连通有吸气管(15),所述箱体(1)顶部的左侧固定连接有净化箱(16),所述净化箱(16)内腔的左侧固定连接有第一过滤板(17),所述净化箱(16)内腔的中心处固定连接有光催化剂板(18),所述净化箱(16)内腔顶部的右侧固定连接有紫外线灯(19),所述净化箱(16)内腔的右侧固定连接有第二过滤板(20),所述箱体(1)的顶部固定连接有风机(21),所述风机(21)的左侧通过通风管与净化箱(16)的右侧连通,所述风机(21)的右侧连通有排气管(22),所述排气管(22)远离风机(21)的一端贯穿至箱体(1)的内腔并连通有排气板,所述箱体(1)的底部固定连接有集液盒(23),所述集液盒(23)的顶部与箱体(1)的底部连通。

2.根据权利要求1所述的一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机,其特征在于:所述箱体(1)底部的四角均固定连接有支撑柱(24),所述支撑柱(24)的底部固定连接有支撑板。

3.根据权利要求1所述的一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机,其特征在于:所述箱体(1)底部的左侧固定连接有接线盒(25),所述箱体(1)正面左侧的顶部固定连接有操作按钮(26)。

4.根据权利要求1所述的一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机,其特征在于:所述箱体(1)的正面设置有防护门(27),所述防护门(27)正面的右侧固定连接有把手(28)。

5.根据权利要求4所述的一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机,其特征在于:所述防护门(27)的正面设置有观察窗(29),所述观察窗(29)的内壁固定连接有透明玻璃。

6.根据权利要求1所述的一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机,其特征在于:所述承载板(2)底部的两侧均固定连接有导流板(30),所述导流板(30)的底部与箱体(1)内腔的底部固定连接。

一种芯片生产用具备内部空气循环净化功能的刻蚀机专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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