专利摘要

专利摘要

本实用新型公开了一种油画写生存储画箱，属于油画写生用的存储油画的装置，其包括油画画箱，所述的油画画箱内中空且一体成型设置有分隔板，分隔板将所述的油画画箱内的中空结构分割成油画空腔和配件空腔；所述的油画空腔内的侧壁上固定安装有隔挡板，隔挡板之间形成插槽，油画存储在所述的插槽内固定，该存储画箱实现了油画在油画空腔内固定，且油画之间互不干涉，提高了油画的品质，方便使用。

权利要求

1.一种油画写生存储画箱，包括油画画箱(10)，所述的油画画箱(10)内中空且一体成型设置有分隔板，分隔板将所述的油画画箱(10)内的中空结构分割成油画空腔(12)和配件空腔(13)；

其特征在于：

所述的油画空腔(12)内的侧壁上固定安装有隔挡板(20)，隔挡板(20)之间形成插槽(21)，油画存储在所述的插槽(21)内固定。

2.根据权利要求1所述的油画写生存储画箱，其特征在于：所述的隔挡板(20)上设置有滚动轮(201)，滚动轮(201)位于所述的插槽(21)内，且滚动轮(201)沿着隔挡板(20)高度的方向在隔挡板(20)上滚动。

3.根据权利要求1或2所述的油画写生存储画箱，其特征在于：所述的油画空腔(12)内滑动安装有承托底板(30)，承托底板(30)两侧开设有装配凹槽(31)装配凹槽套设在隔挡板(20)上，且装配凹槽(31)与所述的隔挡板(20)滑动连接。

4.根据权利要求3所述的油画写生存储画箱，其特征在于：与承托底板(30)相配合使用的还包括伸缩构件(40)与铰接在油画画箱(10)顶部的扣合盖(11)，伸缩构件(40)带动承托底板(30)向上顶起，从而扣合盖(11)与承托底板(30)对油画空腔(12)内的油画抵压从而实现了油画在油画空腔(12)内的固定。

5.根据权利要求4所述的油画写生存储画箱，其特征在于：所述的伸缩构件(40)包括固定柱(41)和滑动杆(42)；所述的固定柱(41)固定安装在油画空腔(12)底部，且固定柱(41)为顶部开口的中空结构，固定柱(41)内滑动安装有滑动杆(42)，滑动杆(42)顶部延伸到固定柱(41)顶部外侧且滑动杆(42)顶部与所述的承托底板(30)连接；所述的滑动杆(42)上设置有伸缩弹簧，伸缩弹簧两端分别与所述的承托底板(30)和固定柱(41)连接。

说明书

技术领域

本实用新型属于油画写生用的存储油画的装置，具体地说，涉及一种油画写生存储画箱。

背景技术

油画画箱是一种对油画进行存储的箱体式结构，其主要适用于野外写生过程中，对已经完成的油画进行存储，方便人员搬运和转移，给人们的野外写生提供了较大的便利，且现有的油画画箱还能存储作画者使用的工具和颜料等配件；

现有技术中，油画画箱主要是由画箱箱体构成，箱体内设置有存储油画的空腔，已经完成的油画放置在存储油画的空腔内，以达到存储油画的目的，但是，现有技术中，油画画箱在使用中还存在如下缺陷：

由于油画存储在空腔内，油画之间彼此接触，容易导致颜料污染其他的油画，降低了油画的质量，从而给人们的使用造成一定的不便。

实用新型内容

1、要解决的问题

针对现有的油画画箱内存储油画时油画彼此接触的问题，本实用新型提供一种油画写生存储画箱，该存储画箱内设置有油画空腔以及配件空腔，油画空腔内壁上设置有隔挡板，隔挡板之间形成插槽，已完成的油画将油画的边框插入到所述的插槽内，以达到固定油画的目的，存储的油画之间彼此互不干涉，有效地提高了油画的画质。

2、技术方案

为解决上述问题，本实用新型采用如下的技术方案。

一种油画写生存储画箱，包括油画画箱，所述的油画画箱内中空且一体成型设置有分隔板，分隔板将所述的油画画箱内的中空结构分割成油画空腔和配件空腔；

所述的油画空腔内的侧壁上固定安装有隔挡板，隔挡板之间形成插槽，油画存储在所述的插槽内固定。

优选地，所述的隔挡板上设置有滚动轮，滚动轮位于所述的插槽内，且滚动轮沿着隔挡板高度的方向在隔挡板上滚动。

优选地，所述的油画空腔内滑动安装有承托底板，承托底板两侧开设有装配凹槽装配凹槽套设在隔挡板上，且装配凹槽与所述的隔挡板滑动连接。

优选地，与承托底板相配合使用的还包括伸缩构件与铰接在油画画箱顶部的扣合盖，伸缩构件带动承托底板向上顶起，从而扣合盖与承托底板对油画空腔内的油画抵压从而实现了油画在油画空腔内的固定。

优选地，所述的伸缩构件包括固定柱和滑动杆；所述的固定柱固定安装在油画空腔底部，且固定柱为顶部开口的中空结构，固定柱内滑动安装有滑动杆，滑动杆顶部延伸到固定柱顶部外侧且滑动杆顶部与所述的承托底板连接；所述的滑动杆上设置有伸缩弹簧，伸缩弹簧两端分别与所述的承托底板和固定柱连接。

3、有益效果

相比于现有技术，本实用新型的有益效果为：

(1)本实用新型内的油画存储画箱包括油画空腔与配件空腔，油画放置在油画空腔内，作画使用的颜料以及画笔等工具放置在配件空腔内，油画与配件互不干涉，避免了颜料对油画造成污染的情况发生；

(2)本实用新型中的油画存储画箱内的油画空腔内设置有隔挡板，隔挡板之间形成用于存储油画的插槽，油画插入到所述的插槽内实现了在油画空腔内固定，从而避免了油画之间相互干涉的问题发生，提高了油画的画质；

(3)本实用新型中的隔挡板上设置有滚动轮，滚动轮沿着隔挡板高度方向在隔挡板上滚动，从而避免了油画固定框与隔挡板之间相互抽插导致固定框上出现划痕的问题发生，进一步提高了油画的品质；

(4)本实用新型中的油画存储箱内还包括承托底板，承托底板底部装配有伸缩构件，伸缩构件带动承托底板向上移动，承托底板与扣合盖相配合对油画进行抵压，实现了油画在油画空腔内固定，大大提高了油画在油画空腔内的稳定性。

附图说明

图1为实施例1中油画画箱的结构示意图；

图2为实施例1中油画画箱的俯视图；

图3为图2中A处的结构放大图；

图4为实施例2中承托底板的结构示意图；

图5为实施例2中承托底板的侧视图。

图中各附图标注与部件名称之间的对应关系如下：

10、油画画箱；11、扣合盖；12、油画空腔；13、配件空腔；

20、隔挡板；21、插槽；201、滚动轮；

30、承托底板；31、装配凹槽；

40、伸缩构件；41、固定柱；42、滑动杆。

具体实施方式

下面结合具体实用新型对本实用新型进一步进行描述。

实施例1

如图1～2所示，其为本实用新型一优选实施方式的一种油画写生存储画箱的结构示意图，包括油画画箱10，所述的油画画箱10内中空且一体成型设置有分隔板，分隔板将所述的油画画箱10内的中空结构分割成油画空腔12和配件空腔13；

本实施例中，所述的油画画箱10顶部铰接有扣合盖11，通过扣合盖11的配合使用可以将已经完成的油画存在在油画空腔12内，用于作画的画笔以及颜料等配件存储在配件空腔13内，从而方便人们使用；

本实施例中，所述的油画空腔12内的侧壁上固定安装有隔挡板20，隔挡板20之间形成插槽21，油画完成以后，油画固定在固定框上，将固定框插入到所述的插槽21内，从而达到固定油画的目的；

如图3所示，本实施例中，为了解决固定框与隔挡板20之间抽擦导致出现刮痕的现象，本实施例中，在所述的隔挡板20上设置有滚动轮201，滚动轮201沿着隔挡板20高度的方向在隔挡板20上滚动；

本实施例中，油画插到所述的插槽21内，固定框插入到所述的插槽21内，滚动轮201转动，避免了固定框与所述的隔挡板20之间滑动摩擦导致固定框出现刮痕的问题发生，大大提高了油画的画质。

实施例2

如图1～5所示，其为本实用新型另一优选实施方式的一种油画写生存储画箱的结构示意图，在实施例1的基础上，所述的油画空腔12内滑动安装有承托底板30，承托底板30两侧开设有装配凹槽31装配凹槽套设在隔挡板20上，且装配凹槽31与所述的隔挡板20滑动连接；

本实施例中，所述的承托底板30通过伸缩构件40安装在油画空腔12内底部；伸缩构件40将承托底板30顶起，油画通过扣合盖11与承托底板30相配合抵压固定在油画空腔12内，大大提高了油画位于油画空腔12内的稳定性；

本实施例中，所述的伸缩构件40包括固定柱41和滑动杆42；所述的固定柱41固定安装在油画空腔12底部，且固定柱41为顶部开口的中空结构，固定柱41内滑动安装有滑动杆42，滑动杆42顶部延伸到固定柱41顶部外侧且滑动杆42顶部与所述的承托底板30连接，

本实施例中，所述的滑动杆42上设置有伸缩弹簧，伸缩弹簧两端分别与所述的承托底板30和固定柱41连接；

本实施例中，油画插入到所述的插槽21内以后，伸缩弹簧作用带动滑动杆42向上移动，从而带动承托底板30向上移动，进而承托底板30与扣合盖11相配合作用将油画固定在油画空腔12内，从而大大提高了油画的稳定性。

以上内容是结合具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明，不能认定本实用新型具体实施只局限于这些说明，对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型的构思的前提下，还可以做出若干简单的推演或替换，都应当视为属于本实用新型所提交的权利要求书确定的保护范围。

一种油画写生存储画箱专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。