专利摘要
专利摘要
本发明公开了一种真空光阱起支方法及装置与应用。利用脉冲激光使微粒脱离基板;目标微粒进入离子阱中先被捕获,并在离子阱中不断减速至光阱可捕获的速度并且位移至光阱的有效捕获范围内时,打开光阱,使目标微粒同时被光阱和离子阱捕获,之后关闭并挪走离子阱,或利用离子阱进一步冷却目标微粒的质心运动。光阱起支装置,包括基板、脉冲激光器、离子阱、光阱、控制装置,基板表面放置目标微粒,脉冲激光器位于基板的下方,离子阱位于基板的上方,离子阱与光阱的稳定捕获点重合,控制装置通过时序控制脉冲激光器、离子阱和光阱的开启时间。本发明解决了常压起支带来的问题,也可将光阱技术拓展应用到外太空等真空环境。
权利要求
1.一种真空光阱起支方法,其特征在于,在真空或者非真空环境下,利用脉冲激光使微粒脱离基板;目标微粒进入离子阱中先被捕获,并在离子阱中不断减速至光阱可捕获的速度并且位移至光阱的有效捕获范围内时,打开光阱,使目标微粒同时被光阱和离子阱捕获,之后关闭并挪走离子阱,或利用离子阱进一步冷却目标微粒的质心运动。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的离子阱与光阱的稳定捕获点重合。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的离子阱的位置可移动。
4.一种采用根据权利要求1所述的方法的光阱起支装置,其特征在于,包括基板、脉冲激光器、离子阱、光阱、控制装置,基板表面放置一个或多个目标微粒,脉冲激光器位于基板的下方,离子阱位于基板的上方,离子阱与光阱的稳定捕获点重合,控制装置通过时序控制脉冲激光器、离子阱和光阱的开启时间。
5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述的离子阱安装在电机装置上,控制装置控制离子阱的移动。
6.一种根据权利要求4所述的装置的应用方法,其特征在于,
目标微粒选用直径为150nm的二氧化硅微球,真空度范围为10
1)控制装置通过精密步进电机控制离子阱的位置,使其稳定捕获中心与光阱的稳定捕获中心重合;
2)在t=0时刻,打开脉冲激光器,出射脉冲宽度为τ的脉冲光,目标微粒在脉冲光的作用下脱离基板;
3)目标微粒经过时间t1后进入到离子阱的有效捕获区域,打开离子阱,捕获目标微粒并减速其运动;
4)目标微粒再经过时间t2后进入光阱的有效捕获区域,打开光阱关闭离子阱,光阱捕获微粒;
5)通过精密步进电机挪走离子阱装置,或者利用离子阱进一步冷却微粒的质心运动。
一种真空光阱起支方法及装置与应用专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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