专利摘要
专利摘要
本发明涉及一种八通道Kirkpatrick‑Baez显微镜的精密装配方法，每两块反向对称排列的反射镜构成一个镜对，各镜对分别设计成具有特定的镜面间距和镜面夹角，使得各通道最佳视场的位置重合并且像点间隔符合分幅相机微带的间隔，通过X射线成像实验确保最佳视场位置重合并且控制各像点位于分幅相机微带范围以内，最后将调节完毕的三对反射镜胶合固化为一套八通道KB物镜。与现有技术相比，本发明方法避免了现有多通道KB物镜装配过程中对光学元件的苛刻要求，同时避免了现有间接装配方式存在的误差引入问题，因此最终的装配精度高。
权利要求
1.一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法，其特征在于，包括以下步骤：
每两块反向对称排列的反射镜构成一个镜对，各对反射镜设计成具有特定的镜面间距和镜面夹角，使得各通道最佳视场的位置重合并且像点间隔符合分幅相机微带的间隔；
子午方向上的两对反射镜和弧矢方向上的一对反射镜沿光轴方向依次正交排列，通过X射线成像实验调节各对反射镜的物距和像距，使各通道像面在最佳视场位置时重合在同一物点，并控制各像点位于分幅相机微带范围以内；
最后将调节完毕的三对反射镜胶合固化为一套八通道KB物镜；
具体包括粗装配和精装配两个部分，
粗装配是将两块球面反射镜对向顶靠在一个高精度玻璃锥芯上构成一个镜对，玻璃锥芯实质上是一块具有特定厚度和锥角的棱镜；
精装配包括对各通道最佳视场一致性进行调节，以及对各通道像点间隔进行调节；
粗装配的方法及步骤如下：
1)在八通道KB显微镜的初始结构设计中，将工作反射面和光轴之间引入距离y和夹角α，其中y是指工作反射面前端点与光轴的距离，α是指工作反射面中心切线与光轴的夹角，通过距离y保证各通道符合成像公式的最佳物方视场位于同一物点位置，通过夹角α控制像面上各通道的间隔与分幅相机实际的微带间隔相符，距离y和夹角α与曲率半径R、掠入射角θ、放大倍率M、反射镜镜长d和分幅相机微带间隔2L初始结构参数之间具有如下数学关系：
u＝Rsinθ(1+1/M)/2 (1)
L＝u·[M·sin(α-θ)-sin(α+θ)] (2)
2)每一成像通道的初始结构参数，根据ICF物理实验的需求提前确定，其最佳视场位置满足成像公式(1)；实验所用的分幅相机的微带间隔2L是一定的，从而根据公式(2)计算得到夹角α的具体数值；再进一步根据公式(3)确定镜面前端点与光轴的距离y，2y和2α即是待加工的玻璃锥芯的厚度和夹角；三对反射镜在装配为一套八通道KB显微镜整体时，各对反射镜还需要具有相同的共轭关系，即物像距之和相同：
u
其中，M
3)将各对反射镜分别顶靠在加工完成的高精度玻璃锥芯上，从而构成三个镜对；
精装配对各通道最佳视场一致性的调节方法及步骤如下：
4)以X射线光管为背光源，其上有标记点的方孔载网为物，X射线CCD置于像面作为记录设备，将三对反射镜分别悬挂于六维调节台，沿光轴按照“子午-弧矢-子午”依次正交排列，六维调节台包括三维方向平移及三维角度调节功能，从而实现各镜对空间姿态的调整，各对反射镜与方孔载网的初始距离按照名义物距；
5)首先完成子午方向的第一对反射镜和弧矢方向上一对反射镜的调节，物方的方孔载网的X射线依次经过子午和弧矢方向的反射镜后，在像面的X射线CCD记录下方孔载网的四幅KB成像，根据四幅图像在子午方向和弧矢方向上方孔载网不同位置的清晰程度变化，分别判断两对反射镜物距的调节方向，调节反射镜物距直至标记点位置所成的四幅图像均达到所需的空间分辨率水平；
6)随后将子午方向上第二对反射镜平移入光路，物方的方孔载网的X射线先后经过弧矢和子午方向的反射镜后，在像面的X射线CCD记录下方孔载网新成的四幅KB成像，根据四幅新成图像在子午方向上不同位置的清晰程度变化，判断子午方向上第二对反射镜物距的调节方向，直至标记点位置所成的四幅图像均达到预期的空间分辨率水平；
精装配对各通道像点间隔的调节方法及步骤如下：
7)沿光轴方向移动X射线CCD，观察各通道像点间隔的变化情况，直至八个通道的像点间隔均能够落入分幅相机微带12mm宽度范围以内；
8)上述粗装配和精装配步骤完成后，在三对反射镜下方放置一块机械件，并用环氧树脂将三对反射镜与该机械件固化为一个物镜整体，此时八通道KB物镜的装配最终完成。
2.根据权利要求1所述的一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法，其特征在于，以X射线光管为背光源，其上有标记点的方孔载网为物，X射线CCD置于像面作为记录设备，将三对反射镜分别悬挂于六维调节台，沿光轴按照“子午-弧矢-子午”依次正交排列，六维调节台包括三维方向平移及三维角度调节功能，从而实现各镜对空间姿态的调整；
各对反射镜与方孔载网的初始距离按照名义物距，然后通过成像情况调节各对反射镜的物距和像距。
3.根据权利要求1所述的一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法，其特征在于，反射镜的曲率半径由光学表面轮廓仪实测给出，以降低反射镜曲率半径的误差。
4.根据权利要求1所述的一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法，其特征在于，在反射镜加工时，预先在反射镜的工作反射面下方各通道X射线的通过路径位置钻孔，以作为X射线的传播通道。
5.根据权利要求1所述的一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法，其特征在于，确定光学初始结构参数时，每对反射镜之间在沿光轴方向留出一定的间隙，以避免各对反射镜在调节过程中相互阻挡；
此外，在反射镜抛光加工时，预先在反射镜的工作反射面下方钻孔，以作为X射线的传播通道。
说明书
技术领域
本发明涉及一种X射线光学系统的装配方法，尤其是涉及一种八通道Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的精密装配方法。
背景技术
时间分幅的X射线成像是高能量密度物理(HEDP)和惯性约束聚变(ICF)研究中一种重要的诊断手段，其通过多通道的X射线成像光学系统，配合时间分辨的分幅相机，可以给出等离子体在二维方向上不同时刻的演化行为，每个成像通道分别对应某一时刻等离子体的瞬态信息。发展多通道、高分辨的X射线光学系统，对获取等离子体在空间和时间上更细致的演化过程具有重要意义。KB显微镜是在惯性约束聚变(ICF)研究中进行2-5μm高空间分辨成像诊断的关键设备。目前实际投入使用的KB显微镜由两两相对正交排列的四块球面镜构成，四块反射镜之间在子午和弧矢方向上相互利用，仅能形成4个成像通道，已逐步不能满足ICF诊断物理的研究需求。为此，各国都在发展具有更多通道数的多通道KB显微成像系统，典型的有法国LMJ装置的八通道KB系统和美国OMEGA装置的十六通道KB系统。
多通道KB显微镜的研制难点主要在于对多通道KB物镜的高精度装配上。这一问题可以从物像两方面说明。在物方视场，KB显微镜是一种小视场、长工作距离的掠入射反射式光学系统，其空间分辨率随视场变化明显，能够实现2-5μm高空间分辨的最佳视场范围仅在几百微米量级，与待成像的ICF物理目标尺度相当，因此KB显微镜对最佳视场的定位瞄准非常困难，多通道KB显微镜更是需要将所有通道的最佳视场定位到百微米级的同一物点位置。其次，分幅相机由若干条间距一定的微带构成，高压电脉冲信号沿微带传播，此时微带被选通，KB成像才被微带后端的CCD相机记录。这一成像原理要求多通道KB系统的像点必须按照一定距离排布于不同微带上。
美国OMEGA装置的十六通道KB系统和法国LMJ装置的八通道KB系统的装配均通过特定尺寸和角度的装配基准面实现。以美国OMEGA装置十六通道KB物镜装配为例(见图1)，其通过光学冷加工工艺把单块KB反射镜侧面或背面与工作反射面之间加工出特定的尺寸或水平垂直等特定角度关系。多块KB反射镜按一定构型直接拼接装配，以反射镜侧面或背面作为装配基准面，通过光胶方法与尺寸精度很高的玻璃镜座固化在一起。这种方法，将各反射镜工作反射面之间的位置关系，借助反射镜侧面或背面与玻璃镜座的装配来实现。上述方法存在如下问题：1.对KB反射镜的光学冷加工精度要求高，不仅需要工作反射面具有很高的面形精度和表面粗糙度以保证空间分辨率和反射效率，还必须保证作为装配基准面的反射镜侧面或背面与工作反射面的相对距离和角度精度。2.目前光学冷加工精度可以达到约10角秒的水平，虽然对应的物方和像方视场偏离可以达到十微米级和百微米级。但是在将多块KB反射镜按照一定构型拼接装配的过程中，多块反射镜在相互顶靠和接触时新引入的误差要远高于单个KB反射镜的加工误差，因此实际的KB显微镜的装配精度远无法达到名义精度。此外，装配完毕后的KB显微镜作为一个物镜整体不再具有可调量，无法将装配过程引入的误差予以修正和校准。3.实际加工完成的KB反射镜的曲率半径与设计值存在偏差，这一偏差导致KB显微镜的实际最佳视场位置与名义位置产生偏离，无法在上述的物镜装配过程中予以修正。
发明内容
本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种八通道Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的精密装配方法，尤其是一种实现八通道KB显微镜最佳物点位置重合及像点间隔准确控制的物镜装配方法。
本发明的目的可以通过以下技术方案来实现：
一种八通道Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的精密装配方法，能够实现八通道KB显微镜最佳物点位置重合及像点间隔准确控制，其方法可以分为粗装配和精装配两个部分。
首先进行的粗装配是将两块球面反射镜对向顶靠在一个高精度玻璃锥芯上构成一个镜对，玻璃锥芯实质上是一块具有特定厚度和锥角的棱镜，采用常规的光学冷加工工艺制备出的棱镜即可达到10角秒及20微米水平的精度水平。虽然在顶靠过程中不可避免的存在误差，但仍可借助此方法粗略保证两个工作反射面的相对距离及角度关系。粗装配的方法及步骤如下：
1.图2是每对反射镜在子午面内的光学关系，在八通道KB显微镜的初始结构设计中，将工作反射面和光轴之间引入距离y和夹角α，其中y是指工作反射面前端点与光轴的距离，α是指工作反射面中心切线与光轴的夹角。通过距离y保证各通道符合成像公式的最佳物方视场位于同一物点位置，通过夹角α控制像面上各通道的间隔与分幅相机实际的微带间隔相符。距离y和夹角α与曲率半径R、掠入射角θ、放大倍率M、反射镜镜长d和分幅相机微带间隔2L等初始结构参数之间具有如下数学关系：
u＝R sinθ(1+1/M)/2(1)
L＝u·[M·sin(α-θ)-sin(α+θ)](2)
2.每一成像通道的初始结构参数，如曲率半径R、掠入射角θ、放大倍率M、和反射镜镜长d等根据ICF物理实验的需求提前确定，其最佳视场位置满足成像公式(1)；实验所用的分幅相机的微带间隔2L是一定的，从而根据公式(2)计算得到夹角α的具体数值；再进一步根据公式(3)确定镜面前端点与光轴的距离y。2y和2α即是待加工的玻璃锥芯的厚度和夹角。三对反射镜在装配为一套八通道KB显微镜整体时，各对反射镜还需要具有相同的共轭关系，即物像距之和相同：
u1(1+M1)＝u2(1+M2)＝u3(1+M3)(4)
其中，M1、M2、M3分别表示不同反射镜的放大倍率。
八通道KB显微镜的各对反射镜的物距、掠入射角、放大倍数及像点间隔L分别具有不同数值，因此实际加工的玻璃锥芯的厚度和夹角也存在差异。确定光学初始结构参数时，每对反射镜之间在沿光轴方向留出一定的间隙，以避免各对反射镜在调节过程中相互阻挡。此外，由于子午方向上的两队反射镜沿光轴方向顺序排列，因此参与各通道成像的X射线在传播过程中，可能存在被其它通道反射镜阻挡的情况。此时须在反射镜抛光加工时，预先在反射镜的工作反射面下方钻孔，以作为X射线的传播通道。
3.将各对反射镜分别顶靠在加工完成的高精度玻璃锥芯上，从而构成三个镜对。为降低顶靠过程中压力对工作反射面表面质量的影响，可采用弹性球塞从反射镜背面顶靠的方式。
理想情况下，若八通道KB显微镜各参数的实际数值与公式(1)-(3)中的设计值相符，是不存在最佳视场偏离和像点间隔偏差的。但在实际中则包含多种误差因素。首先，KB反射镜在加工完成后，其实际曲率半径与设计值存在一定误差(ΔR)。其次，玻璃锥芯自身的加工误差，以及反射镜顶靠锥芯时的装配误差，造成了工作反射面的实际间隔和夹角与理想值的偏差(Δy和Δα)。上述误差对公式(1)-(4)中各参数的实际值造成影响，从而引起最佳视场以及像点间隔的偏离。公式(1)-(4)中，曲率半径R、镜面夹角α、镜面间隔y和反射镜镜长d等参量在每对反射镜粗装配完成后业已固定，无法改变；掠入射角θ、放大倍率M和物距u在实际装配中可以看作是可变量；分幅相机微带具有一定的宽度，实际成像点只需要位于这一宽度内即可，因此像点间隔L也可以看作在一定范围变化的可变量。从光路原理上讲，掠入射角θ、放大倍率M和物距u和像点间隔L这四个可变量对应四个几何光路公式，因此上述误差造成各参数实际数值的改变，是可以通过改变上述四个可变量予以补偿的。换言之，若能够在实际装配中控制掠入射角θ、放大倍率M和物距u和像点间隔L，可以补偿反射镜的曲率半径误差、锥芯的加工误差以及反射镜顶靠锥芯时的配合误差等因素对实际成像的影响。这就为实现多通道KB显微镜的精装配提供了一种理论基础，即：装配过程借助X射线实时成像，不断调节各对反射镜的物距和像距，直至各通道最佳视场位于同一位置并且通道间的像点间隔符合设计要求。
精装配对各通道最佳视场一致性的调节方法及步骤如下：
4.以X射线光管为背光源，其上有标记点的方孔载网为物，X射线CCD置于像面作为记录设备。将三对反射镜分别悬挂于六维调节台，沿光轴按照“子午-弧矢-子午”依次正交排列，六维调节台包括三维方向平移及三维角度调节功能，从而实现各镜对空间姿态的调整。各对反射镜与方孔载网的初始距离按照名义物距。
5.首先完成子午方向的第一对反射镜和弧矢方向上一对反射镜的调节，物方的方孔载网的X射线依次经过子午和弧矢方向的反射镜后，在像面的X射线CCD记录下方孔载网的四幅KB成像。根据四幅图像在子午方向和弧矢方向上方孔载网不同位置的清晰程度变化，分别判断两对反射镜物距的调节方向，调节反射镜物距直至标记点位置所成的四幅图像均达到所需的空间分辨率水平。
6.随后将子午方向上第二对反射镜平移入光路，物方的方孔载网的X射线先后经过弧矢和子午方向的反射镜后，在像面的X射线CCD记录下方孔载网新成的四幅KB成像。弧矢方向的反射镜已经在上一步调节完毕，此时只需要根据四幅新成图像在子午方向上不同位置的清晰程度变化，判断子午方向上第二对反射镜物距的调节方向，直至标记点位置所成的四幅图像均达到预期的空间分辨率水平。
精装配对各通道像点间隔的调节方法及步骤如下：
7.由图2可知，改变像距会使得各通道的像点间隔发生变化。因此，沿光轴方向移动X射线CCD，观察各通道像点间隔的变化情况，直至八个通道的像点间隔均能够落入分幅相机微带12mm宽度范围以内。KB显微镜的数值孔径在10
8.上述粗装配和精装配步骤完成后，在三对反射镜下方放置一块机械件，并用环氧树脂将三对反射镜与该机械件固化为一个物镜整体，此时八通道KB物镜的装配最终完成。
与现有技术相比，本发明具有以下优点及有益效果：
1、不增加光学元件的加工难度。首先，用于本发明的八通道KB物镜粗装配的玻璃芯采用传统棱镜的光学冷加工工艺即可实现。其次，本发明提出的八通道KB物镜装配方法对KB反射镜的加工要求与普通的单通道KB系统相同，只需要保证工作反射面的面形精度和表面粗糙度以保证空间分辨率和反射效率，不需要保证反射镜侧面或背面与工作反射面的相对距离和角度精度。这就避免了现有美国OMEGA装置十六通道及法国LMJ装置八通道KB物镜装配过程中对光学元件的苛刻要求。
2、最终的装配精度高。本发明提出的物镜装配方法是借助于的光学冷加工工艺，首先完成各对反射镜自身的粗装配，而精装配则借助X射线实时成像实验修正粗装配过程中的误差，X射线成像实验得到的空间分辨率及像点间隔直接代表了系统用于强激光装置物理实验的结果。因此，本发明避免了现有装配方式存在的误差引入问题，最终的装配精度高。
附图说明
图1为现有多通道KB物镜的装配结构示意图；
图2为八通道KB物镜各镜对在子午面内的空间排布关系图：1.物点；2.锥芯；3.子午方向KB镜；4.像点；5.光轴；5-1.光轴平行线；6.工作反射面中心点；6-1.工作反射面前端点；7.工作反射面中心切线；
图3为实施例中镀制在八通道KB物镜工作反射面上的多层膜结构的反射率曲线图；
图4为实施例中八通道KB物镜匹配的分幅相机微带尺寸图；
图5为实施例中八通道KB物镜各反射镜排布与各像点的成像关系图；
图6为实施例中八通道KB物镜在子午和弧矢方向的光路结构示意图：1.物点；2.锥芯；3.像平面；；
图7为实施例中用于八通道KB物镜粗装配的三组支撑锥芯的加工要求图
图8为实施例中八通道KB物镜的钻孔反射镜加工要求图；
图9为实施例中八通道KB物镜M1/M2镜粗装配过程的固定结构示意图：1.KB反射镜；2.锥芯；3.固定架；4.弹性球塞；5.装调螺孔；
图10为实施例中八通道KB物镜的精装配过程示意图：1.X光管；2.600目方孔载网；3.KB镜前盖；4.M1M2镜对固定架；5.M3M4镜对固定架；6.M5M6镜对固定架；7.CCD；8.底板；9.M1M2镜对调整架；10.M3M4镜对调整架；11.M5M6镜对调整架；12.调节架固定螺丝；
图11为实施例中八通道KB物镜得到了八个成像通道的网格成像实验结果。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例说明本发明提出的八通道KB物镜的装配方法。
实施例
物镜将用于激光装置锥壳靶在内爆压缩过程中的低能X射线自发光成像诊断或示踪元素Cu的Kα特征X射线成像诊断。该套KB物镜希望能够对直径约500微米靶丸实现约5微米空间分辨的成像能力。根据空间分辨率和集光效率的应用需求，设计的该套八通道KB物镜的初始结构参数见表1，其中曲率半径20.5m是通过表面轮廓仪(型Bruker ContourGT-X3)的实测得出，以降低光学冷加工过程中实际曲率半径与设计值的偏差，从而降低对KB物镜成像的影响。在8keV高能点以及小于3.7keV低能点实现X射线反射的多层膜结构设计见表2。
表1八通道KB物镜的初始结构参数
表2镀制在八通道KB物镜工作反射面的多层膜结构参数
八通道KB物镜各镜对在子午面内的空间排布关系如图2所示，各组反射镜在不同设计掠入射角度下的反射率曲线见图3。
该套八通道KB物镜的粗装配步骤如下：
1.该物镜需要配合的分幅相机的微带排布如图4所示，相邻微带中心的间隔为16mm，每条微带自身的宽度为12mm。各反射镜与微带上像点排布的对应关系如图5所示，子午方向的第一对反射镜M1/M2和弧矢方向的M3/M4相互利用形成的四幅图像A1-A4位于分幅相机外侧的两条微带上，对应像点间隔2L1＝48mm，弧矢方向的M3/M4再次与子午方向的第二对反射镜M5/M6相互利用形成的另外四幅图像A5-A8位于分幅相机内侧的两条微带上，对应像点间隔2L3＝16mm。另外，同一微带上两个成像点对应的间隔要求较为宽松，本实施例设计为2L2＝21.6mm。如表1初始结构参数所示，反射镜沿光轴方向的长度为8mm，而各对反射镜的物距相差10mm，即依序排列的各对反射镜之间留有2mm的间隙，这是为避免后续在精装配过程中调节物距时各元件的相互阻挡。
2.本实施例的八通道KB物镜在子午和弧矢方向上具体的空间排布及对应关系如图6所示，在表1所述的初始结构参数的基础上，根据公式(2)-(3)分别得到用于完成粗装配的三组支撑锥芯的几何尺寸分别如图7所示，通过支撑锥芯1控制子午方向上的第一对反射镜M1/M2对应的像点间隔为2L1＝48mm，通过支撑锥芯2控制弧矢方向上的一对反射镜M3/M4对应的像点间隔为2L2＝21.6mm，通过支撑锥芯3控制子午方向上的第二对反射镜M5/M6对应像点间隔为2L3＝16mm。通过计算可知，入射到子午方向上第二对反射镜的X射线在穿过第一对反射镜时，会位于第一对反射镜镜面下方约2.0mm的位置，因此为避免第一对反射镜的阻挡，在其下方钻有直径约1mm的通光孔，以作为第二对反射镜的X射线通道，反射镜的加工图纸见图8。其中曲率半径设计值为20m，通过表面轮廓仪(型Bruker ContourGT-X3)实测得出的数值为20.5m，即在八通道KB初始结构设计中所采用的曲率半径数值。
3.如图9所示，采用弹性球塞将反射镜M1/M2顶靠在加工完成的高精度玻璃锥芯1上，从而构成M1/M2镜对，其上的装调螺孔用于后续将镜对与六维调节台固定连接并可拆卸。以同样方法完成M3/M4和M5/M6镜对的安装。
精装配的具体步骤如下：
4.如图10所示，以X射线光管为背光源，上有标记点的600目方孔载网为物。将三个镜对通过调节杆分别悬挂于三套六维调节台，沿光轴方向按照“子午-弧矢-子午”依次正交排列。三个镜对与方孔载网的初始距离分别按照表1各自确定的名义物距通过游标卡尺确定。X射线CCD置于像面作为记录设备，由于CCD像面仅有36x24mm长宽，无法覆盖八个通道最大的像点间隔(48x21.6mm)，因此X射线CCD连接于三维电控平移台上，通过电控平移台改变CCD位置，以实现对八个通道成像区域的覆盖。
5.子午方向的M1/M2镜对和弧矢方向的M3/M4镜对将600目方孔载网形成四幅成像A1-A4，并被像面的X射线CCD记录。根据A1-A4在子午方向和弧矢方向上600目方孔载网不同位置的清晰程度变化，分别判断两对反射镜物距的调节方向，调节反射镜物距直至600目方孔载网中心标记点达到所需的空间分辨率水平，此时完成了子午方向的M1/M2镜对和弧矢方向的M3/M4镜对的最佳视场位置的调节。
6.随后将子午方向的M5/M6镜对调节入光路，像面上另外增加四幅图像A5-A8，即弧矢方向上M3/M4镜对和子午方向上M5/M6镜对相互利用得到的600目方孔载网的KB成像。根据A5-A8在子午方向上不同位置的清晰程度变化，判断子午方向上第二对反射镜M5/M6物距的调节方向，直至600目方孔载网中心标记点均达到预期的空间分辨率水平，此时完成子午方向上M5/M6镜对的最佳视场位置的调节。
7.对于目标观测区域直径约500微米的靶丸成像，在KB物镜约10倍放大率下的像面尺寸约为5mm。分幅相机的微带宽度为12mm，因此理论上八个通道像点间隔的偏差只需要保持在±3.5mm范围以内，若考虑到实际物理实验中的装调和像面瞄准误差，将八个通道像点间隔的偏差控制在±2mm范围以内是比较合适的。
沿光轴方向移动X射线CCD，直至八个通道的像点间隔均能够落入分幅相机12mm宽微带范围以内。本实施例最终在像面上得到的八个通道KB成像的结果如图11所示。每幅图像对应的X射线CCD位置均由电控平移台控制，并按照像点间隔设计值进行移动(竖直方向上四幅图像在空间位置上各相差16mm；水平方向上两幅图像在空间位置上相差21.6mm)，因此每幅图像上中心标记孔的坐标偏差即可代表本实施例最终所能实现的像点间隔控制精度。根据每幅图像的标记孔在图像上的坐标位置，以及X射线CCD移动的距离，可以换算得知：外侧四个通道间的实测像点间隔约为51.2mm，与设计值48mm相差约3.2mm，因此外侧每个通道在分幅相机的成像点与设计值偏大约1.6mm；内侧四个通道间的像点间隔约为13.8mm，与设计值16mm相差约2.4mm，因此内侧每个通道在分幅相机的成像点与设计值偏小约1.2mm，均能达到本实施例中±2mm的偏差控制要求。
8.上述粗装配和精装配步骤完成后，用环氧树脂将三个镜对与放置于镜对下方的不锈钢垫板粘合，待环氧树脂固化为一个完整的物镜整体后，拧下装调螺孔处的螺丝，使得六维调节台与八通道KB物镜脱离，此时以不锈钢垫板为支撑的八通道KB物镜装配最终完成。
上述的对实施例的描述是为便于该技术领域的普通技术人员能理解和使用发明。熟悉本领域技术的人员显然可以容易地对这些实施例做出各种修改，并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中而不必经过创造性的劳动。因此，本发明不限于上述实施例，本领域技术人员根据本发明的揭示，不脱离本发明范畴所做出的改进和修改都应该在本发明的保护范围之内。
一种八通道Kirkpatrick-Baez显微镜的精密装配方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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