专利摘要

专利摘要

本发明的目的在于提供一种其氨基的保护基团脱去后会生成氨基酸的氨基酸产生剂，以及使用该氨基酸产生剂和含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物。本发明提供了含有(A)成分、(B)成分和(C)成分的用于形成被膜的组合物。其中(A)成分是下述式(1)所示的氨基的保护基团脱去后会生成氨基酸的氨基酸产生剂，(B)成分是水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的混合物，(C)成分是溶剂。D-A 式(1)(式中，D表示氨基的保护基团，A表示氨基酸去掉氨基的氢原子后所得的有机基团。)

说明书

技术领域

本发明涉及氨基酸产生剂和含有氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物。更详细地说，涉及留下羧基、保护了氨基的氨基酸产生剂，其通过加热等处理，会脱去氨基的保护基团而生成氨基酸，还涉及使用了该氨基酸产生剂和含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物。

背景技术

聚硅氧烷得益于其Si-O键而发挥出高透明性和高耐热性，已研究了将其作为电子器件、特别是固体成像元件的部件使用。在将聚硅氧烷用于电子器件中时，要经过通过旋转涂布法等湿式工艺在任意的基板上形成被膜的工序，所以必须要变为聚硅氧烷清漆。此外，聚硅氧烷在成膜后，一般要使用任意的烘烤仪器进行烘烤。

聚硅氧烷通过烘烤会使分子内和分子间的Si-OH彼此缩聚，从而高分子量化而形成结实的膜。但在Si-OH缩聚不完全时，在变成电子器件、特别是固体成像元件的部件之后，在后续工序的高温蚀刻试验等时残留的Si-OH会再次缩聚、脱水而产生气体，造成电子器件的可靠性显著降低。因此，要解决该问题就必须要消灭残留的Si-OH。

过去知道下述方法：(1)进行在高温下长时间烘烤的工序，(2)在体系内加入热碱性产生剂，并烘烤，从而促进缩聚(参照专利文献1)等。添加热碱性产生剂的方法利用了聚硅氧烷的Si-OH之间容易在碱性条件下发生缩聚的性质，从而有效消灭残留的Si-OH。迄今为止所报道的热碱性产生剂，是通过将作为显示碱性的部位的伯胺或仲胺以活性较高的状态添加或添加叔胺，来促进烘烤时进行缩聚，但这样会使聚硅氧烷清漆的冷冻、冷藏或室温下的存储稳定性变差。

另一方面，已知聚硅氧烷清漆的存储稳定性是，一般在酸性区域pH值4附近不会发生缩聚，是连水解也不进行的稳定区域。过去为了提高加入了热碱性产生剂的体系内的聚硅氧烷清漆的存储稳定性，需要将pH值调节到4附近，为此使用在体系内再添加草酸或马来酸等羧酸衍生物的方法。

但添加热碱性产生剂虽然会有效消灭残留的Si-OH，但另一方面也会使聚硅氧烷清漆的存储稳定性恶化。

为此，需要在保持良好的聚硅氧烷清漆的存储稳定性的情况下，可以形成在制膜和烘烤时显著消灭Si-OH的聚硅氧烷膜的聚硅氧烷组合物。

此外，已公开了含有聚硅氧烷和有机类交联剂的固化性树脂组合物(参照专利文献2～4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平6-145599号公报

专利文献2：日本特开2006-96983号公报

专利文献3：日本特开2008-7640号公报

专利文献4：日本特开2003-226837号公报

发明内容

本发明是鉴于上述现状而完成的，所要解决的课题是，提供聚硅氧烷清漆的存储稳定性良好，并且表现出促进残留的Si-OH缩聚的效果的、使用聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物。此外，还提供可防止固化物的缝隙、破裂的使用聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物。

本发明人为了解决上述问题而进行了深入研究，结果发现在聚硅氧烷中加入了氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物，聚硅氧烷清漆的存储稳定性良好，会促进烘烤时进行缩聚，且显著减少Si-OH残留，可有效作为用于形成被膜的组合物作为使用。

此外还发现，在电子材料领域使用氨基酸产生剂时，会表现出新的作用效果。

也就是说，作为本发明的观点1，是一种氨基酸产生剂，可脱去保护基团而生成氨基酸。

作为本发明的观点2，是一种热氨基酸产生剂，可借助热脱去保护基团而生成氨基酸。

作为本发明的观点3，是一种光氨基酸产生剂，可借助光脱去保护基团而生成氨基酸。

作为本发明的观点4，是如观点1～3的任一项所述的氨基酸产生剂，所述氨基酸产生剂以下述式(1)表示：

D-A  式(1)

式中，D表示氨基的保护基团，A表示氨基酸去掉氨基的氢原子后所得的有机基团。

作为本发明的观点5，是如观点4所述的氨基酸产生剂，所述氨基酸产生剂以下述式(2)表示：

式(2)

式中，D表示氨基的保护基团，R¹表示氢原子(n＝0时)或亚烷基，R²表示单键、亚烷基、或亚芳基，此外，R¹和R²可以与彼此结合的氨基的氮原子一起形成环状结构，T是单键或(k+2L+n+m)价的有机基团，该有机基团是可以含有氨基、巯基或羰基的碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～40的芳基，并且k是1～4的整数，L是0～2的整数，n是0～2的整数，m是1～4的整数。

作为本发明的观点6，是如观点4所述的氨基酸产生剂，所述保护基团D是具有烷氧基羰基结构的酯化羧基残基。

作为本发明的观点7，是如观点4所述的氨基酸产生剂，所述保护基团D是叔丁氧基羰基或9-芴基甲氧基羰基。

作为本发明的观点8，是如观点1～3的任一项所述的氨基酸产生剂，所述氨基酸产生剂是选自下述式(2-1)～式(2-22)中的至少一种化合物，式中D表示氨基的保护基团。

作为本发明的观点9，是一种用于形成被膜的组合物，含有观点1～8的任一项所述的氨基酸产生剂。

作为本发明的观点10，是一种用于形成被膜的组合物，含有(A)成分、(B)成分和(C)成分，

(A)成分：观点1～8的任一项所述的氨基酸产生剂，

(B)成分：水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物或它们的混合物，

(C)成分：溶剂。

作为本发明的观点11，是如观点10所述的用于形成被膜的组合物，所述(B)成分是选自下述式(3)和下述式(4)中的至少一种水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物或它们的混合物，

R³_aSi(R⁴)_4-a    式(3)

式中，R³表示具有烷基、芳基、卤化烷基、卤化芳基、链烯基或环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基、羧基、磷酸基、酰胺基、硝基、酰基、磺基、氰基、或它们的组合的有机基团，并且其通过Si-C键与硅原子结合，此外，R⁴表示烷氧基、酰氧基或卤原子，a表示0～3的整数，

〔R⁵_cSi(R⁶)_3-c〕₂Y_b    式(4)

式中，R⁵表示具有烷基、芳基、卤化烷基、卤化芳基、链烯基或环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基、羧基、磷酸基、酰胺基、硝基、酰基、磺基、氰基或它们的组合的有机基团，并且其通过Si-C键与硅原子结合，此外，R⁶表示烷氧基、酰氧基或卤原子，Y表示亚烷基或亚芳基，b表示整数0或1，c表示整数0或1。

作为本发明的观点12，是如观点11所述的用于形成被膜的组合物，所述(B)成分是选自上述式(3)的a为0～2时的至少一种水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物或它们的混合物。

作为本发明的观点13，是如观点10～12的任一项所述的用于形成被膜的组合物，还含有作为(D)成分的交联性化合物。

作为本发明的观点14，是如观点13所述的用于形成被膜的组合物，(D)成分含有分子内具有至少2个下述式(D-1)所示官能团的交联性化合物，

-CH₂-O-R¹    式(D-1)

式中，R¹表示氢原子或碳原子数1～10的烷基。

作为本发明的观点15，是如观点13所述的用于形成被膜的组合物，(D)成分是下述式(D-2)所示的交联性化合物或下述式(D-4)所示的交联性化合物，

式(D-2)

式中，R⁶表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、芳基、芳烷基、链烯基或下述式(D-3)所示官能团，此外，R⁷表示氢原子或上述式(D-1)所示官能团，式(D-2)分子内具有2～6个上述式(D-1)所示官能团，

式(D-3)

式中，R⁷表示氢原子或上述式(D-1)所示官能团，

式(D-4)

式中，R⁸表示氢原子或上述式(D-1)所示官能团，式(D-4)分子内具有2～4个上述式(D-1)所示官能团。

作为本发明的观点16，是一种电子器件，具有由观点9～15的任一项所述的用于形成被膜的组合物制造的膜。

作为本发明的观点17，是一种固体成像元件，包含电荷耦合元件(CCD)或互补性金属氧化膜半导体(CMOS)，所述电荷耦合元件(CCD)和互补性金属氧化膜半导体(CMOS)具有由观点9～15的任一项所述的用于形成被膜的组合物制造的膜。

作为本发明的观点18，是一种固体成像元件，作为滤色器上的平坦化层具有由观点9～15的任一项所述的用于形成被膜的组合物制造的膜。

作为本发明的观点19，是一种固体成像元件，作为微透镜上的平坦化层或共形涂层具有由观点9～15的任一项所述的用于形成被膜的组合物制造的膜。

本发明的氨基酸产生剂(例如，热氨基酸产生剂或光氨基酸产生剂)和使用含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物，氨基酸产生剂在该用于形成被膜的组合物中发挥酸性成分的作用，所以聚硅氧烷清漆的存储稳定性良好。

此外，氨基酸产生剂和使用含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物，如果在成膜后，在烘烤或光照时作为外部能量施加热或光，则氨基酸产生剂氨基的保护基团会脱去，产生的氨基酸会促进聚硅氧烷缩聚，从而可以在无未反应的Si-OH残留的情况下形成结实的膜。

进而，氨基酸产生剂和使用含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物，由其制作的被膜在烘烤时或光照时未反应的Si-OH会被消灭掉，所以在变为电子器件、特别是固体成像元件的一部件之后，在作为后续工序的高温蚀刻试验等时不会有残留的Si-OH再次缩聚、脱水，不会产生气体，所以可显著提高电子器件可靠性。

本发明的氨基酸产生剂和使用含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物，由其制作的被膜会显著促进烘烤时的缩聚，因而可以缩短使用任意的烘烤仪器时的烘烤时间，并且降低烘烤温度。烘烤时间的缩短可以加快制膜节奏，提高制造器件的吞吐量。此外，在烘烤温度的降低方面，可以实现过去的聚硅氧烷不能实现的低温烘烤，可以在不适合高温烘烤的挠性基材等中使用。

此外，使用本发明的含有氨基酸产生剂的用于形成被膜的组合物而制作的被膜，显著促进了曝光时缩聚，所以可以降低在使用任意曝光装置时的曝光量。曝光量的降低可以加快制膜节奏，提高制造器件的吞吐量。此外，本发明的含有氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物可通过曝光促进缩聚，因此可以在现有的高温固化型聚硅氧烷不能实现的挠性基材等中使用。

本发明的氨基酸产生剂和含有其的聚硅氧烷组合物，可以通过改变氨基酸产生剂的种类来控制聚硅氧烷清漆时和烘烤时的pH值，所以可以按照制造器件的种类和各种烘烤工艺来设计聚硅氧烷组合物，扩大加工边距(process margin)，所以适合作为电子器件、特别是固体成像元件的一部件使用。

当被覆通过使用本发明的氨基酸产生剂、和含有本发明的氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物而得的用于形成被膜的组合物时，所得的填充固化物在固化物和填充部分的壁垒之间没有产生间隙的现象、也就是说没有缝隙和在填充的固化物中产生皲裂的现象，即没有破裂。

此外，本发明中的含有有机类交联性化合物的聚硅氧烷组合物，该有机类交联性化合物会参与与聚硅氧烷末端的硅烷醇基的反应，抑制了所得聚硅氧烷体积急剧收缩，提高了膜的恢复率(被膜性)，由此例如提高过孔内的埋入性，提高器件的可靠性。

进而，通过在含有聚硅氧烷和有机类交联性化合物的组合物中含有作为固化促进剂的氨基酸产生剂，可以得到促进聚硅氧烷的效果，得到防止聚硅氧烷固化物的缝隙和破裂两方面的效果。

此外，本发明中使用的氨基酸产生剂本来是主要在医药品领域的生理活性研究和病理性遗传基因的研究等中使用的医药品中间体，制造时供给稳定。

产业可利用性

本发明的含有氨基酸产生剂的用于形成被膜的组合物，可以通过改变氨基酸产生剂的种类来控制聚硅氧烷清漆的存储时和烘烤时或光照时的pH值，所以可以按照要制造的器件种类和各种烘烤工艺来设计聚硅氧烷组合物，并可以扩大加工边距，所以适合用作电子器件、特别是固体成像元件的一部件。

由本发明的用于形成被膜的组合物形成的膜，可以在包含具有由本发明的用于形成被膜的组合物形成的膜的电荷耦合元件(CCD)或互补性金属氧化膜半导体(CMOS)的固体成像元件中利用，在具有上述膜作为滤色器上的平坦化层的固体成像元件中利用，具有上述膜作为微透镜上的平坦化层或共形涂层的固体成像元件中利用。

附图说明

图1是实施例19中得到的膜的FT-IR光谱图。

图2是实施例20中得到的膜的FT-IR光谱图。

图3是实施例21中得到的膜的FT-IR光谱图。

图4是实施例22中得到的膜的FT-IR光谱图。

图5是实施例23中得到的膜的FT-IR光谱图。

图6是实施例24中得到的膜的FT-IR光谱图。

图7是实施例25中得到的膜的FT-IR光谱图。

图8是实施例26中得到的膜的FT-IR光谱图。

图9是实施例27中得到的膜的FT-IR光谱图。

图10是实施例28中得到的膜的FT-IR光谱图。

图11是实施例29中得到的膜的FT-IR光谱图。

图12是实施例30中得到的膜的FT-IR光谱图。

图13是实施例31中得到的膜的FT-IR光谱图。

图14是实施例32中得到的膜的FT-IR光谱图。

图15是实施例33中得到的膜的FT-IR光谱图。

图16是实施例34中得到的膜的FT-IR光谱图。

图17是实施例35中得到的膜的FT-IR光谱图。

图18是实施例36中得到的膜的FT-IR光谱图。

图19是实施例37中得到的膜的FT-IR光谱图。

图20是实施例38中得到的膜的FT-IR光谱图。

图21是实施例39中得到的膜的FT-IR光谱图。

图22是实施例40中得到的膜的FT-IR光谱图。

图23是实施例41中得到的膜的FT-IR光谱图。

图24是实施例42中得到的膜的FT-IR光谱图。

图25是实施例43中得到的膜的FT-IR光谱图。

图26是实施例44中得到的膜的FT-IR光谱图。

图27是实施例45中得到的膜的FT-IR光谱图。

图28是实施例46中得到的膜的FT-IR光谱图。

图29是实施例47中得到的膜的FT-IR光谱图。

图30是比较例21中得到的膜的FT-IR光谱图。

图31是比较例22中得到的膜的FT-IR光谱图。

图32是比较例23中得到的膜的FT-IR光谱图。

图33是比较例24中得到的膜的FT-IR光谱图。

图34是比较例25中得到的膜的FT-IR光谱图。

图35是比较例26中得到的膜的FT-IR光谱图。

图36是比较例27中得到的膜的FT-IR光谱图。

图37是比较例28中得到的膜的FT-IR光谱图。

图38是比较例29中得到的膜的FT-IR光谱图。

图39是比较例30中得到的膜的FT-IR光谱图。

图40是比较例31中得到的膜的FT-IR光谱图。

图41是比较例32中得到的膜的FT-IR光谱图。

图42是比较例33中得到的膜的FT-IR光谱图。

图43是比较例34中得到的膜的FT-IR光谱图。

图44是比较例35中得到的膜的FT-IR光谱图。

图45是比较例36中得到的膜的FT-IR光谱图。

图46是比较例37中得到的膜的FT-IR光谱图。

图47是实施例48中得到的膜的FT-IR光谱图。

图48是实施例49中得到的膜的FT-IR光谱图。

图49是实施例50中得到的膜的FT-IR光谱图。

图50是实施例51中得到的膜的FT-IR光谱图。

图51是实施例52中得到的膜的FT-IR光谱图。

图52是实施例53中得到的膜的FT-IR光谱图。

图53是实施例54中得到的膜的FT-IR光谱图。

图54是实施例55中得到的膜的FT-IR光谱图。

图55是实施例56中得到的膜的FT-IR光谱图。

图56是实施例57中得到的膜的FT-IR光谱图。

图57是实施例58中得到的膜的FT-IR光谱图。

图58是实施例59中得到的膜的FT-IR光谱图。

图59是实施例60中得到的膜的FT-IR光谱图。

图60是实施例61中得到的膜的FT-IR光谱图。

图61是实施例62中得到的膜的FT-IR光谱图。

图62是实施例63中得到的膜的FT-IR光谱图。

图63是实施例64中得到的膜的FT-IR光谱图。

图64是实施例65中得到的膜的FT-IR光谱图。

图65是实施例66中得到的膜的FT-IR光谱图。

图66是实施例67中得到的膜的FT-IR光谱图。

图67是实施例68中得到的膜的FT-IR光谱图。

图68是实施例69中得到的膜的FT-IR光谱图。

图69是实施例70中得到的膜的FT-IR光谱图。

图70是实施例71中得到的膜的FT-IR光谱图。

图71是实施例72中得到的膜的FT-IR光谱图。

图72是实施例73中得到的膜的FT-IR光谱图。

图73是实施例74中得到的膜的FT-IR光谱图。

图74是实施例75中得到的膜的FT-IR光谱图。

图75是实施例76中得到的膜的FT-IR光谱图。

图76是比较例38中得到的膜的FT-IR光谱图。

图77是比较例39中得到的膜的FT-IR光谱图。

图78是比较例40中得到的膜的FT-IR光谱图。

图79是比较例41中得到的膜的FT-IR光谱图。

图80是比较例42中得到的膜的FT-IR光谱图。

图81是比较例43中得到的膜的FT-IR光谱图。

图82是比较例44中得到的膜的FT-IR光谱图。

图83是比较例45中得到的膜的FT-IR光谱图。

图84是比较例46中得到的膜的FT-IR光谱图。

图85是比较例47中得到的膜的FT-IR光谱图。

图86是比较例48中得到的膜的FT-IR光谱图。

图87是比较例49中得到的膜的FT-IR光谱图。

图88是比较例50中得到的膜的FT-IR光谱图。

图89是比较例51中得到的膜的FT-IR光谱图。

图90是比较例52中得到的膜的FT-IR光谱图。

图91是比较例53中得到的膜的FT-IR光谱图。

图92是比较例54中得到的膜的FT-IR光谱图。

图93是比较例55中得到的膜的FT-IR光谱图。

图94是比较例56中得到的膜的FT-IR光谱图。

图95是比较例57中得到的膜的FT-IR光谱图。

图96是比较例58中得到的膜的FT-IR光谱图。

图97是通过旋转涂布法将聚硅氧烷组合物填充在过孔内并使之固化后的截面图，是显示出良好填充性的图。

图98是通过旋转涂布法将聚硅氧烷组合物填充在过孔内并使之固化后的截面图，是形成了缝隙，显示不理想的填充性的图。

图99是实施例84中得到的膜的FT-IR光谱图。

图100是实施例85中得到的膜的FT-IR光谱图。

图101是实施例86中得到的膜的FT-IR光谱图。

图102是比较例59中得到的膜的FT-IR光谱图。

图103是参考例1中得到的膜的FT-IR光谱图。

具体实施方式

本发明中的氨基酸产生剂，氨基已被保护基团保护，在受到加热或光照(曝光)等作用时会脱去保护基团而生成氨基酸。

作为该氨基酸产生剂，有例如热氨基酸产生剂和光氨基酸产生剂，所述热氨基酸产生剂在受到加热时会脱去保护基团而生成作为硅烷醇的固化促进成分的氨基酸，所述光氨基酸产生剂在受到曝光等的作用时会脱去保护基团而生成作为硅烷醇的固化促进成分的氨基酸。

上述氨基酸产生剂是下述式(1)所示的化合物。

D-A    式(1)

上述式(1)中，D表示氨基的保护基团，A表示氨基酸的氨基去掉氢原子后所得的有机基团。并且该保护基团D优选为具有烷氧基羰基结构的酯化羧基残基，在该被酯化的羧基残基作为保护基团而脱去时，从聚硅氧烷末端的硅烷醇基上抽出氢原子而使氨基酸产生剂产生氨基，生成氨基酸，并且氨基引起硅烷醇基之间彼此脱水缩合，而生成高分子量化的聚硅氧烷。保护基团D也会与脱水缩合时生成的水和体系内的水分反应，可以认为，保护基团D本身变为醇、二氧化碳气体而分解。

作为该保护基团D，可以列举出例如，9-芴基甲氧基羰基、甲氧基羰基、三氟甲氧基羰基、乙氧基羰基、正丙氧基羰基、异丙氧基羰基、正丁氧基羰基、叔丁氧基羰基、仲丁氧基羰基、正戊氧基羰基、正己氧基羰基等可被取代的碳原子数2～21的直链或支链的烷氧基羰基。

特别优选下述所示的容易脱去、大体积的叔丁氧基羰基和9-芴基甲氧基羰基。

此外，上述氨基酸产生剂是下述式(2)所示的化合物。

式(2)

上述式(2)中，D表示氨基的保护基团，R¹表示氢原子(n＝0时)或亚烷基，R²表示单键、亚烷基或亚芳基。此外，R¹和R²可以与彼此结合的氨基的氮原子一起形成环状结构，T是单键或(k+2L+n+m)价的有机基团，该有机基团是可以含有氨基、巯基或羰基的碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～40的芳基。T为单键时，不存在与T直接结合的(＝N-D)基和(-OH)基，而形成羧基和R²之间的键。k是1～4的整数，L是0～2的整数，n是0～2的整数，m是1～4的整数。

作为上述碳原子数1～10的烷基，可以列举出例如，甲基、乙基、正丙基、异丙基、环丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、环丁基、1-甲基环丙基、2-甲基环丙基、正戊基、1-甲基正丁基、2-甲基正丁基、3-甲基正丁基、1，1-二甲基正丙基、1，2-二甲基正丙基、2，2-二甲基正丙基、1-乙基正丙基、环戊基、1-甲基环丁基、2-甲基环丁基、3-甲基环丁基、1，2-二甲基环丙基、2，3-二甲基环丙基、1-乙基环丙基、2-乙基环丙基、正己基、1-甲基正戊基、2-甲基正戊基、3-甲基正戊基、4-甲基正戊基、1，1-二甲基正丁基、1，2-二甲基正丁基、1，3-二甲基正丁基、2，2-二甲基正丁基、2，3-二甲基正丁基、3，3-二甲基正丁基、1-乙基正丁基、2-乙基正丁基、1，1，2-三甲基正丙基、1，2，2-三甲基正丙基、1-乙基-1-甲基正丙基、1-乙基-2-甲基正丙基、环己基、1-甲基环戊基、2-甲基环戊基、3-甲基环戊基、1-乙基环丁基、2-乙基环丁基、3-乙基环丁基、1，2-二甲基环丁基、1，3-二甲基环丁基、2，2-二甲基环丁基、2，3-二甲基环丁基、2，4-二甲基环丁基、3，3-二甲基环丁基、1-正丙基环丙基、2-正丙基环丙基、1-异丙基环丙基、2-异丙基环丙基、1，2，2-三甲基环丙基、1，2，3-三甲基环丙基、2，2，3-三甲基环丙基、1-乙基-2-甲基环丙基、2-乙基-1-甲基环丙基、2-乙基-2-甲基环丙基和2-乙基-3-甲基环丙基等。

作为上述亚烷基，可以列举出与上述烷基对应的亚烷基。

作为上述碳原子数6～40的芳基，可以列举出例如，苯基、邻甲基苯基、间甲基苯基、对甲基苯基、邻氯苯基、间氯苯基、对氯苯基、邻氟苯基、对氟苯基、邻甲氧基苯基、对甲氧基苯基、对硝基苯基、对氰基苯基、α-萘基、β-萘基、邻联苯基、间联苯基、对联苯基、1-蒽基、2-蒽基、9-蒽基、1-菲基、2-菲基、3-菲基、4-菲基和9-菲基等。

作为上述亚芳基，可以列举出与上述亚芳基对应的亚芳基。

上述氨基酸产生剂只要在结构上含有L体或D体、或L体和D体的混合体中的1种以上相对立体构型即可。作为上述式(2-1)～上述式(2-22)的具体例，只要相对氨基酸所具有的胺部位的氮原子，取代有1个以上的叔丁氧基羰基或9-芴基甲氧基羰基即可。此外，在分子内具有多个保护基团的氨基酸产生剂中，可以使叔丁氧基羰基或9-芴基甲氧基羰基作为多个保护基团发挥作用，或者也可以使叔丁氧基羰基和9-芴基甲氧基羰基组合作为保护基团发挥作用。

可以列举出例如，N-α-叔丁氧基羰基-L-丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-DL-丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-甲基-L-丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-β-丙氨酸、N-α，N-ω1，N-ω2-三叔丁氧基羰基-N-甲基-L-精氨酸、N-α，N-ω1，N-ω2-三叔丁氧基羰基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ω1，N-ω2-双苄氧羰基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ω1，N-ω2-双苄氧羰基-D-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-天冬酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-D-天冬酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-L-异天冬酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-D-异天冬酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-N-β-三苯甲基-L-天冬酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-L-天冬氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-天冬氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-天冬氨酸β-甲基酯、N，N’-二叔丁氧基羰基-L-半胱氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-S-乙酰胺基甲基-L-半胱氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-S-苄基-L-半胱氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-S-对甲基苄基-L-半胱氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-谷氨酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-D-谷氨酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-L-异谷氨酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-D-异谷氨酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-N-γ-三苯甲基-L-谷氨酰胺、N-α-叔丁氧基羰基-L-谷氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-谷氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-谷氨酸α-叔丁基酯、N-α-叔丁氧基羰基-L-谷氨酸γ-环己基酯、N-叔丁氧基羰基-甘氨酸、N-叔丁氧基羰基-甘氨酰-甘氨酰-甘氨酸、N-叔丁氧基羰基-甘氨酰-甘氨酰-甘氨酰-甘氨酰-甘氨酸、N-叔丁氧基羰基-甘氨酸-甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-N-α-甲基-甘氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-组氨酸甲基酯、N-α，im-二叔丁氧基羰基-L-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-π-苄基氧基甲基-L-组氨酸、N-叔丁氧基羰基-N-τ-三苯甲基-L-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-羟基脯氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-反式-羟基-D-脯氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-羟基脯氨酸-苄基酯、N-α-叔丁氧基羰基-L-异亮氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-N-α-甲基-L-别异亮氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-α-甲基-L-异亮氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-α-甲基-D-异亮氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-亮氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-D-亮氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-N-α-甲基-L-亮氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-α-甲基-D-亮氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-赖氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ε-乙酰基-L-赖氨酸、N-α，N-ε-二叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α，N-ε-二叔丁氧基羰基-D-赖氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-蛋氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-蛋氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-DL-蛋氨酸、N-δ-叔丁氧基羰基-L-鸟氨酸、N-δ-叔丁氧基羰基-D-鸟氨酸、N-α，N-δ-二叔丁氧基羰基-L-鸟氨酸、N-α，N-δ-二叔丁氧基羰基-D-鸟氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-苯基丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-苯基丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-DL-苯基丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-苯基丙氨酸苄基酯、N-α-叔丁氧基羰基-L-苯基丙氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-N-α-甲基-L-苯基丙氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-脯氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-脯氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-脯氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-D-脯氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-L-丝氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-丝氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-丝氨酸α-苄基酯、N-α-叔丁氧基羰基-L-丝氨酸α-甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-L-苏氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-苏氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-苏氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-N-甲基-L-苏氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-O-甲基-L-苏氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-色氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-色氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-色氨酸甲基酯、N-α-叔丁氧基羰基-N-in-叔丁氧基羰基-L-色氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-酪氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-酪氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-酪氨酸苄基酯、N-α-叔丁氧基羰基-L-酪氨酸甲基酯、N，O-二叔丁氧基羰基-L-酪氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-缬氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-缬氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-DL-缬氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-丙氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-丙氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-α-甲基-L-丙氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-α-甲基-D-丙氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ω1，N-ω2-二叔丁氧基羰基-L-精氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ω1，N-ω2-二叔丁氧基羰基-D-精氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-异天冬酰胺、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-异天冬酰胺、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-β-4-甲基三苯甲基-L-天冬酰胺、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-β-4-甲基三苯甲基-D-天冬酰胺、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-天冬氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-天冬氨酸、N，N’-二-9-芴基甲氧基羰基-L-半胱氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-S-乙基-L-半胱氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-S-叔丁基-L-半胱氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-异谷氨酰胺、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-异谷氨酰胺、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-异谷氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-异谷氨酸α-芴基甲基酯、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-异谷氨酸α-叔丁基酯、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-甘氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-α-甲基-甘氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-组氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-组氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-τ-叔丁氧基羰基-L-组氨酸、N-α，N-τ-二(9-芴基甲氧基羰基)-L-组氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-反式-4-羟基-L-脯氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-反式-4-羟基-D-脯氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-异亮氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-异亮氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-别异亮氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-亮氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-亮氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-α-甲基-L-亮氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ε-(9-芴基甲氧基羰基)-L-赖氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ε-(9-芴基甲氧基羰基)-D-赖氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ε-异丙基-N-ε-叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ε-叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-蛋氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-蛋氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-蛋氨酸-DL-亚砜、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-δ-叔丁氧基羰基-L-鸟氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-δ-叔丁氧基羰基-D-鸟氨酸、N-α，δ-二(9-芴基甲氧基羰基)-L-鸟氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-苯基丙氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-苯基丙氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-DL-苯基丙氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-脯氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-脯氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-丝氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-丝氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-丝氨酸甲基酯、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-苏氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-苏氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-α-甲基-L-苏氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-色氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-色氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-酪氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-酪氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-缬氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-缬氨酸等，但不限于这些。

上述氨基酸产生剂中，优选在受热或光而脱去氨基的保护基团，露出氨基后，碱性较大以更加促进聚硅氧烷的缩聚。

也就是说，优选列举N-α，N-ω1，N-ω2-三叔丁氧基羰基-N-甲基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ω1，N-ω2-双苄氧羰基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ω1，N-ω2-双苄氧羰基-D-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-组氨酸甲基酯、N-α，im-二叔丁氧基羰基-L-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-π-苄基氧基甲基-L-组氨酸、N-叔丁氧基羰基-N-τ-三苯甲基-L-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-D-赖氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ε-乙酰基-L-赖氨酸、N-α，N-ε-二叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α，N-ε-二叔丁氧基羰基-D-赖氨酸、N-δ-叔丁氧基羰基-L-鸟氨酸、N-δ-叔丁氧基羰基-D-鸟氨酸、N-α，N-δ-二叔丁氧基羰基-L-鸟氨酸、N-α，N-δ-二叔丁氧基羰基-D-鸟氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ω1，N-ω2-二叔丁氧基羰基-L-精氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ω1，N-ω2-二叔丁氧基羰基-D-精氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-L-组氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-D-组氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-τ-叔丁氧基羰基-L-组氨酸、N-α，N-τ-二(9-芴基甲氧基羰基)-L-组氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ε-(9-芴基甲氧基羰基)-L-赖氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ε-(9-芴基甲氧基羰基)-D-赖氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ε-异丙基-N-ε-叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ε-叔丁氧基羰基-L-赖氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-δ-叔丁氧基羰基-L-鸟氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-δ-叔丁氧基羰基-D-鸟氨酸、N-α，δ-二(9-芴基甲氧基羰基)-L-鸟氨酸。

此外，由于等电点最大，碱性最大，所以选择精氨酸作为氨基酸时的氨基酸产生剂效果好。

也就是说更优选列举N-α，N-ω1，N-ω2-三叔丁氧基羰基-N-甲基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ω1，N-ω2-双苄氧羰基-L-精氨酸、N-α-叔丁氧基羰基-N-ω1，N-ω2-双苄氧羰基-D-精氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ω1，N-ω2-二叔丁氧基羰基-L-精氨酸、N-α-(9-芴基甲氧基羰基)-N-ω1，N-ω2-二叔丁氧基羰基-D-精氨酸。

上述氨基酸产生剂可以作为例如，渡边化学工业株式会社制或东京化成工业株式会社制的市售品得到。

此外，本发明是含有(A)成分、(B)成分和(C)成分的用于形成被膜的组合物。

(A)成分：上述氨基酸产生剂

(B)成分：水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的混合物

(C)成分：溶剂

作为(B)成分可以使用选自下述式(3)和下述式(4)中的至少1种水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物或它们的混合物。其中，该水解物是R⁴和R⁶的水解性基团发生水解而生成了硅烷醇基的化合物。此外，该水解缩合物是水解物中的硅烷醇基之间发生脱水缩合而形成的聚硅氧烷或聚有机硅氧烷，该水解缩合物的末端具有硅烷醇基。该水解缩合物既可以是聚硅氧烷，也可以是含有聚有机硅氧烷部分的聚硅氧烷。

R³_aSi(R⁴)_4-a    式(3)

(式中，R³表示具有烷基、芳基、卤化烷基、卤化芳基、链烯基或环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基、羧基、磷酸基、酰胺基、硝基、酰基、磺基、氰基或它们的组合的有机基团，其通过Si-C键与硅原子结合。此外，R⁴表示作为水解性基团的烷氧基、酰氧基或卤原子，a表示0～3的整数。)

〔R⁵_cSi(R⁶)_3-c〕₂Y_b    式(4)

(式中，R⁵表示具有烷基、芳基、卤化烷基、卤化芳基、链烯基或环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基、羧基、磷酸基、酰胺基、硝基、酰基、磺基、氰基或它们的组合的有机基团，其通过Si-C键与硅原子结合。此外，R⁶表示作为水解性基团的烷氧基、酰氧基或卤原子，Y表示亚烷基或亚芳基，b表示整数0或1，c表示整数0或1。)

作为上述烷基可以列举出碳原子数1～10的烷基，可以列举出例如，甲基、乙基、正丙基、异丙基、环丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、环丁基、1-甲基环丙基、2-甲基环丙基、正戊基、1-甲基正丁基、2-甲基正丁基、3-甲基正丁基、1，1-二甲基正丙基、1，2-二甲基正丙基、2，2-二甲基正丙基、1-乙基正丙基、环戊基、1-甲基环丁基、2-甲基环丁基、3-甲基环丁基、1，2-二甲基环丙基、2，3-二甲基环丙基、1-乙基环丙基、2-乙基环丙基、正己基、1-甲基正戊基、2-甲基正戊基、3-甲基正戊基、4-甲基正戊基、1，1-二甲基正丁基、1，2-二甲基正丁基、1，3-二甲基正丁基、2，2-二甲基正丁基、2，3-二甲基正丁基、3，3-二甲基正丁基、1-乙基正丁基、2-乙基正丁基、1，1，2-三甲基正丙基、1，2，2-三甲基正丙基、1-乙基-1-甲基正丙基、1-乙基-2-甲基正丙基、环己基、1-甲基环戊基、2-甲基环戊基、3-甲基环戊基、1-乙基环丁基、2-乙基环丁基、3-乙基环丁基、1，2-二甲基环丁基、1，3-二甲基环丁基、2，2-二甲基环丁基、2，3-二甲基环丁基、2，4-二甲基环丁基、3，3-二甲基环丁基、1-正丙基环丙基、2-正丙基环丙基、1-异丙基环丙基、2-异丙基环丙基、1，2，2-三甲基环丙基、1，2，3-三甲基环丙基、2，2，3-三甲基环丙基、1-乙基-2-甲基环丙基、2-乙基-1-甲基环丙基、2-乙基-2-甲基环丙基和2-乙基-3-甲基环丙基等。

作为上述芳基可以列举碳原子数6～40的芳基，可以列举出例如，苯基、邻甲基苯基、间甲基苯基、对甲基苯基、邻氯苯基、间氯苯基、对氯苯基、邻氟苯基、对氟苯基、邻甲氧基苯基、对甲氧基苯基、对硝基苯基、对氰基苯基、α-萘基、β-萘基、邻联苯基、间联苯基、对联苯基、1-蒽基、2-蒽基、9-蒽基、1-菲基、2-菲基、3-菲基、4-菲基和9-菲基等。

作为上述链烯基，可以列举出碳原子数2～10的链烯基，可以列举出例如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-甲基-1-乙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-甲基-2-丙烯基、1-乙基乙烯基、1-甲基-1-丙烯基、1-甲基-2-丙烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、1-正丙基乙烯基、1-甲基-1-丁烯基、1-甲基-2-丁烯基、1-甲基-3-丁烯基、2-乙基-2-丙烯基、2-甲基-1-丁烯基、2-甲基-2-丁烯基、2-甲基-3-丁烯基、3-甲基-1-丁烯基、3-甲基-2-丁烯基、3-甲基-3-丁烯基、1，1-二甲基-2-丙烯基、1-异丙基乙烯基、1，2-二甲基-1-丙烯基、1，2-二甲基-2-丙烯基、1-环戊烯基、2-环戊烯基、3-环戊烯基、1-己烯基、2-己烯基、3-己烯基、4-己烯基、5-己烯基、1-甲基-1-戊烯基、1-甲基-2-戊烯基、1-甲基-3-戊烯基、1-甲基-4-戊烯基、1-正丁基乙烯基、2-甲基-1-戊烯基、2-甲基-2-戊烯基、2-甲基-3-戊烯基、2-甲基-4-戊烯基、2-正丙基-2-丙烯基、3-甲基-1-戊烯基、3-甲基-2-戊烯基、3-甲基-3-戊烯基、3-甲基-4-戊烯基、3-乙基-3-丁烯基、4-甲基-1-戊烯基、4-甲基-2-戊烯基、4-甲基-3-戊烯基、4-甲基-4-戊烯基、1，1-二甲基-2-丁烯基、1，1-二甲基-3-丁烯基、1，2-二甲基-1-丁烯基、1，2-二甲基-2-丁烯基、1，2-二甲基-3-丁烯基、1-甲基-2-乙基-2-丙烯基、1-仲丁基乙烯基、1，3-二甲基-1-丁烯基、1，3-二甲基-2-丁烯基、1，3-二甲基-3-丁烯基、1-异丁基乙烯基、2，2-二甲基-3-丁烯基、2，3-二甲基-1-丁烯基、2，3-二甲基-2-丁烯基、2，3-二甲基-3-丁烯基、2-异丙基-2-丙烯基、3，3-二甲基-1-丁烯基、1-乙基-1-丁烯基、1-乙基-2-丁烯基、1-乙基-3-丁烯基、1-正丙基-1-丙烯基、1-正丙基-2-丙烯基、2-乙基-1-丁烯基、2-乙基-2-丁烯基、2-乙基-3-丁烯基、1，1，2-三甲基-2-丙烯基、1-叔丁基乙烯基、1-甲基-1-乙基-2-丙烯基、1-乙基-2-甲基-1-丙烯基、1-乙基-2-甲基-2-丙烯基、1-异丙基-1-丙烯基、1-异丙基-2-丙烯基、1-甲基-2-环戊烯基、1-甲基-3-环戊烯基、2-甲基-1-环戊烯基、2-甲基-2-环戊烯基、2-甲基-3-环戊烯基、2-甲基-4-环戊烯基、2-甲基-5-环戊烯基、2-亚甲基环戊基、3-甲基-1-环戊烯基、3-甲基-2-环戊烯基、3-甲基-3-环戊烯基、3-甲基-4-环戊烯基、3-甲基-5-环戊烯基、3-亚甲基环戊基、1-环己烯基、2-环己烯基和3-环己烯基等。

作为具有上述环氧基的有机基团，可以列举出(2，3-环氧丙氧基)甲基、(2，3-环氧丙氧基)乙基、(2，3-环氧丙氧基)丙基、(2，3-环氧丙氧基)丁基、环氧环己基等.

作为上述具有丙烯酰基的有机基团，可以列举出丙烯酰基甲基、丙烯酰基乙基、丙烯酰基丙基等。

作为上述具有甲基丙烯酰基的有机基团，可以列举出甲基丙烯酰基甲基、甲基丙烯酰基乙基、甲基丙烯酰基丙基等。

作为上述具有巯基的有机基团，可以列举出乙基巯基、丁基巯基、己基巯基、辛基巯基等。

作为上述酰基，可以列举出例如，甲酰基、乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、戊酰基、异戊酰基、苯甲酰基等。

作为上述具有氰基的有机基团，可以列举出氰基乙基、氰基丙基等。

作为上述烷氧基，可以列举出作为碳原子数1～20的烷氧基的，具有直链、支链和环状的烷基部分的烷氧基，可以列举出例如，甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、1-甲基正丁氧基、2-甲基正丁氧基、3-甲基正丁氧基、1，1-二甲基正丙氧基、1，2-二甲基正丙氧基、2，2-二甲基正丙氧基、1-乙基正丙氧基、正己基氧基、1-甲基正戊氧基、2-甲基正戊氧基、3-甲基正戊氧基、4-甲基正戊氧基、1，1-二甲基正丁氧基、1，2-二甲基正丁氧基、1，3-二甲基正丁氧基、2，2-二甲基正丁氧基、2，3-二甲基正丁氧基、3，3-二甲基正丁氧基、1-乙基正丁氧基、2-乙基正丁氧基、1，1，2-三甲基正丙氧基、1，2，2，-三甲基正丙氧基、1-乙基-1-甲基正丙氧基和1-乙基-2-甲基正丙氧基等。

作为上述酰氧基，是碳原子数2～20的酰氧基，可以列举出例如，甲基羰基氧基、乙基羰基氧基、正丙基羰基氧基、异丙基羰基氧基、正丁基羰基氧基、异丁基羰基氧基、仲丁基羰基氧基、叔丁基羰基氧基、正戊基羰基氧基、1-甲基正丁基羰基氧基、2-甲基正丁基羰基氧基、3-甲基正丁基羰基氧基、1，1-二甲基正丙基羰基氧基、1，2-二甲基正丙基羰基氧基、2，2-二甲基正丙基羰基氧基、1-乙基正丙基羰基氧基、正己基羰基氧基、1-甲基正戊基羰基氧基、2-甲基正戊基羰基氧基、3-甲基正戊基羰基氧基、4-甲基正戊基羰基氧基、1，1-二甲基正丁基羰基氧基、1，2-二甲基正丁基羰基氧基、1，3-二甲基正丁基羰基氧基、2，2-二甲基正丁基羰基氧基、2，3-二甲基正丁基羰基氧基、3，3-二甲基正丁基羰基氧基、1-乙基正丁基羰基氧基、2-乙基正丁基羰基氧基、1，1，2-三甲基正丙基羰基氧基、1，2，2-三甲基正丙基羰基氧基、1-乙基-1-甲基正丙基羰基氧基、1-乙基-2-甲基正丙基羰基氧基、苯基羰基氧基和甲苯磺酰基羰基氧基等。

此外，作为上述水解性基团的卤原子，可以列举出氟原子、氯原子、溴原子和碘原子等。

作为上述式(4)中的亚烷基，可以列举出碳原子数1～10的亚烷基，可以列举出例如，亚甲基、亚乙基、亚丙基、异亚丙基、亚丁基、亚辛基等。此外，可以使用由上述例示的链状或支链状烷基衍生出的二价有机基团作为亚烷基。

作为上述式(4)中的亚芳基，可以列举出碳原子数6～20的亚芳基，可以列举出例如，亚苯基、亚萘基、亚蒽基等。此外，可以使用由上述例示的芳基衍生出的二价有机基团作为亚芳基。

作为选自上述式(3)中的水解性硅烷，可以列举出例如，四甲氧基硅烷、四氯硅烷、四乙酰氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四乙酰氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三氯硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三戊氧基硅烷、甲基三苯氧基硅烷、甲基三苄基氧基硅烷、甲基三苯乙基氧基硅烷、(2，3-环氧丙氧基)甲基三甲氧基硅烷、(2，3-环氧丙氧基)甲基三乙氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)乙基三甲氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)乙基三乙氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)乙基三甲氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)乙基三乙氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三丙氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三丁氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基三苯氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)丁基三甲氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)丁基三乙氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)丁基三乙氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丁基三甲氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丁基三乙氧基硅烷、δ-(2，3-环氧丙氧基)丁基三甲氧基硅烷、δ-(2，3-环氧丙氧基)丁基三乙氧基硅烷、(3，4-环氧环己基)甲基三甲氧基硅烷、(3，4-环氧环己基)甲基三乙氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三丙氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三丁氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三苯氧基硅烷、γ-(3，4-环氧环己基)丙基三甲氧基硅烷、γ-(3，4-环氧环己基)丙基三乙氧基硅烷、δ-(3，4-环氧环己基)丁基三甲氧基硅烷、δ-(3，4-环氧环己基)丁基三乙氧基硅烷、(2，3-环氧丙氧基)甲基甲基二甲氧基硅烷、(2，3-环氧丙氧基)甲基甲基二乙氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)乙基甲基二甲氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)乙基甲基二乙氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)乙基甲基二甲氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)乙基乙基二甲氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷、α-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二乙氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷、β-(2，3-环氧丙氧基)丙基乙基二甲氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二丙氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二丁氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基甲基二苯氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基乙基二甲氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基乙基二乙氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基乙烯基二甲氧基硅烷、γ-(2，3-环氧丙氧基)丙基乙烯基二乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三氯硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三氯硅烷、苯基三乙酰氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、苯基三乙酰氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷、γ-氯丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三乙酰氧基硅烷、3，3，3-三氟丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三乙氧基硅烷、β-氰基乙基三乙氧基硅烷、氯甲基三甲氧基硅烷、氯甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基甲基二乙氧基硅烷、γ-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-氯丙基甲基二乙氧基硅烷、二甲基二乙酰氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯基甲基二乙氧基硅烷、甲基乙烯基二甲氧基硅烷、甲基乙烯基二乙氧基硅烷等。

此外，作为上述选自式(4)中的水解性硅烷，可以列举出例如，亚甲基二(三甲氧基硅烷)、亚甲基二(三氯硅烷)、亚甲基二(三乙酰氧基硅烷)、亚乙基二(三乙氧基硅烷)、亚乙基二(三氯硅烷)、亚乙基二(三乙酰氧基硅烷)、亚丙基二(三乙氧基硅烷)、亚丁基二(三甲氧基硅烷)、亚苯基二(三甲氧基硅烷)、亚苯基二(三乙氧基硅烷)、亚苯基二(甲基二乙氧基硅烷)、亚苯基二(甲基二甲氧基硅烷)、亚萘基二(三甲氧基硅烷)、六甲氧基乙硅烷、六乙氧基乙硅烷、二(乙基二乙氧基)乙硅烷、二(甲基二甲氧基)乙硅烷等。

上述(B)成分优选使用选自上述式(3)的a为0～2时的化合物中的至少1种水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物或它们的混合物。

上述式(3)和上述式(4)所示的水解性硅烷可以使用市售品。

由上述式(3)的水解性硅烷或上述式(3)和上述式(4)的水解性硅烷水解，其水解物缩合而成的聚硅氧烷的重均分子量为1000～1000000、或1000～100000。这些分子量是通过GPC分析，经聚苯乙烯换算得到的分子量。

合成聚硅氧烷时的水解催化剂的种类，可以列举出金属螯合化合物、有机酸、无机酸、有机碱性化合物和无机碱性化合物。

作为上述金属螯合化合物，可以列举出例如，三乙氧基·一(乙酰丙酮)钛、三正丙氧基·一(乙酰丙酮)钛、三异丙氧基·一(乙酰丙酮)钛、三正丁氧基·一(乙酰丙酮)钛、三仲丁氧基·一(乙酰丙酮)钛、三叔丁氧基·一(乙酰丙酮)钛、二乙氧基·双(乙酰丙酮)钛、二正丙氧基·双(乙酰丙酮)钛、二异丙氧基·双(乙酰丙酮)钛、二正丁氧基·双(乙酰丙酮)钛、二仲丁氧基·双(乙酰丙酮)钛、二叔丁氧基·双(乙酰丙酮)钛、单乙氧基·三(乙酰丙酮)钛、一正丙氧基·三(乙酰丙酮)钛、一异丙氧基·三(乙酰丙酮)钛、一正丁氧基·三(乙酰丙酮)钛、一仲丁氧基·三(乙酰丙酮)钛、一叔丁氧基·三(乙酰丙酮)钛、四(乙酰丙酮)钛、三乙氧基·一(乙酰乙酸乙酯)钛、三正丙氧基·一(乙酰乙酸乙酯)钛、三异丙氧基·一(乙酰乙酸乙酯)钛、三正丁氧基·一(乙酰乙酸乙酯)钛、三仲丁氧基·一(乙酰乙酸乙酯)钛、三叔丁氧基·一(乙酰乙酸乙酯)钛、二乙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)钛、二正丙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)钛、二异丙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)钛、二正丁氧基·双(乙酰乙酸乙酯)钛、二仲丁氧基·双(乙酰乙酸乙酯)钛、二叔丁氧基·双(乙酰乙酸乙酯)钛、单乙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)钛、一正丙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)钛、一异丙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)钛、一正丁氧基·三(乙酰乙酸乙酯)钛、一仲丁氧基·三(乙酰乙酸乙酯)钛、一叔丁氧基·三(乙酰乙酸乙酯)钛、四(乙酰乙酸乙酯)钛、一(乙酰丙酮)三(乙酰乙酸乙酯)钛、双(乙酰丙酮)双(乙酰乙酸乙酯)钛、三(乙酰丙酮)一(乙酰乙酸乙酯)钛等钛螯合化合物；三乙氧基·一(乙酰丙酮)锆、三正丙氧基·一(乙酰丙酮)锆、三异丙氧基·一(乙酰丙酮)锆、三正丁氧基·一(乙酰丙酮)锆、三仲丁氧基·一(乙酰丙酮)锆、三叔丁氧基·一(乙酰丙酮)锆、二乙氧基·双(乙酰丙酮)锆、二正丙氧基·双(乙酰丙酮)锆、二异丙氧基·双(乙酰丙酮)锆、二正丁氧基·双(乙酰丙酮)锆、二仲丁氧基·双(乙酰丙酮)锆、二叔丁氧基·双(乙酰丙酮)锆、单乙氧基·三(乙酰丙酮)锆、一正丙氧基·三(乙酰丙酮)锆、一异丙氧基·三(乙酰丙酮)锆、一正丁氧基·三(乙酰丙酮)锆、一仲丁氧基·三(乙酰丙酮)锆、一叔丁氧基·三(乙酰丙酮)锆、四(乙酰丙酮)锆、三乙氧基·一(乙酰乙酸乙酯)锆、三正丙氧基·一(乙酰乙酸乙酯)锆、三异丙氧基·一(乙酰乙酸乙酯)锆、三正丁氧基·一(乙酰乙酸乙酯)锆、三仲丁氧基·一(乙酰乙酸乙酯)锆、三叔丁氧基·一(乙酰乙酸乙酯)锆、二乙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)锆、二正丙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)锆、二异丙氧基·双(乙酰乙酸乙酯)锆、二正丁氧基·双(乙酰乙酸乙酯)锆、二仲丁氧基·双(乙酰乙酸乙酯)锆、二叔丁氧基·双(乙酰乙酸乙酯)锆、单乙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)锆、一正丙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)锆、一异丙氧基·三(乙酰乙酸乙酯)锆、一正丁氧基·三(乙酰乙酸乙酯)锆、一仲丁氧基·三(乙酰乙酸乙酯)锆、一叔丁氧基·三(乙酰乙酸乙酯)锆、四(乙酰乙酸乙酯)锆、一(乙酰丙酮)三(乙酰乙酸乙酯)锆、双(乙酰丙酮)双(乙酰乙酸乙酯)锆、三(乙酰丙酮)一(乙酰乙酸乙酯)锆等锆螯合化合物；三(乙酰丙酮)铝、三(乙酰乙酸乙酯)铝等铝螯合化合物等。

作为上述有机酸，可以列举出例如，乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、草酸、马来酸、甲基丙二酸、己二酸、癸二酸、没食子酸、丁酸、苯六甲酸、花生四烯酸、2-乙基己酸、油酸、硬脂酸、亚油酸、亚麻酸、水杨酸、苯甲酸、对氨基苯甲酸、对甲苯磺酸、苯磺酸、一氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、三氟乙酸、甲酸、丙二酸、磺酸、苯二甲酸、富马酸、柠檬酸、酒石酸等。

作为上述无机酸，可以列举出例如，盐酸、硝酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等。

作为上述有机碱性化合物，可以列举出例如，吡啶、吡咯、哌嗪、吡咯烷、哌啶、甲基吡啶、三甲基胺、三乙基胺、一乙醇胺、二乙醇胺、二甲基一乙醇胺、单甲基二乙醇胺、三乙醇胺、二氮杂双环辛烷、二氮杂双环壬烷、二氮杂双环十一烯、四甲基氢氧化铵、1，8-二氮杂双环[5，4，0]-7-十一烯等。

作为上述无机碱性化合物可以列举出例如，氨、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钡、氢氧化钙等。

在上述水解催化剂中优选金属螯合化合物、有机酸和无机酸，它们可以使用1种或2种以上同时使用。

在烷氧基甲硅烷基、酰氧基甲硅烷基和卤化甲硅烷基的水解中，每1摩尔上述水解性基团使用0.1～100摩尔、或0.1～10摩尔、或1～5摩尔、或2～3.5摩尔水。

此外，相对于1摩尔水解性基团，可以使用0.0001～10摩尔、优选0.001～2摩尔的水解催化剂。

使水解性硅烷水解、并使其水解物缩合时的反应温度通常为20℃(室温)以上、水解中使用的溶剂的常压下的回流温度以下的范围。

水解可以进行完全水解，此外也可以进行部分水解。也就是说，水解缩合物中可以残留有水解物和单体。

作为得到聚硅氧烷的方法没有特别限定，可以列举出例如，对硅化合物、溶剂和草酸的混合物进行加热的方法。具体地说，是预先在醇中加入草酸制成草酸的醇溶液，然后将该溶液和硅化合物混合，并加热的方法。此时草酸的量相对于硅化合物所具有的所有烷氧基1摩尔一般为0.2～2摩尔。该方法中的加热可以在液温50～180℃下进行，优选以不发生液体蒸发、挥散的方式在例如密闭容器中回流几十分钟至几十小时。此外，聚硅氧烷的合成时既可以是向硅化合物中加入溶剂和草酸的混合物进行反应的顺序，也可以向溶剂和草酸的混合物中加入硅化合物进行反应的顺序。

合成聚硅氧烷时的反应温度，为了稳定合成均匀的聚合物，可以在0～50℃的反应温度下反应24～2000小时。

作为水解时使用的有机溶剂，可以列举出例如，正戊烷、异戊烷、正己烷、异己烷、正庚烷、异庚烷、2，2，4-三甲基戊烷、正辛烷、异辛烷、环己烷、甲基环己烷等脂肪族烃系溶剂；苯、甲苯、二甲苯、乙苯、三甲基苯、甲基乙基苯、正丙基苯、异丙基苯、二乙基苯、异丁基苯、三乙基苯、二异丙基苯、正戊基萘、三甲基苯等芳香族烃系溶剂；甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、仲丁醇、叔丁醇、正戊醇、异戊醇、2-甲基丁醇、2-戊醇、叔戊醇、3-甲氧基丁醇、正己醇、2-甲基戊醇、2-己醇、2-乙基丁醇、2-庚醇、3-庚醇、正辛醇、2-乙基己醇、2-辛醇、正壬醇、2，6-二甲基-4-庚醇、正癸醇、2-十一碳醇、三甲基壬醇、2-十四碳醇、2-十七碳醇、苯酚、环己醇、甲基环己醇、3，3，5-三甲基环己醇、苄基醇、苯基甲基甲醇、二丙酮醇、甲酚等一元醇系溶剂；乙二醇、丙二醇、1，3-丁二醇、2，4-戊二醇、2-甲基-2，4-戊二醇、2，5-己二醇、2，4-庚二醇、2-乙基-1，3-己二醇、二甘醇、双丙甘醇、二缩三乙二醇、二缩三丙二醇、丙三醇等多元醇系溶剂；丙酮、丁酮、甲基正丙基酮、甲基正丁基酮、二乙基酮、甲基异丁基酮、甲基正戊基酮、乙基正丁基酮、甲基正己基酮、二异丁基酮、三甲基壬酮、环己酮、甲基环己酮、2，4-戊二酮、乙酰丙酮、二丙酮醇、苯乙酮、葑酮等酮系溶剂；乙醚、异丙醚、正丁醚、正己基醚、2-乙基己基醚、环氧乙烷、1，2-环氧丙烷、二氧戊环、4-甲基二氧戊环、二 烷、二甲基二 烷、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇二乙基醚、乙二醇一正丁基醚、乙二醇一正己基醚、乙二醇单苯基醚、乙二醇一2-乙基丁基醚、乙二醇二丁基醚、二甘醇单甲基醚、二甘醇单乙基醚、二甘醇二乙基醚、二甘醇一正丁基醚、二甘醇二正丁基醚、二甘醇一正己基醚、乙氧基三甘醇、三缩四乙二醇二正丁基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇单丙基醚、丙二醇单丁基醚、双丙甘醇单甲基醚、双丙甘醇单乙基醚、双丙甘醇单丙基醚、双丙甘醇单丁基醚、二缩三丙二醇单甲基醚、四氢呋喃、2-甲基四氢呋喃等醚系溶剂；碳酸二乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、γ-丁内酯、γ-戊内酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸仲丁酯、乙酸正戊酯、乙酸2-戊酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸甲基戊酯、乙酸2-乙基丁酯、乙酸2-乙基己酯、乙酸苄酯、乙酸环己酯、乙酸甲基环己酯、乙酸正壬酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇单甲基醚乙酸酯、二甘醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇一正丁基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单丙基醚乙酸酯、丙二醇单丁基醚乙酸酯、双丙甘醇单甲基醚乙酸酯、双丙甘醇单乙基醚乙酸酯、二乙酸乙二醇酯、甲氧基三甘醇乙酸酯、丙酸乙酯、丙酸正丁酯、丙酸异戊酯、草酸二乙酯、草酸二正丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丁酯、乳酸正戊酯、丙二酸二乙酯、苯二甲酸二甲酯、苯二甲酸二乙酯等酯系溶剂；N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基丙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等含氮系溶剂；二甲硫醚、二乙硫醚、噻吩、四氢噻吩、二甲亚砜、环丁砜、1，3-丙烷磺内酯等含硫系溶剂等。这些有机溶剂可以使用1种或2种以上组合使用。

作为上述有机溶剂，由于一般水解性硅烷的水解物发生缩聚反应而生成醇，所以可以使用醇类或与醇类相容性良好的有机溶剂。作为这种有机溶剂的具体例，特别优选列举出甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、正丁醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二甘醇单甲基醚、二甘醇单乙基醚、乙酸正丙酯、乳酸乙酯、丁酮、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚、环己酮等。

通过使水解性硅烷在溶剂中水解，并使其水解物发生缩合反应，可以得到缩合物(聚硅氧烷)。该缩合物以溶解在水解溶剂中的聚硅氧烷清漆的形式得到。

也可以将所得的聚硅氧烷清漆进行溶剂替换。具体地讲，在选择乙醇作为水解和缩合时的溶剂(合成时的溶剂)的情况中，在得到在乙醇中的聚硅氧烷之后，加入与合成时的溶剂等量的替换用溶剂，使用旋转蒸发仪等通过共沸蒸馏除去乙醇。为了在溶剂替换时使合成时的溶剂通过共沸蒸馏除去，优选合成时的溶剂比替换用溶剂沸点低。例如，水解和缩合时的溶剂可以列举出甲醇、乙醇、异丙醇等，替换用溶剂可以列举出丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、环己酮等。

上述聚硅氧烷清漆的稀释、替换等时使用的溶剂既可以是与水解性硅烷的水解和缩聚时使用的溶剂相同的溶剂，也可以是不同的溶剂。该溶剂只要不破坏与聚硅氧烷和氨基酸产生剂的相容性就没有特别限定，可以任意选择使用一种或多种。

这种作为(C)成分的溶剂，可以列举出例如，甲苯、对二甲苯、邻二甲苯、苯乙烯、乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚、乙二醇单甲基醚、丙二醇、丙二醇单乙基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单异丙基醚、乙二醇甲

氨基酸产生剂和含有氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。