专利摘要
专利摘要
本实用新型属于二维成像技术领域,尤其为一种太赫兹光谱二维成像结构,包括手持显示屏以及手持显示屏外部套接的防护胶套,所述防护胶套的边缘处设置有缓冲空腔,所述防护胶套的表面一体成型有外胶套,所述外胶套和防护胶套之间安装有透明软膜,所述透明软膜与手持显示屏的显示面接触,所述透明软膜的表面粘合有限位条,所述防护胶套的表面开设有限位槽,且所述限位条安装在限位槽的内部;通过防护胶套边缘处设置的缓冲空腔,增加了防护胶套外边缘的缓冲性能,便于手持显示屏通过外部套接的防护胶套进行防护,提高了手持显示屏使用的安全性,同时手持显示屏表面设置的透明软膜通过防护胶套表面粘合的外胶套进行定位。
权利要求
1.一种太赫兹光谱二维成像结构,包括手持显示屏(1)以及手持显示屏(1)外部套接的防护胶套(2),其特征在于:所述防护胶套(2)的边缘处设置有缓冲空腔(3),所述防护胶套(2)的表面一体成型有外胶套(4),所述外胶套(4)和防护胶套(2)之间安装有透明软膜(5),所述透明软膜(5)与手持显示屏(1)的显示面接触,所述透明软膜(5)的表面粘合有限位条(6),所述防护胶套(2)的表面开设有限位槽(7),且所述限位条(6)安装在限位槽(7)的内部,所述防护胶套(2)两端均粘合有弹力胶条(8),所述手持显示屏(1)靠近弹力胶条(8)的端部一体成型有支撑块(9),所述防护胶套(2)的表面粘合有指套(10)。
2.根据权利要求1所述的一种太赫兹光谱二维成像结构,其特征在于:所述透明软膜(5)为板状结构,且所述透明软膜(5)的中部向内凹陷。
3.根据权利要求1所述的一种太赫兹光谱二维成像结构,其特征在于:所述外胶套(4)、限位条(6)和限位槽(7)均为圆环状,所述限位条(6)的厚度与限位槽(7)的宽度相等。
4.根据权利要求1所述的一种太赫兹光谱二维成像结构,其特征在于:所述缓冲空腔(3)为环形,且所述缓冲空腔(3)位于防护胶套(2)外边缘处。
5.根据权利要求1所述的一种太赫兹光谱二维成像结构,其特征在于:所述防护胶套(2)两端粘合的弹力胶条(8)以及防护胶套(2)表面粘合的指套(10)均设置有两个。
6.根据权利要求1所述的一种太赫兹光谱二维成像结构,其特征在于:所述支撑块(9)为弧形结构,且所述支撑块(9)的圆心处于弹力胶条(8)的中的处。
一种太赫兹光谱二维成像结构专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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