专利摘要

专利摘要

一种基于人工表面等离子体激元SSPP的传输线，包括介质基片；位于所述介质基片一侧的人工表面等离子体激元；位于所述介质基片另一侧的金属层，所述金属层用于接地；其中，所述人工表面等离子体激元包括：用于传输SSPP波的直角凹槽阵列结构、用于使SSPP波的电场发生偏转的斜角凹槽阵列结构，以及设置于所述直角凹槽阵列结构与所述斜角凹槽阵列结构之间的第一过渡凹槽阵列结构，所述斜角凹槽阵列结构中的斜角凹槽的延伸方向与所述直角凹槽阵列结构中的直角凹槽的延伸方向之间具有锐角夹角。本实用新型提供的传输线可以实现多极化和小型化。

权利要求

1.一种基于人工表面等离子体激元SSPP的传输线，其特征在于，包括：

介质基片；

位于所述介质基片一侧的人工表面等离子体激元；

位于所述介质基片另一侧的金属层，所述金属层用于接地；

其中，所述人工表面等离子体激元包括：

用于传输SSPP波的直角凹槽阵列结构、用于使SSPP波的电场发生偏转的斜角凹槽阵列结构，以及设置于所述直角凹槽阵列结构与所述斜角凹槽阵列结构之间的第一过渡凹槽阵列结构，所述斜角凹槽阵列结构中的斜角凹槽的延伸方向与所述直角凹槽阵列结构中的直角凹槽的延伸方向之间具有锐角夹角。

2.根据权利要求1所述的传输线，其特征在于，所述第一过渡凹槽阵列结构中包括多个延伸方向不同的斜角凹槽，且沿着靠近所述斜角凹槽阵列结构的方向，所述第一过渡凹槽阵列结构中的斜角凹槽的延伸方向与所述斜角凹槽阵列结构中的斜角凹槽的延伸方向之间的夹角逐渐减小。

3.根据权利要求1所述的传输线，其特征在于，还包括：

馈电结构；

设置于所述馈电结构与所述直角凹槽阵列结构之间的第二过渡凹槽阵列结构，所述第二过渡凹槽阵列结构包括多个不同深度的直角凹槽，且沿着靠近所述直角凹槽阵列结构的方向，所述第二过渡凹槽阵列结构中的直角凹槽的深度逐渐增加。

4.根据权利要求3所述的传输线，其特征在于，所述直角凹槽阵列结构包括多个深度相同的直角凹槽，且所述直角凹槽阵列结构中的直角凹槽的深度大于等于所述第二过渡凹槽阵列结构中深度最大的直角凹槽的深度。

5.根据权利要求3所述的传输线，其特征在于，在所述斜角凹槽阵列结构的两侧，且沿着远离所述斜角凹槽阵列结构的方向，依次设置所述第一过渡凹槽阵列结构、直角凹槽阵列结构、第二过渡凹槽阵列结构以及所述馈电结构。

6.根据权利要求3所述的传输线，其特征在于，所述馈电结构为微带线结构，或共面波导馈电结构。

7.根据权利要求1所述的传输线，其特征在于，所述锐角夹角为大于0°且小于等于60°。

8.根据权利要求1所述的传输线，其特征在于，所述锐角夹角为45°。

9.一种基站结构，其特征在于，包含权利要求1-8中任一项所述的传输线。

10.一种雷达结构，其特征在于，包含权利要求1-8中任一项所述的传输线。

一种基于人工表面等离子体激元SSPP的传输线专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。