专利摘要

专利摘要

本发明提供贴附于光罩后很容易即可剥离的防护胶膜框架、及利用该防护胶膜框架的照相平版印刷用防护胶膜组件。本发明的防护胶膜框架的特征为，框架的长边长度为500mm以上的大型防护胶膜组件时，角部(12)的50mm以内的外侧面至少设有1处凹部(13)。此外，防护胶膜框架(11)的外侧面整体配设5处以上的凹部(13)，凹部(13)为直径1.0mm以上、3.0mm以下、深度0.5mm以上的未贯穿的圆孔。其次，利用此种防护胶膜框架来构成防护胶膜组件。

权利要求

1.一种防护胶膜框架，其特征在于，在框架的长边长度为500mm以上的大型防护胶膜组件中，角部附近50mm以内的外侧面至少设有1处凹部。

2.一种防护胶膜框架，其特征在于，在框架的长边长度为500mm以上的大型防护胶膜组件中，在外侧面整体设置5处以上的凹部。

3.根据权利要求1或2所述的防护胶膜框架，其特征在于，该凹部是直径为1.0mm以上、3.0mm以下、深度为0.5mm以上的未贯穿的圆孔。

4.一种防护胶膜组件，其特征在于，是由权利要求1至3中任一所述的防护胶膜框架所构成。

说明书

技术领域

本发明关于制造半导体装置、印刷电路板、或液晶显示器等时被当做除尘器使用的平版印刷用防护胶膜组件，尤其是，与液晶显示器制造所使用的大型防护胶膜组件相关。

背景技术

LSI等的半导体装置或液晶显示器等的制造时，是利用对半导体晶圆或液晶用玻璃原板照射光来形成图案，然而，此时所使用的光罩或标线片(以下简称为光罩)若附着着灰尘，则该灰尘会阻隔光、或使光转向，而有转印的图案受损的问题。

因此，相关作业通常是在无尘室内进行，然而，仍然难以随时都保持光罩的清净。因此，采用在光罩表面贴附防护胶膜组件当做除尘器使用的方法。

此时，因为异物不会直接附着于光罩的表面而附着于防护胶膜组件，在平版印刷时，只要使焦点对准光罩的图案，则防护胶膜组件上的异物不会影响转印。

该防护胶膜组件通常是将由光可良好透射的硝化纤维、醋酸赛路素、或氟系树脂等所构成的透明防护胶膜膜片利用涂布防护胶膜膜片的良好溶媒并风干再粘着于(参照专利文献1)、或利用压克力树脂或环氧树脂等粘着剂粘着于(参照专利文献2及专利文献3)铝、不锈钢、以及聚乙烯等所构成的防护胶膜框架的上端面，并在防护胶膜框架的下端配设以装设光罩为目的的由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、及压克力树脂等所构成的粘着层、以及以保护粘着层为目的的脱膜层(隔离层)。

此外，亦有如下所示者，亦即，在将防护胶膜组件贴附于光罩的状态，以消除防护胶膜组件内部所包围的空间与外部的气压差为目的，在防护胶膜框架的一部分形成气压调整用小孔，并设置以防止经过小孔移动的空气所造成的异物侵入为目的的滤网(参照专利文献4)。

防护胶膜组件的制造上，组装及搬送时必须保持防护胶膜框架，如图6所示，一般是在防护胶膜框架的外侧面设置沟或凹部63，然而插入销等来进行保持。一般而言，在相对的2边各设置2处凹部，共计设置4处。此时，为了在利用销等保持防护胶膜框架时不易出现上下方向的变形，该凹部63通常配设于距离角部62大约框架边长的20～30％程度的位置。

贴附于光罩的防护胶膜组件若因为某种理由而必须换贴时，则必须将其剥离。此时，可利用以下的方法来剥离，亦即，将板状的夹具插入屏蔽粘着层使框架向上抬起来进行剥离的方法，或者，如图5(a)、(b)所示，将销状的夹具54插入上述配设于防护胶膜框架外侧面的凹部52，再利用杠杆原理使防护胶膜框架51向上抬起来进行剥离的方法等。

将板状的夹具插入屏蔽粘着层时，因为可以从防护胶膜框架的全圆周进入插入，故具有可从容易剥离的一端依序进行剥离的优点，然而，可能会对光罩造成伤害，故不是最佳的方法。

另一方面，将销状的夹具插入配设于防护胶膜框架外侧面的凹部的方法时，则出现上述危险的机会较小。然而，如上面所述，一般只设置4处的凹部，而且，其位置也是未考虑到应用于剥离时的位置。因此，边长超过500mm的大型防护胶膜组件时，因为一次的剥离面积较大，而有剥离时需要极大力量的问题。

此外，利用剥离夹具将防护胶膜框架向上抬起的期间，防护胶膜框架会发生变形，或者，销外围的部分范围虽然被剥离而向上抬起，但在移除剥离夹具后，防护胶膜框架几乎回到原来的位置，而且，大部分会再度粘着。结果，出现极难剥离整体防护胶膜组件的问题。

发明内容

有鉴于上述问题，本发明的目的是在提供贴附于光罩后很容易剥离的大型防护胶膜框架、及利用该防护胶膜框架的照相平版印刷用防护胶膜组件。

以解决上述课题为目的的本发明的防护胶膜框架，是于框架的长边长度为500mm以上的大型防护胶膜组件中，角部附近的50mm以内的外侧面至少设有1处凹部。

此外，防护胶膜框架的外侧面整体应配置5处以上的凹部，凹部应为直径为1.0mm以上、3.0mm以下、深度为0.5mm以上的未贯穿的圆孔。

其次，利用上述防护胶膜框架来构成防护胶膜组件。

依据本发明，即使为长边长度超过500mm的大型防护胶膜组件，因为角部的50mm以内的位置配设着凹部，从光罩基板剥离时，因为可从角部开始进行剥离，故剥离所需要的力量较小，此外，角部附近的防护胶膜框架从角部外围至内侧会朝上反翘并产生塑性变形而不易再度粘着，故剥离极为容易。此外，若利用配置于非位于角部附近的凹部，即使为边长超过700mm的特大型防护胶膜组件时，因为可逐步针对一部分进行剥离，故很容易即可剥离。

附图说明

图1是本发明的防护胶膜框架的一实施形态的说明图。

图2是从玻璃基板剥离本发明的防护胶膜框架的状态的概略说明图。

图3是用以说明配设于本发明的防护胶膜框架的凹部的剖面图。

图4(a)是本发明的防护胶膜框架的另一实施形态的说明图。

图4(b)是本发明的防护胶膜框架的又一实施形态的说明图。

图5(a)是利用剥离夹具剥离防护胶膜组件的状态的概略说明图，是开始剥离的状态。

图5(b)是利用剥离夹具剥离防护胶膜组件的状态的概略说明图，是正在进行剥离的状态。

图6是传统的防护胶膜框架的实例的说明图。

图7是从玻璃基板剥离传统的防护胶膜框架的状态的概略说明图。

主要组件符号说明

11  防护胶膜框架

12  角部

13  凹部

14  屏蔽粘着层

15  石英玻璃基板

16  防护胶膜膜片

17  防护胶膜膜片粘着层

21  防护胶膜框架

22  角部

23  (角部附近的)凹部

24  (追加的)凹部

31  防护胶膜框架

32  角部

33  凹部

34  凹部

51  防护胶膜框架

52  凹部

53  石英玻璃基板

54  剥离夹具

55  屏蔽粘着层

61  防护胶膜框架

62  角部

63  凹部

64  屏蔽粘着层

65  石英玻璃基板

66  (防护胶膜框架因剥离而变形)间隙

具体实施方式

以下，参照附图，针对本发明的实施形态进行说明，然而，本发明并未受限于此。

图1是本发明的防护胶膜框架的一实施形态的说明图，图2是将本发明的防护胶膜框架从玻璃基板剥离后的状态的概略说明图，图3是用以说明配设于本发明的防护胶膜框架的凹部的剖面图，图4(a)是本发明的防护胶膜框架的另一实施形态的说明图，图4(b)是本发明的防护胶膜框架的又一实施形态的说明图，图5是利用剥离夹具剥离防护胶膜组件的状态的概略说明图，图5(a)是开始剥离的状态，图5(b)是正在进行剥离的状态。

图1中，防护胶膜框架11的长边在角部12的附近50mm以内的部分配设着凹部13。

因此，将销等的剥离夹具插入该凹部13进行剥离时，如图2所示，因为是从角部开始剥离，故剥离所需要的力量较小，此外，防护胶膜框架在角部附近会朝上方产生塑性变形而难以再度粘着，故剥离极为容易。然而，该凹部13的位置必须为角部12的50mm以内，大于以上的距离时，剥离所需要的剥离力会明显增加，而且，角部要完全剥离也较为困难，而无法得到预期的效果。

传统上，此种凹部是以保持为目的，在对边上各设置2个，而在注意荷重均衡的情形下进行定位，一般是配设4处，然而，本发明时，除了原来以保持防护胶膜框架为目的的凹部以外，尚在考虑到剥离的位置上增设凹部，或者，根本就只配置考虑到剥离的凹部，而可以更容易地进行剥离。

此外，凹部应为直径1.0mm以上、3mm以下、深度0.5mm以上的未贯穿的圆孔。传统的凹部是着眼于保持，故保持器具可卡合即可，其直径与深度未必适合剥离夹具。

其次，若使用此种防护胶膜框架来构成防护胶膜组件，非常容易从光罩剥离该防护胶膜组件。

此实施形态时，凹部13配置于长边的角部12附近，然而，亦可配置于短边。此外，亦可配置于短边及长边的双方(图4(b))。此外，亦可分开配设以保持防护胶膜框架为目的的凹部、及使用于剥离的凹部(图4(a))。

图3是该凹部应有的形状的剖面图，基本上，其剖面为圆形。因为是圆形，故容易加工，而且，与通常所使用的圆形的销的嵌合亦较良好。此外，若考虑与保持或剥离所使用的销的充分嵌合，应以0.5mm以上的深度为佳。

直径应为1mm以上、3mm以下，2～2.5mm的范围为佳。1mm以下时，很难维持使用于保持或剥离的销的强度，而无法满足良好精度的保持及剥离所要求的强度。此外，3mm以上时，防护胶膜框架的缺损量变多，除了有使用上的强度问题以外，剥离时，凹部的周围容易出现翻卷或缺损，而有不易剥离的问题。此外，孔(凹部)底部的形状如图所示，可以保持钻头前端的形状，亦可整修成球面或平面等。

通常，所有凹部的大小.形状都相同的话，加工较为容易，然而，例如，若依据位置及用途考虑销的插入容易度，则应追求各处的最佳化。

图4(a)是另一实施形态，在角部22附近的凹部23的内侧配设着多个其它凹部24。此外，图4(b)中，长边及短边(追加)均配设着凹部34。依据此种形态，边长超过700mm的特大型防护胶膜框架时，可依序从角部开始插入销再逐步进行剥离，故从光罩的剥离更为容易。

如以上所述，本发明时，考虑传统防护胶膜框架的朝下变形的位置，而在比其更为外侧的角部附近配设凹部。因此，利用销保持防护胶膜框架时，可能会因为本身重量而朝下变形，然而，利用上述实施形态所示的4处以上的孔来保持防护胶膜框架，就可防止上述情形，此外，在制造装置配设下侧支撑的手段亦很容易进行补正。

【实施例1】

以下，针对本发明的实施例进行说明，然而，本发明并未受限于此。

利用机械加工制作图1所示的形状的铝合金制防护胶膜框架11。该防护胶膜框架11的形状为外侧尺寸782×474mm、内侧尺寸768×456mm、高度5mm的长方形。此处，凹部13是分别位于与长边侧面的角部12的距离为36mm的位置，相对侧面合计共配置4处，其形状为直径2.5mm、深度2.5mm的未贯穿的圆孔。

对该防护胶膜框架进行洗净、干燥后，在一端面涂布硅粘着剂当做防护胶膜膜片粘着剂，在另一端面涂布以甲苯稀释成50％的硅粘着剂(商品名称：KR120、信越化学工业(股)制)当做屏蔽粘着剂，利用加热进行烘焙。

此外，利用旋涂法在800×920×厚度8mm的长方形石英基板上形成氟系聚合物(商品名称：CYTOP、旭硝子(股)制)的薄膜，将其粘着于与基板外型为相同形状的框体并进行剥离，而得到厚度约4μm的防护胶膜膜片，再将其贴附于该防护胶膜框架。其次，以裁刀切除防护胶膜框架周围的不需要的膜而成为防护胶膜组件。完成的防护胶膜组件的凹部外围的剖面构造如图3所示。

如图5(a)所示，以120kg的荷重将此完成的防护胶膜组件51贴附于520×800mm×厚度8mm的平滑石英玻璃基板53后，将剥离夹具54插入凹部52，进行从石英玻璃基板53的剥离试验。

结果，在剥离夹具54的操作下，如图2及图5(b)所示的情形下，角部可完全剥离，对4处凹部全部执行剥离操作时，只有防护胶膜框架的各边的中央部无法剥离而处于残留状态。其后，以手直接抓住防护胶膜框架缓慢向上拉起，即可完全从石英玻璃基板剥离。

【实施例2】

利用机械加工制作图4(a)所示的形状的铝合金制防护胶膜框架21。该防护胶膜框架21的形状是与实施例1相同的外侧尺寸782×474mm、内侧尺寸768×456mm、高度5mm的长方形。此处，凹部是分别位于与长边侧面的角部22的距离为36mm的位置，共计配设4处(23)，其次，在分别位于与角部22的距离为166mm的位置配设4处(24)，其形状为直径2.5mm、深度2.5mm的未贯穿的圆孔。其次，对该防护胶膜框架21进行洗净、干燥后，利用与上述实施例1相同的步骤整修成防护胶膜组件。

以120kg的荷重于将此完成的防护胶膜组件贴附于520×800mm×厚度8mm的平滑石英玻璃基板后，从接近角部之处开始进行与上述实施例1相同的从玻璃基板的剥离试验。结果，在剥离夹具54的操作下，很容易即可将防护胶膜框架向上抬起，其后，依序针对相邻的凹部进行相同操作，一次即可将防护胶膜框架整体完全剥离，一部分会再度接触而处于极轻度粘着的状态。其后，以手直接抓住防护胶膜框架缓慢向上拉起，很容易即可将其从玻璃基板剥离。

【比较例】

利用机械加工制作图6所示的形状的铝合金制防护胶膜框架61。该防护胶膜框架61的形状是与实施例1相同的外侧尺寸782×474mm、内侧尺寸768×456mm、高度5mm的长方形。此处，凹部63是分别位于与长边侧面的角部62的距离为170mm的位置，共计配设4处，其形状为直径2.5mm、深度2.5mm的未贯穿的圆孔。其次，对该防护胶膜框架61进行洗净、干燥后，利用与上述实施例1相同的步骤整修成防护胶膜组件。

以与上述实施例相同的方式将此完成的防护胶膜组件贴附于石英玻璃基板，进行剥离试验。剥离时，需要极大的力量，而且，如图7所示，凹部63外围的防护胶膜框架61只会向上浮起少许而产生间隙65，凹部63外围以外的区域无法剥离。其次，利用夹具无法再将防护胶膜框架61向上抬起，而处于无法进一步剥离的状态。

依据本发明，必须剥离光罩及防护胶膜组件时，因为很容易、很简便、很安全、只需较小的力量即可剥离，故在利用防护胶膜组件的平版印刷的技术领域，有极高的利用价值。

防护胶膜框架专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。