专利摘要

本实用新型公开了一种真空室用降温装置，包括底板、盖板、水冷管，所述底板通过固定柱安装在真空室壁上，在底板朝向真空室一面开有S型迂回弯曲的水冷槽，水冷槽均匀分布在底板上，水冷管穿透真空室壁后嵌在水冷槽中，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过密封装置密封，盖板通过螺栓固定在底板上并封住水冷管。本实用新型通过均匀分布的水冷管来降低盖板的温度，通过间接吸收热量的方式来吸收基片表面的温度以达到降温的目的，吸热更加均匀，盖板同时可对水冷管起到保护作用，安装时整体安装，安装维护方便，安装维护时不会有冷却水进入真空室。

权利要求

1.一种真空室用降温装置，其特征在于：包括底板、盖板、水冷管，所述底板通过固定柱安装在真空室壁上，在底板朝向真空室一面开有S型迂回弯曲的水冷槽，水冷槽均匀分布在底板上，水冷管穿透真空室壁后嵌在水冷槽中，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过密封装置密封，盖板通过螺栓固定在底板上并封住水冷管。

2.如权利要求1所述的一种真空室用降温装置，其特征在于：水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过可拆卸的静密封装置密封。

3.如权利要求1或2所述的一种真空室用降温装置，其特征在于：包括上下两组拼接在一起的底板、盖板、水冷管，上部水冷管和下部水冷管的出水端和进水端集中设置在一处，下部水冷管从上部底板下方穿过后进入下部的底板中。

4.如权利要求3所述的一种真空室用降温装置，其特征在于：在上部盖板与下部盖板拼接缝处设有护板盖住拼接缝。

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体是一种真空室用降温装置。

背景技术

在真空镀膜生产线中，基片镀膜完成后，需要对基片进行梯度降温，以避免温差过大导致膜层开裂或脱落的现象。现有的降温方式主要是在真空室内部直接通过金属软管引入冷却水，如果在安装过程中安装不到位，会导致冷却水进入真空室而引起不能正常生产，同时，在拆卸维护的时候经常性会有水进入真空室形成污染，需要进行维修，从而耽误生产周期。

发明内容

针对上述现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种安装使用方便、吸热效果好的真空室用降温装置。

本实用新型采用的技术方案如下：一种真空室用降温装置，包括底板、盖板、水冷管，所述底板通过固定柱安装在真空室壁上，在底板朝向真空室一面开有S型迂回弯曲的水冷槽，水冷槽均匀分布在底板上，水冷管穿透真空室壁后嵌在水冷槽中，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过密封装置密封，盖板通过螺栓固定在底板上并封住水冷管。

进一步地，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过可拆卸的静密封装置密封。

进一步地，包括上下两组拼接在一起的底板、盖板、水冷管，上部水冷管和下部水冷管的出水端和进水端集中设置在一处，下部水冷管从上部底板下方穿过后进入下部的底板中。

进一步地，在上部盖板与下部盖板拼接缝处设有护板盖住拼接缝。

本实用新型通过水冷管把大气下的冷却水引入到真空环境下，通过均匀分布的水冷管来降低盖板的温度，通过间接吸收热量的方式来吸收基片表面的温度以达到降温的目的，吸热更加均匀，盖板同时可对水冷管起到保护作用，该装置底板、盖板、水冷管集成在一起，安装时整体安装，安装维护方便，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过可拆卸的静密封装置密封，安装维护时不会有冷却水进入真空室。

附图说明

图1是本实用新型实施例的侧面结构示意图。

图2是本实用新型实施例的水冷管分布示意图。

图3是本实用新型实施例的正面示意图。

图4是图3中B-B向示意图。

图5是图1中A处局部放大图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本实用新型作更全面、细致地描述，但本实用新型的保护范围并不限于以下具体的实施例。

如图1—图5所示，本实施例的一种真空室用降温装置，包括上下两组拼接在一起的底板1、盖板2、水冷管3，所述底板1通过固定柱4安装在真空室壁上，在底板1朝向真空室一面开有S型迂回弯曲的水冷槽，水冷槽均匀分布在底板1上，水冷管3穿透真空室壁后嵌在水冷槽中，盖板2通过螺栓固定在底板1上并封住水冷管3。下部水冷管从上部底板下方穿过后进入下部的底板中，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过可拆卸的静密封装置5密封，上部水冷管和下部水冷管的出水端和进水端集中设置在一处，在上部盖板与下部盖板拼接缝处设有护板6盖住拼接缝。

本实用新型通过水冷管把大气下的冷却水引入到真空环境下，通过均匀分布的水冷管来降低盖板的温度，通过间接吸收热量的方式来吸收基片表面的温度以达到降温的目的，吸热更加均匀，盖板同时可对水冷管起到保护作用，该装置底板、盖板、水冷管集成在一起，安装时整体安装，安装维护方便，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过可拆卸的静密封装置密封，安装维护时不会有冷却水进入真空室。

在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本实用新型所属领域的技术人员将会想到本实用新型的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本实用新型不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。

一种真空室用降温装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。