专利摘要

专利摘要

一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其包括：托架，包括立柱以及设置在立柱顶部的横臂；水槽，位于立柱的底部；超声波发生器，设置在水槽内，杯架，包括纵向螺杆、转盘，纵向螺杆安装在托架的横臂上，转盘连接在纵向螺杆的底部，在转盘上设置有至少两个上下贯穿的杯座，至少两个样品杯，各样品杯可分别置于各杯座上，各样品杯包括杯体、覆盖在杯体顶部开口的上盖以及密封安装在杯体底部开口的密封下盖，当样品杯置于杯座上时，杯体的下部从杯座下伸出且露出在转盘的下方，调节纵向螺杆可使杯体的下部伸入水槽内，在密封下盖的顶部密封覆盖有一镀膜基片，镀膜基片的顶面与装在样品杯内的溶液接触，镀膜基片紧固在密封下盖与杯体之间。

权利要求

1.一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，包括：

托架，包括立柱以及设置在所述立柱顶部的横臂；

水槽，位于所述立柱的底部；

超声波发生器，设置在所述水槽内，

杯架，包括纵向螺杆、转盘，所述纵向螺杆安装在所述托架的横臂上，所述转盘连接在所述纵向螺杆的底部，在所述转盘上设置有至少两个上下贯穿的杯座，

至少两个样品杯，各所述样品杯可分别置于各所述杯座上，各所述样品杯包括杯体、覆盖在所述杯体顶部开口的上盖以及密封安装在所述杯体底部开口的密封下盖，

当所述样品杯置于所述杯座上时，所述杯体的下部从所述杯座下伸出且露出在所述转盘的下方，调节所述纵向螺杆可使所述杯体的下部伸入所述水槽内，在所述密封下盖的顶部密封覆盖有一镀膜基片，所述镀膜基片的顶面与装在所述样品杯内的溶液接触，所述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体之间。

2.根据权利要求1所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述杯体的顶部开口外周设置有水平向外凸起的凸棱，所述杯体凸棱凸出在所述杯座的顶部将所述杯体悬挂在所述杯座内，所述杯体的下部从所述杯座下伸出且露出在所述转盘的下方。

3.根据权利要求1所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述密封下盖的顶部设置有一向下凹进的凹台，所述镀膜基片限位于所述凹台的顶面，当所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时，所述镀膜基片的底面密封覆盖在所述凹台的顶面，所述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体的底部开口之间，所述镀膜基片的顶面露出在所述样品杯内腔内。

4.根据权利要求3所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述杯体的底部设置有一向所述杯体的内腔凹进的凹位，在所述凹位的中心还设置有与所述杯体的内腔连通的通孔，所述通孔的宽度小于所述凹位的宽度，当所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时，所述镀膜基片的 顶部外沿与所述通孔的底部密封连接，所述密封下盖紧固在所述凹位内，所述密封下盖的外壁与所述凹位的内壁密封连接，所述镀膜基片的顶面位于所述通孔的底部。

5.根据权利要求4所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述密封下盖的所述凹位的宽度由下往上方向逐渐变宽。

6.根据权利要求5所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述密封下盖的所述凹位的内沿呈圆弧状。

7.根据权利要求1至6之任一所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在各所述样品杯中还分别设置有搅拌部件，所述搅拌部件位于所述密封下盖的上方，可在所述样品杯内运动。

8.根据权利要求7所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述搅拌部件为：磁性搅拌部件，

在所述水槽的底部还设置有磁性部件，当所述磁性部件相对于所述磁性搅拌部件运动时，所述磁性搅拌部件在所述样品杯内运动。

9.根据权利要求8所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述搅拌部件为：悬挂在所述上盖下方的磁性吊球。

10.根据权利要求9所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述上盖上设置有一通孔，在所述通孔内贯穿有一吊绳，所述磁性吊球连接在所述吊绳的底端，在所述吊绳的顶部固定有一悬挂块，所述悬挂块覆盖在所述通孔的顶部。

11.根据权利要求8所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述磁性物质可在所述水槽内运动。

12.根据权利要求11所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述水槽内还设置有第一搅拌机；

所述第一搅拌机上设置有可水平旋转的转臂，所述磁性物质固定在所述转臂上。

13.根据权利要求8所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述转盘可沿所述螺杆水平旋转。

14.根据权利要求1至6之任一所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述水槽内还设置有第二搅拌机，所述第二搅拌机用于搅拌所述水槽内的液体。

15.根据权利要求1至6之任一所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述水槽内还设置有水泵，所述水泵用于泵东所述水槽内的液体。

16.根据权利要求1至6之任一所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

还包括：电加热器，设置在所述水槽的底部，用于加热所述水槽内的液体。

17.根据权利要求1至6之任一所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

所述转盘的中心与所述纵向螺杆相连接。

18.根据权利要求1至6之任一所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述转盘上设置有8个所述杯座，各所述杯座相对于所述纵向螺杆中心对称。

19.根据权利要求1至6之任一所述的超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，

在所述横臂上还固定有电机，所述电机的转轴水平伸出，且通过第一螺纹帽与旋接在所述螺杆的第二螺纹帽配合，所述转轴可在所述电机的驱动下带动所述第二螺纹帽沿着所述螺杆旋转，以调节所述螺杆升降。

说明书

技术领域

本发明涉及溶液镀膜领域，尤其涉及一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器。

背景技术

微波消解通常是指利用微波加热封闭容器中的消解液(各种酸、部分碱液以及盐类)和试样从而在高温增压条件下使各种样品快速溶解的湿法消化(也有敞开容器微波消解的，不予讨论)。密闭容器反应和微波加热这两个特点，决定了其完全、快速、低空白的优点，但不可避免地带来了高压(可能过压的隐患)、消化样品量小的不足。

发明内容

本发明实施例的目的之一在于提供超声波多通道自反应化学镀膜仪器，该系统的应用由于大容量超大容量的消解反应，且有利于提高消解反应的完全性、均一性。

本发明实施例提供的一种一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其特征是，包括：

托架，包括立柱以及设置在所述立柱顶部的横臂；

水槽，位于所述立柱的底部；

超声波发生器，设置在所述水槽内，

杯架，包括纵向螺杆、转盘，所述纵向螺杆安装在所述托架的横臂上，所述转盘连接在所述纵向螺杆的底部，在所述转盘上设置有至少两个上下贯穿的杯座，

至少两个样品杯，各所述样品杯可分别置于各所述杯座上，各所述样品杯包括杯体、覆盖在所述杯体顶部开口的上盖以及密封安装在所述杯体底部开口的密封下盖，

当所述样品杯置于所述杯座上时，所述杯体的下部从所述杯座下伸出且露出在所述转盘的下方，调节所述纵向螺杆可使所述杯体的下部伸入所述水槽内，在所述密封下盖的顶部密封覆盖有一镀膜基片，所述镀膜基片的顶面 与装在所述样品杯内的溶液接触，所述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体之间。

可选地，所述杯体的顶部开口外周设置有水平向外凸起的凸棱，所述杯体凸棱凸出在所述杯座的顶部将所述杯体悬挂在所述杯座内，所述杯体的下部从所述杯座下伸出且露出在所述转盘的下方。

可选地，在所述密封下盖的顶部设置有一向下凹进的凹台，所述镀膜基片限位于所述凹台的顶面，当所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时，所述镀膜基片的底面密封覆盖在所述凹台的顶面，所述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体的底部开口之间，所述镀膜基片的顶面露出在所述样品杯内腔内。

可选地，在所述杯体的底部设置有一向所述杯体的内腔凹进的凹位，在所述凹位的中心还设置有与所述杯体的内腔连通的通孔，所述通孔的宽度小于所述凹位的宽度，当所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时，所述镀膜基片的顶部外沿与所述通孔的底部密封连接，所述密封下盖紧固在所述凹位内，所述密封下盖的外壁与所述凹位的内壁密封连接，所述镀膜基片的顶面位于所述通孔的底部。

可选地，所述密封下盖的所述凹位的宽度由下往上方向逐渐变宽。

可选地，可选地，在各所述样品杯中还分别设置有搅拌部件，所述搅拌部件位于所述密封下盖的上方，可在所述样品杯内运动。

可选地，所述搅拌部件为：磁性搅拌部件，

在所述水槽的底部还设置有磁性部件，当所述磁性部件相对于所述磁性搅拌部件运动时，所述磁性搅拌部件在所述样品杯内运动。

可选地，所述搅拌部件为：悬挂在所述上盖下方的磁性吊球。

可选地，在所述上盖上设置有一通孔，在所述通孔内贯穿有一吊绳，所述磁性吊球连接在所述吊绳的底端，在所述吊绳的顶部固定有一悬挂块，所述悬挂块覆盖在所述通孔的顶部。

由上可见，应用本实施例技术方案，由上可见，应用本实施例技术方案，在进行化学镀膜实验时，可以分别在各个样品杯的密封下盖顶部放置镀膜基 片，由于密封下盖与杯体底部开口的密封配合使镀膜基片的底面密封覆盖在密封下盖顶部而禁止与溶液接触，只有顶面露出在杯体的内腔内与溶液接触，可见利用本实施例技术方案可以方便地实现镀膜基片的单面镀膜，且单面镀膜的镀膜基片安装方便，且采用本实施例技术方案确保镀膜基片的镀膜面时刻与溶液完全接触，有利于确保确保镀膜的均匀性。

另外，本实施例在进行化学镀膜实验时，可以将多个样品杯(各样品杯内均装有溶液以及镀膜基片)装在同一个转盘上，在装好后将转盘上的纵向螺杆固定在托架的横臂上，然后调节纵向螺杆的升降使各样品杯的下部浸泡在水槽的液体中，利用水槽内的高温液体加热各样品杯内的溶液，提高各样品杯内的化学镀膜反应效率，确保各样品杯的化学镀膜实验环境的均一性。同时，在实验时，启动水槽中的超声波发生器，超声波发生器基于水槽内的液体以及样品杯内的溶液以超声波能量，加剧液体以及溶液的的微观粒子运动，避免溶液在镀膜基片表面形成液面镜或者钝化膜而影响化学镀效果，另外，实验证明，由于在化学镀膜过程中溶液的微观粒子高速运动，溶液在镀膜基片表面的活跃度大幅度提升，使在镀膜基片表面形成的镀膜光滑度大大提升，达到抛光的效果。具体实验结果对比参见实验数据分析所示。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明的不当限定。

图1为本发明实施例1提供的超声波多通道自反应化学镀膜仪器的样品杯浸泡在水槽中时的结构示意图；

图2为本发明实施例1提供的超声波多通道自反应化学镀膜仪器升起在水槽上方时的结构示意图；

图3为本发明实施例1提供的杯架的主视示意图；

图4为本发明实施例1提供的转盘的俯视结构示意图；

图5为本发明实施例1提供的杯体的剖视结构示意图；

图6为本发明实施例1提供的密封下盖的剖视结构示意图；

图7为本发明实施例1提供的上盖的剖视结构示意图。

附图标记：

10：托架；               10：立柱；          11：横臂；       12：电机；

13：第一螺纹帽；         14：第二螺纹帽；    2：水槽；        3：杯架；

31：纵向螺杆；           32：转盘；          321：杯座；      4：样品杯；

41：杯体；               411：凸棱；         412：通孔；

42：密封上盖；           43：密封下盖；      431：凹台；      5：镀膜基片；

6：搅拌部件；            7：磁性物质；       8：吊绳。

具体实施方式

下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本发明，在此本发明的示意性实施例以及说明用来解释本发明，但并不作为对本发明的限定。

参见图1-7所示，本实施例提供了一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器，其主要包括：托架1、水槽2、杯架3以及可置于杯架3上的多个样品杯4。

其中托架1包括立柱10以及设置在立柱10顶部的横臂11，水槽2位于立柱10的底部且位于横臂11的下方，杯架3包括纵向螺杆31、转盘32，纵向螺杆31安装在托架1的横臂11上，转盘32连接在纵向螺杆31的底部，在转盘32上设置有至少两个上下贯穿的杯座321，譬如该杯座321的个数为3个、四个、六个、八个等，样品杯4的个数与杯托的个数相应。

每样品杯4可分别置于一杯座321上，本实施例的样品杯4包括上下均开口的杯体41、覆盖在杯体41顶部开口的上盖42、以及密封安装在杯体41底部开口的密封下盖43。

当样品杯4置于杯座321上时，杯体41的下部从杯座321下伸出且露出在转盘32的下方，此时调节纵向螺杆31升降可使杯体41的下部伸入水槽2内，被水槽2内的液体(一般为水)所浸泡。在对镀膜基片5进行镀膜时，将待镀的镀膜基片5置于密封下盖43的顶面，当将密封下盖43密封连接在杯体41的底部后，镀膜基片5紧固在密封下盖43与杯体41之间，镀膜基片5的顶面露出在杯体41的内腔内，底面被紧压密封覆盖在密封下盖43的顶面而不与样品杯4内的溶液接触，当样品杯4内装有溶液时，溶液与镀膜基片5的顶面接触，发生化学反应，在镀膜基片5的顶面形成薄膜，实现化学镀膜。

作为本实施例的示意，具体使转盘32的中心贯穿固定在纵向螺杆31的底部，在转盘32上设置多个杯座321(其可以为3、4个、或者8个杯座321等，当其为8个时，可实现8通道化学镀膜同时进行)，各杯座321相对于纵向螺杆31中心对称，确保转盘32的平衡度、以及稳定性，便于人们对杯架3的整体安装、整体调节、整体取下以及整体移动。

本实施例的样品杯4由惰性材料制成，该惰性材料与溶液不发生反应。譬如该样品杯430由PTFE(聚四氟乙烯)(或PFA(氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物)、PEEK(聚醚醚酮)等惰性材料)制成。

作为本实施例的示意，可以但不限于在横臂11上固定一电机12，电机12的转轴水平伸出，电机12的转轴通过第一螺纹帽13与旋接在纵向螺杆31的第二螺纹帽14配合，在电机12驱动下，转轴旋转，转轴带动第二螺纹帽14沿纵向螺杆31旋转，以调节纵向螺杆31升降。使杯架3的升降调节更加人性化，省时省力，易于操作。

由上可见，应用本实施例技术方案，在进行化学镀膜实验时，可以分别在各个样品杯4的密封下盖43顶部放置镀膜基片5，由于密封下盖43与杯体41底部开口的密封配合使镀膜基片5的底面密封覆盖在密封下盖43顶部而禁止与溶液接触，只有顶面露出在杯体41的内腔内与溶液接触，可见利用本实施例技术方案可以方便地实现镀膜基片5的单面镀膜，且单面镀膜的镀膜基片5安装方便，且采用本实施例技术方案确保镀膜基片5的镀膜面时刻与溶液完全接触，有利于确保确保镀膜的均匀性。

另外，本实施例在进行化学镀膜实验时，可以将多个样品杯4(各样品杯4内均装有溶液以及镀膜基片5)装在同一个转盘32上，在装好后将转盘32上的纵向螺杆31固定在托架1的横臂11上，然后调节纵向螺杆31的升降使各样品杯4的下部如图1所示地浸泡在水槽2的液体中，利用水槽2内的高温液体加热各样品杯4内的溶液，提高各样品杯4内的化学镀膜反应效率，确保各样品杯4的化学镀膜实验环境的均一性。同时，在实验时，启动水槽2中的超声波发生器，超声波发生器基于水槽2内的液体以及样品杯4内的溶液以超声波能量，加剧液体以及溶液的的微观粒子运动，避免溶液在镀膜基片5表面形成液面镜 或者钝化膜而影响化学镀效果，另外，实验证明，由于在化学镀膜过程中溶液的微观粒子高速运动，溶液在镀膜基片5表面的活跃度大幅度提升，使在镀膜基片5表面形成的镀膜光滑度大大提升，达到抛光的效果。具体实验结果对比参见实验数据分析所示。

在化学镀膜完成后，升起纵向螺杆31，使转盘32如图2所示地离开水槽2位于水槽2上方，然后将纵向螺杆31从托架1的立柱10上取下即可将多个样品杯4同时取下，实验操作更加方便、省时省力，应用本实施例仪器可以一次同时进行多组化学镀膜实验，确保了各组化学镀膜的均一性，有利于提高实验效果，且本实施例仪器操作灵活方便，更加人性化，应用起来省时省力。

作为本实施例的示意，可以在杯体41的顶部开口外周设置有水平向外凸起的凸棱411，当样品杯4置于杯座321上时杯体41的凸棱411凸出在杯座321的顶部，通过凸棱411与杯座321的配合，使样品杯4由于重力的作用被垂直悬挂在杯座321内，样品杯4的大部分悬挂在杯座321的下方，使使样品杯4在转盘32上的放置更加稳固，且不易于翻转，相对于其他的平台型放置的杯座321结构，采用本实施例技术方案进一步方便实验人员操作，且样品杯4的固定更加平稳而不易于翻转，其实验效果更加稳定。

作为本实施例的示意，在本实施例的杯体41的底部设置有一向杯体41的内腔凹进的凹位，在凹位的中心设置有与杯体41的内腔连通的通孔412，通孔412的宽度小于凹位的宽度。相应地，在密封下盖43的顶面设置一向下凹进的凹台431，将安装镀膜基片5时，具体将镀膜基片5密封覆盖在该凹台431的顶面内，然后将密封下盖43的上部塞入杯体41底部的凹位内，使密封下盖43进入杯体41凹位内的外壁与杯体41的凹位的内壁面对面密封接触，而在密封下盖43顶部的镀膜基片5杯密封紧固在通孔412的底部与密封下盖43之间，此时即禁止镀膜基片5的底面与溶液接触，实现镀膜基片5的单面镀膜，采用本实施例的镀膜基片5安装结构，结构简单，便于实验安装。

作为本实施例的示意，本实施例的密封下盖43，特别是密封下盖43的顶部采用弹性惰性材料制成，在进行密封下盖43安装时，使得密封下盖43与杯体41底面的接触处于略微弹性挤压状态，更有利于确保杯体41底部的密封性 以及镀膜基片5的底面密封性禁止接触溶液。

其中，本实施例的惰性材料为与样品杯4杯内的溶液不发生反应的物质。譬如该样品杯430由PTFE(聚四氟乙烯)或PFA(氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物)、PEEK(聚醚醚酮)等惰性材料制成。

作为本实施例的示意，本实施例可以但不限于使设置在密封下盖43顶部的凹台431的宽度沿由下往上方向逐渐变宽，这样即使各镀膜基片5的尺寸与凹台431的尺寸略微有偏差，均可确保镀膜基片5完全装在在该顶部的凹台431内，且与凹台431的边缘配合紧密，确保单面镀膜的进行，提高本实施例仪器的应用灵活性。

作为本实施例的示意，优选将密封下盖43顶部的凹台431的内沿呈设计为圆弧状，即使其凸起呈圆弧状的凸起边缘，进一步提高密封下盖43顶部与杯体41底部的配合紧密型，确保单面镀膜效果。

作为本实施例的示意，还可以在各样品杯4中还分别设置有搅拌部件6，该搅拌部件6位于密封下盖43的上方，可在样品杯4内运动，在进行化学镀膜时，搅拌部件6运动而搅拌样品杯4内的溶液，避免溶液在镀膜基片5顶部静止过久而在镀膜基片5的顶部形成的液面镜或者钝化膜而影响镀膜效率以及镀膜效果，采用该搅拌部件6有利于提高化学镀膜效率以及提高化学镀膜效果，提高在镀膜基片5顶面形成的镀膜的均匀性。

作为本实施例的示意，本实施例的搅拌部件6为磁性搅拌部件6，相应地，在转盘32的下方(譬如可以安装在水槽2的底部)安装有磁性物质7，使磁性物质7与磁性搅拌部件6发生相对运动时，通过磁性作用力而使样品杯4内的磁性搅拌部件6在样品杯4内运动，搅拌溶液。

作为本实施例的示意，可以但不限于采用电机12驱动转盘32，使得转盘32可沿纵向螺杆31水平旋转，相应地在水槽2内固定一个或者多个磁性物质7，在转盘32旋转过程中，对任一样品杯4而言，每当该样品杯4经过一磁性物质7，在该磁性物质7对样品杯4内的磁性搅拌部件6的作用力下，该磁性搅拌部件6在样品杯4内运动，搅拌溶液。其中固定的磁性物质7在转盘32的旋转轨迹上，位于样品杯4下方。

作为本实施例的示意，也可以使转盘32静止不动，在水槽2的底部设置一个或者多个搅拌机(记为第一搅拌机，图中未画出)，在各第一搅拌机的转臂上分别固定有磁性物质(图中未画出)，启动第一搅拌机使转臂带动磁性物质水平旋转，磁性物质主动带动样品杯4内的磁性搅拌部件6跟随运动，搅拌溶液。其中各第一搅拌机分别设置在各样品杯4的下方，可以在每一样品杯4的下方设置一该第一搅拌机。

需要说明的是，该第一搅拌机的运动既可以带动磁性物质从而带动样品杯4内的磁性搅拌部件6运动外，还搅拌水槽2内的水，提高水槽2各处水的温度均一性，确保转盘32上各样品杯4的实验均一性。

作为本实施例的示意，本实施例的磁性搅拌部件6可以为悬挂在样品杯4的上盖42下方的磁性吊球。具体第，可以在上盖42上设置有一通孔412，在通孔412内贯穿有一吊绳8，在吊绳8位于杯体41内腔的底端连接一吊球，在吊绳8位于上盖42顶部的的顶部固定一悬挂块，该悬挂块的体积大于该通孔412而覆盖在上盖42的顶部。采用上述结构即可实现磁性吊球的安装，且在调节时，可以通过升降悬挂块而调节磁性吊球在样品杯4内的高度，调节方便，易于随时操作。

作为本实施例的示意，本实施力的磁性搅拌部件6还可以为一自由平放在样品杯4内腔的磁性搅拌珠(图中未画出)，该磁性搅拌珠的水平直径大于镀膜基片5上方的通孔412的口径，而只能在通孔412上方运动而不能与镀膜基片5的顶面接触。

作为本实施例的示意，不管是否设置上述的第一搅拌机，还可以在水槽2内放置一用于搅拌水槽2内的水的搅拌机(记为第二搅拌机)，在电机的驱动下，第二搅拌机运动，搅拌水槽2内的水，使各处水的温度均匀，提高转盘32上各样品杯4的实验均一性。

作为本实施例的示意，本实施例用于驱动第一搅拌机、第二搅拌机的电机优选为变向电机，从而使实现变向搅拌，提高搅拌的强度，进一步避免在镀膜基片5表面形成镜面膜以及钝化膜，提高化学镀膜的效果，提高镀膜的均匀性。

作为本实施例的示意，也可以但不限于设计水泵，采用水泵来促进水槽2内的液体的循环性，而确保水槽2各处液体的温度均匀，提高转盘32上各样品杯4的实验均一性。

作为本实施例的示意，在本实施例的水槽2内还设置一电加热器9，该电加热器9可以但不限于为电磁炉或者其他的电器，该电加热器9在实验过程中根据水温随时加热水槽2，使水槽2的水实质保持一定的热度，且始终保持在一定的温度范围内，提高化学镀膜的效率以及提高化学镀膜效率。

相对于已有技术的机械研磨抛光技术，本实施例为无研磨超声抛光技术，能显著降低零件的表面粗糙度，提高表面硬度，改善表面物理性能，即使抛光脆性材料也不产生裂纹塑性生成切屑,它是是一种高效、精密的表面光整工艺，也是一种表面强化工艺。

实验数据分析：

采用图1的化学镀膜仪器2台，每台分别放置有8个样品杯4，每个样品杯4内分别灌注有溶液(本实验采用的溶液为：PoCl⁴₂-HCl溶液，本实验例以此为示意，当然也可以采用其他的含有Po的盐酸型溶液)，在各个样品杯4内分别固定有镀膜基片5(本实验以镜面的银片基片为例，当然也可以镜面的选用铜片或者镍片)，对镀膜基片5的顶面进行单面化学镀膜，分别将各样品杯4浸泡在温度一致的水槽2中(本实验水槽2内液体的温度均为80摄氏度)，使各样品杯4内化学镀膜反应进行。

在实验时，启动一水槽2中的产生波发生器，而使另一水槽2中的超声波发生器处于未启动状态，化学镀完成后，同时取出各转盘32，分别对各转盘32中的镀膜基片5的镀膜质量进行分析，得到表一、二所示实验数据。

其中将未启动超声波发生器的转盘32上的镀膜基片5即为样品1、样品2、样品3、样品4、样品5、样品6，样品7、样品8。另一启动了超声波发生器的镀膜基片5即为样品1‘、样品2‘、样品3‘、样品4‘、样品5‘、样品6‘，样品7‘、样品8‘。

实验数据表一：

表一未超声条件下镀膜基片表面的粗糙度Ra(单位：μm)

实验数据：

表二超声条件下镀膜基片表面的粗糙度Ra(单位：μm)

比对表一、二可见，采用超声波化学镀，可以大大提高化学镀膜的均匀性以及光滑度，其粗磨粗糙度可以降低超过50％，能意想不到的提高镀膜效果。

以上所述的实施方式，并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在该技术方案的保护范围之内。

超声波多通道自反应化学镀膜仪器专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。