IPC分类号 : G01N13/00,G01N15/08,G01B11/06,G01B11/03,G01B11/28
![一种不对称[3+2]环化反应合成手性异核苷类似物的方法](https://www.zhichawang.com/images/ui/CN2019109908359/CN2019109908359.jpg)
专利摘要
本实用新型涉及堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置，包括透明圆柱形模型箱、半圆弧面导轨、半圆弧面光源、CCD工业相机组、暗箱、中间容器A、中间容器B、驱替泵和计算机，透明圆柱形模型箱内装有透明土试样，上端盖和下端盖的中心开有通孔，有管线通过两个通孔分别与中间容器A、中间容器B连接；模型箱左侧设置半圆弧面导轨，右侧设置半圆弧面光源；CCD工业相机组连接计算机，通过计算机控制拍照速度和频率；所述模型箱、半圆弧面导轨、半圆弧面光源、CCD工业相机组均置于暗箱中。本实用新型能够观测不同堵水剂体系在多孔介质气水界面的铺展和封堵过程，为定量评价堵水剂性能提供基础参数和理论依据。
权利要求
1.堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置，包括透明圆柱形模型箱（1）、半圆弧面导轨（2）、半圆弧面光源（3）、CCD工业相机组、暗箱（7）、中间容器A（8）、中间容器B（9）、驱替泵（10）和计算机（11），其特征在于，所述透明圆柱形模型箱（1）由上端盖（12）、下端盖（13）和圆柱形筒体（14）组成，所述上端盖、下端盖分别与圆柱形筒体通过螺纹连接，所述筒体内部装有透明土试样（15），所述上端盖和下端盖的中心开有通孔，有管线通过两个通孔分别与中间容器A（8）、中间容器B（9）连接，所述中间容器A、中间容器B与驱替泵（10）连接；所述透明圆柱形模型箱左侧设置半圆弧面导轨（2），右侧设置半圆弧面光源（3）；所述CCD工业相机组包括CCD工业相机A（4）、CCD工业相机B（5）和CCD工业相机C（6），所述CCD工业相机A置于透明圆柱形模型箱正上方，CCD工业相机B安装于半圆弧面导轨上并可在导轨上滑动，CCD工业相机C置于透明圆柱形模型箱正下方；所述CCD工业相机组连接计算机（11），通过计算机控制拍照速度和频率；所述透明圆柱形模型箱、半圆弧面导轨、半圆弧面光源、CCD工业相机组均置于暗箱（7）中。
2.如权利要求1所述的堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置，其特征在于，所述半圆弧面光源与计算机连接，为成像提供光源。
3.如权利要求1所述的堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置，其特征在于，所述暗箱为长方体，为成像提供暗室条件。
堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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