专利摘要
本实用新型提供了一种遮光元件和光学成像镜头。遮光元件呈环形，遮光元件向靠近光轴的方向包括：组立承接部；杂光改善部，杂光改善部设置在组立承接部的内环面上，杂光改善部与组立承接部一体成型，杂光改善部的物侧面由内环面向靠近杂光改善部的像侧面的方向倾斜伸出；吸光膜层，吸光膜层设置在杂光改善部上。本实用新型解决了现有技术中的遮光元件存在杂光改善困难的问题。
权利要求
1.一种遮光元件，其特征在于，所述遮光元件呈环形，所述遮光元件向靠近光轴(60)的方向包括：
组立承接部(11)；
杂光改善部(12)，所述杂光改善部(12)设置在所述组立承接部(11)的内环面(111)上，所述杂光改善部(12)与所述组立承接部(11)一体成型，所述杂光改善部(12)的物侧面由所述内环面(111)向靠近所述杂光改善部(12)的像侧面的方向倾斜伸出；
吸光膜层(123)，所述吸光膜层(123)设置在所述杂光改善部(12)上。
2.根据权利要求1所述的遮光元件，其特征在于，所述杂光改善部(12)的物侧面与所述杂光改善部(12)的像侧面在靠近所述光轴(60)的方向过渡衔接。
3.根据权利要求1所述的遮光元件，其特征在于，所述杂光改善部(12)的像侧面包括：
直边面(121)，所述直边面(121)与所述组立承接部(11)的像侧面连接，且与所述内环面(111)垂直；
过渡面(122)，所述直边面(121)与所述杂光改善部(12)的物侧面通过所述过渡面(122)连接，所述过渡面(122)由所述直边面(121)向靠近所述杂光改善部(12)的物侧面的方向倾斜延伸。
4.根据权利要求3所述的遮光元件，其特征在于，所述杂光改善部(12)的物侧面和所述过渡面(122)上设置有所述吸光膜层(123)。
5.根据权利要求4所述的遮光元件，其特征在于，所述杂光改善部(12)的物侧面和所述过渡面(122)的粗糙度大于等于1.0微米。
6.根据权利要求4所述的遮光元件，其特征在于，所述吸光膜层(123)的表面粗糙度小于等于1.0微米。
7.根据权利要求4所述的遮光元件，其特征在于，所述吸光膜层(123)的厚度大于等于200纳米且小于等于1000纳米。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的遮光元件，其特征在于，所述组立承接部(11)的外环面与所述内环面(111)之间的距离A大于等于0.2毫米且小于等于3毫米。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的遮光元件，其特征在于，所述组立承接部(11)的物侧面与所述组立承接部(11)的像侧面之间的距离B大于等于0.2毫米且小于等于3毫米。
10.一种光学成像镜头，其特征在于，包括：
镜筒(50)；
透镜(20)，所述透镜(20)为多个，多个所述透镜(20)沿所述镜筒(50)的光轴(60)方向间隔排布；
至少一个权利要求1至9中任一项所述的遮光元件(10)，所述遮光元件(10)设置在相邻两个所述透镜(20)之间。
遮光元件和光学成像镜头专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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