专利摘要

本实用新型涉及一种真空吸附治具，包括：孔板和基板；所述孔板阵列设置有通孔，所述基板上设置有凹槽，所述孔板与所述基板相互连接，且所述通孔与所述凹槽相互连通；所述基板上还设置有用于对所述凹槽抽气的吸气孔，以及用于对所述凹槽送气的输气孔。将吸气孔与外部的抽气装置相互连接，可通过抽气装置将凹槽的气体抽出，从而使凹槽能构成一真空环境，从而使与凹槽相连通的通孔将位于孔板上表面的物料被吸附。保证了物料的各位置均能够承靠在孔板上表面上，保证了物料的平整度。将输气孔与气源装置相互连接，可通过气源装置向凹槽中送入气体，从而使处于吸附状态的物料能够与孔板快速脱离，从而便于物料被取下。

权利要求

1.一种真空吸附治具，其特征在于，包括：孔板(1)和基板(2)；

所述孔板(1)阵列设置有通孔(11)，所述基板(2)上设置有凹槽(21)，所述孔板(1)与所述基板(2)相互连接，且所述通孔(11)与所述凹槽(21)相互连通；

所述基板(2)上还设置有用于对所述凹槽(21)抽气的吸气孔(22)，以及用于对所述凹槽(21)送气的输气孔(23)。

2.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述吸气孔(22)和所述输气孔(23)分别由所述基板(2)的外侧面起始并延伸至所述凹槽(21)的内侧面终止，且所述吸气孔(22)和所述输气孔(23)相对设置。

3.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)设置有垫片凹槽(13)以及可拆卸的安装在所述垫片凹槽(13)中的垫片(14)；

所述垫片(14)的厚度大于所述垫片凹槽(13)的深度和所述孔板上表面(12)承载的物料的厚度之和。

4.根据权利要求3所述的真空吸附治具，其特征在于，所述垫片凹槽(13)至少为三个，且所述垫片凹槽(13)呈环形排列。

5.根据权利要求1至4之一所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)还设置有定位柱(15)；

所述定位柱(15)至少为两个，且相互间隔设置。

6.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述凹槽(21)为迂回型的线性凹槽，且所述吸气孔(22)和所述输气孔(23)分别位于所述凹槽(21)的首尾两端。

7.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述吸气孔(22)和所述输气孔(23)分别由所述基板(2)的外侧面起始并延伸至所述凹槽(21)的内侧面终止；

所述输气孔(23)至少为两个，且所述输气孔(23)相互等间隔的设置。

8.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述基板(2)上至少设置有一条环绕在所述凹槽(21)周围的第一环状密封结构，所述孔板(1)上设置有与所述第一环状密封结构相匹配的第二环状密封结构。

9.根据权利要求8所述的真空吸附治具，其特征在于，所述第一环状密封结构环状凸台或环状凹槽，所述第二环状密封结构为环状凹槽或环状凸台。

10.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)或所述基板(2)上还设置有用于安装手柄的连接结构(3)。

11.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述通孔(11)为矩形阵列设置或环形阵列设置；

若所述通孔(11)为矩形阵列设置，所述通孔(11)沿横向和纵向分别均匀间隔分布,且沿纵向和横向的间隔是相等的；

若所述通孔(11)为环形阵列设置，所述通孔(11)沿圆周方向等角度均匀间隔排列。

12.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述通孔(11)的孔径小于2mm。

13.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)的平面度公差小于2μm。

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种治具，尤其涉及一种真空吸附治具。

背景技术

在镜头检测生产过程中，镜头的性能对检测托盘之间配合的精度要求很高，两者之间的间隙非常小，因此治具的精度要求很重要。按光学设计测试要求，需要在测试托盘上平整的贴附一块玻璃来承靠被测试镜头，在测试托盘贴附玻璃的过程中其工艺与玻璃平面度要求非常高，在保证托盘平行度的同时既要保证玻璃的平行度还要保证玻璃贴附在托盘上之后的平行度。因此，在测试托盘上贴附玻璃之前，需要保证运输过程中的玻璃在治具上的平整度，以及贴附完成后，玻璃能够快速脱离。传统技术中，可通过阵列设置的吸嘴运输玻璃，但由于吸嘴相互独立，容易导致玻璃被吸附时产生形变，影响平整度，或者也可通过真空吸附治具进行运输，但通常玻璃从治具上脱离时，由于需要治具中的真空环境消失玻璃才能从治具上脱离，影响工作效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空吸附治具，使治具上的物料能够快速脱离。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供一种真空吸附治具，包括：孔板和基板；

所述孔板阵列设置有通孔，所述基板上设置有凹槽，所述孔板与所述基板相互连接，且所述通孔与所述凹槽相互连通；

所述基板上还设置有用于对所述凹槽抽气的吸气孔，以及用于对所述凹槽送气的输气孔。

根据本实用新型的一个方面，所述吸气孔和所述输气孔分别由所述基板的外侧面起始并延伸至所述凹槽的内侧面终止，且所述吸气孔和所述输气孔相对设置。

根据本实用新型的一个方面，所述孔板的孔板上表面设置有垫片凹槽以及可拆卸的安装在所述垫片凹槽中的垫片；

所述垫片的厚度大于所述垫片凹槽的深度和所述孔板上表面承载的物料的厚度之和。

根据本实用新型的一个方面，所述垫片凹槽至少为三个，且所述垫片凹槽呈环形排列。

根据本实用新型的一个方面，所述孔板的孔板上表面还设置有定位柱；

所述定位柱至少为两个，且相互间隔设置。

根据本实用新型的一个方面，所述凹槽为迂回型的线性凹槽，且所述吸气孔和所述输气孔分别位于所述凹槽的首尾两端。

根据本实用新型的一个方面，所述吸气孔和所述输气孔分别由所述基板的外侧面起始并延伸至所述凹槽的内侧面终止；

所述输气孔至少为两个，且所述输气孔相互等间隔的设置。

根据本实用新型的一个方面，所述基板上至少设置有一条环绕在所述凹槽周围的第一环状密封结构，所述孔板上设置有与所述第一环状密封结构相匹配的第二环状密封结构。

根据本实用新型的一个方面，所述第一环状密封结构环状凸台或环状凹槽，所述第二环状密封结构为环状凹槽或环状凸台。

根据本实用新型的一个方面，所述孔板或所述基板上还设置有用于安装手柄的连接结构。

根据本实用新型的一个方面，所述通孔为矩形阵列设置或环形阵列设置；

若所述通孔为矩形阵列设置，所述通孔沿横向和纵向分别均匀间隔分布。且沿纵向和横向的间隔是相等的；

若所述通孔为环形阵列设置，所述通孔沿圆周方向等角度均匀间隔排列。

根据本实用新型的一个方面，所述通孔的孔径小于2mm。

根据本实用新型的一个方面，所述孔板上表面的平面度公差小于2μm。

根据本实用新型的一种方案，将吸气孔与外部的抽气装置(例如真空泵)相互连接，可通过抽气装置将凹槽的气体抽出，从而使凹槽能构成一真空环境，从而使与凹槽相连通的通孔将位于孔板上表面的物料被吸附。在本实施方式中，矩形阵列设置的通孔，沿纵向和横向的间隔是相等的，从而使吸附的物料(例如玻璃基板)与孔板相接触的表面的受力均匀，保证了物料的各位置均能够承靠在孔板上表面上，保证了物料的平整度，进而保证了物料在组装产品过程中的精度，提高了产品的组装精度。将输气孔与气源装置相互连接，可通过气源装置向凹槽中送入气体，从而使处于吸附状态的物料能够与孔板快速脱离，从而便于物料被取下。通过控制送入气体的通入量，还可使物料被托起，从而使物料能够更加容易的取下。

根据本实用新型的一种方案，通过将通孔的孔径设置在2mm以下，从而避免了孔板上承载的物料(例如玻璃基板)在被真空吸附时，通孔的孔径过大导致物料在通孔的位置发生凹陷等变形。因此，通过将通孔的孔径设置在上述范围内，保证了物料在被吸附时的平整度，保证了后续生产工序中产品的质量。通过将孔板上表面的平面度公差设置在2μm，从而进一步保证了孔板上承载的物料(例如玻璃基板)在被真空吸附时的平整度，避免了孔板的表面凹凸不平导致物料发生变形的情况，进一步对保证后续生产工序中产品的质量有益。

根据本实用新型的一种方案，通过相对设置的吸气孔和输气孔，在通过输气孔向凹槽中通入气体的过程中，有利于气体在凹槽中的流动速度，使气体能在短时间内均匀分布在凹槽中，提高了物料脱离效率。同时，使孔板上的物料脱离时各位置通孔中溢出的气体量均匀，使物料各位置的受力均匀，避免了物料脱离孔板时产生弯曲等情况。

根据本实用新型的一种方案，通过设置多个输气孔并且相互等间隔的设置，从而有利于从不同方向同时向凹槽中通入气体，提高了通入气体的效率，并且通过等间隔分布的输气孔，使通入的气体在凹槽中均匀分布，不仅提高了物料脱离效率。同时，使孔板上的物料脱离时各位置的通孔中溢出的气体量均匀，使物料各位置的受力均匀，避免了物料脱离孔板时产生弯曲等情况。

根据本实用新型的一种方案，孔板上吸附的物料在组装过程中，通过设置垫片从而使其它治具或部件直接与垫片相接触，避免了直接承靠于吸附在孔板上的物料，进而避免了物料的变形或划伤等，保证了物料平整度和表面质量，进而对组装的产品的质量有益。

根据本实用新型的一种方案，孔板上吸附的物料在组装过程中，通过设置定位柱从而使其它治具或部件通过与定位柱配合连接，即可保证孔板上的物料与其它物料的相对位置准确，保证了物料组装位置的准确，进而对组装的产品的质量有益。

根据本实用新型的一种方案，通过将凹槽设置为线性凹槽，在通过吸气孔抽气或输气孔送气时，凹槽中的气体流动沿同一方向流动，避免了对凹槽进行抽气或输气时，凹槽中气流的紊乱，对保证孔板上物料的稳定吸附或脱离有利。

附图说明

图1示意性表示根据本实用新型的一种实施方式的孔板的结构图；

图2示意性表示根据本实用新型的一种实施方式的基板的结构图；

图3示意性表示根据本实用新型的一种实施方式的垫片的结构图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

在针对本实用新型的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本实用新型的实施方式并不因此限定于以下实施方式。

结合图1和图2所示，根据本实用新型的一种实施方式，本实用新型的一种真空吸附治具，包括孔板1和基板2。在本实施方式中，孔板1上阵列设置有通孔11，孔板1为板状体，通孔11贯穿孔板1的孔板上表面12和孔板下表面。通过设置通孔11还可对孔板1上承载的物料(例如玻璃基板)进行通光，从而具有曝光功能，对于后续生产工序中产品上的胶水凝固有益，提高了胶水凝固效率，提高了产品生产效率。在本实施方式中，通孔11的孔径小于2mm。通过将通孔11的孔径设置在2mm以下，从而避免了孔板1上承载的物料(例如玻璃基板)在被真空吸附时，通孔11的孔径过大导致物料在通孔11的位置发生凹陷等变形。因此，通过将通孔11的孔径设置在上述范围内，保证了物料在被吸附时的平整度，保证了后续生产工序中产品的质量。在本实施方式中，孔板1的孔板上表面12的平面度公差小于2微米。通过将孔板上表面12的平面度公差设置在2微米，从而进一步保证了孔板1上承载的物料(例如玻璃基板)在被真空吸附时的平整度，避免了孔板1的表面凹凸不平导致物料发生变形的情况，进一步对保证后续生产工序中产品的质量有益。在本实施方式中，基板2上设置有凹槽21，凹槽21由基板2的基板上表面2a起始向基板下表面的方向延伸。在本实施方式中，凹槽21为开口呈多边形(例如、矩形、菱形、正多边形等)或圆形的凹槽。孔板1与基板2相互连接。在本实施方式中，孔板1盖在基板2上，孔板下表面与基板上表面2a相互抵靠，孔板1与基板2之间可通过螺纹连接的方式，将孔板1和基板2相互固定。在本实施方式中，孔板1和基板2相互连接后，通孔11的位置与凹槽21相互对应，从而使通孔11与凹槽21相互连通。在本实施方式中，通孔11为矩形阵列设置，并且通孔11沿横向和纵向分别均匀间隔分布。或者通孔11为环形阵列设置，并且通孔11沿圆周方向等角度均匀间隔排列。在本实施方式中，孔板1选用耐腐蚀性、耐磨性和机械可加工性好的材料，从而有利于保证孔板上表面12的平面度，从而确保了孔板上表面12的精度，也有利于在使用过程中，孔板上表面12划伤后，进行二次研磨，并且避免了在使用过程中采用溶剂擦拭孔板上表面12时对孔板上表面12的腐蚀，进而对保证孔板上表面12的平整度有利。

根据本实用新型的另一种实施方式，凹槽21为迂回型的线性凹槽，且吸气孔22和输气孔23分别位于凹槽21的首尾两端。通过将凹槽21设置为线性凹槽，在通过吸气孔22抽气或输气孔23送气时，凹槽21中的气体流动沿同一方向流动，避免了对凹槽21进行抽气或输气时，凹槽21中气流的紊乱，对保证孔板1上物料的稳定吸附或脱离有利。

结合图1和图2所示，根据本实用新型的一种实施方式，基板2上还设置有吸气孔22和输气孔23。在本实施方式中，吸气孔22和输气孔23分别由基板2的外侧面起始并延伸至凹槽21的内侧面终止。将吸气孔22与外部的抽气装置(例如真空泵)相互连接，可通过抽气装置将凹槽21的气体抽出，从而使凹槽21能构成一真空环境，从而使与凹槽21相连通的通孔11将位于孔板上表面12的物料被吸附。在本实施方式中，矩形阵列设置的通孔11，沿纵向和横向的间隔是相等的，从而使吸附的物料(例如玻璃基板)与孔板1相接触的表面的受力均匀，保证了物料的各位置均能够承靠在孔板上表面12上，保证了物料的平整度，进而保证了物料在组装产品过程中的精度，提高了产品的组装精度。将输气孔23与气源装置相互连接，可通过气源装置向凹槽21中送入气体，从而使处于吸附状态的物料能够与孔板1快速脱离，从而便于物料被取下。通过控制送入气体的通入量，还可使物料被托起，从而使物料能够更加容易的取下。

结合图1和图2所示，根据本实用新型的一种实施方式，吸气孔22和输气孔23分别为一个。在本实施方式中，所述吸气孔22和输气孔23相对设置。通过相对设置的吸气孔22和输气孔23，在通过输气孔23向凹槽21中通入气体的过程中，有利于气体在凹槽21中的流动速度，使气体能在短时间内均匀分布在凹槽21中，提高了物料脱离效率。同时，使孔板1上的物料脱离时各位置通孔11中溢出的气体量均匀，使物料各位置的受力均匀，避免了物料脱离孔板1时产生弯曲等情况。

根据本实用新型的另一种实施方式，吸气孔22为一个，输气孔23至少为两个。在本实施方式中，吸气孔22和输气孔23分别由基板2的外侧面起始并延伸至凹槽21的内侧面终止。多个(两个、三个或者更多)输气孔23相互等间隔的设置。通过设置多个输气孔23并且相互等间隔的设置，从而有利于从不同方向同时向凹槽21中通入气体，提高了通入气体的效率，并且通过等间隔分布的输气孔23，使通入的气体在凹槽21中均匀分布，不仅提高了物料脱离效率。同时，使孔板1上的物料脱离时各位置的通孔11中溢出的气体量均匀，使物料各位置的受力均匀，避免了物料脱离孔板1时产生弯曲等情况。

结合图1和图3所示，根据本实用新型的一种实施方式，孔板1的孔板上表面12设置有垫片凹槽13和垫片14。在本实施方式中，垫片14可拆卸的安装在垫片凹槽13中。在本实施方式中，垫片14的厚度大于垫片凹槽13的深度和孔板上表面12承载的物料的厚度之和，即当孔板1上吸附有物料(例如玻璃基板)时，垫片14远离孔板上表面12的一端要超过物料的表面。在本实施方式中，垫片凹槽13至少为三个，且垫片凹槽13呈环形排列。在本实施方式中，垫片凹槽13相互等间隔的设置。孔板1上吸附的物料在组装过程中，通过设置垫片14从而使其它治具或部件直接与垫片14相接触，避免了直接承靠于吸附在孔板1上的物料，进而避免了物料的变形或划伤等，保证了物料平整度和表面质量，进而对组装的产品的质量有益。

如图1所示，根据本实用新型的一种实施方式，孔板1的孔板上表面12还设置有定位柱15。在本实施方式中，定位柱15至少为两个，且相互间隔设置。在本实施方式中，定位柱15为两个，且设置在矩形阵列的通孔11的一侧。孔板1上吸附的物料在组装过程中，通过设置定位柱15从而使其它治具或部件通过与定位柱15配合连接，即可保证孔板1上的物料与其它物料的相对位置准确，保证了物料组装位置的准确，进而对组装的产品的质量有益。

根据本实用新型的一种实施方式，基板2上设置有第一环状密封结构，孔板1上设置有与第一环状密封结构相匹配的第二环状密封结构。在本实施方式中，第一环状密封结构至少设置有一条，并且环绕设置在凹槽21周围周围。在本实施方式中，第一环状密封结构环状凸台或环状凹槽，则相应的第二环状密封结构为环状凹槽或环状凸台。通过第一环状密封结构和第二环状密封结构的相互配合连接，从而保证了孔板1和基板2连接位置的密封性，避免了孔板1和基板2连接位置处发生漏气的情况，从而保证了在孔板1上的物料被稳定吸附，进而保证了物料表面的受力均匀，对保证物料的平整度有益。

如图1所示，根据本实用新型的一种实施方式，孔板1或基板2上还设置有用于安装手柄的连接结构3。在本实施方式中，连接结构3可以为螺纹孔或者铰接座。在本实施方式中，连接结构3为螺纹孔，并且其分别设置在孔板1相对的两侧。通过设置连接结构3可以方便的与手柄可拆卸地连接，从而方便本实用新型的治具的搬运。

上述内容仅为本实用新型的具体方案的例子，对于其中未详尽描述的设备和结构，应当理解为采取本领域已有的通用设备及通用方法来予以实施。

以上所述仅为本实用新型的一个方案而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

一种真空吸附治具专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。