专利摘要
专利摘要
本发明的闪烁器面板(2A),其以厚度150μm以下的玻璃基板(11)为支撑体,由此可获得优异的放射线透过性及可挠性,且还可缓和热膨胀系数的问题。此外,在该闪烁器面板(2A),以覆盖玻璃基板(11)的一面(11a)侧和侧面(11c)侧的方式形成有机树脂层(12),且以覆盖形成有有机树脂层(12)的玻璃基板(11)的另一面(11b)侧和侧面(11c)侧的方式形成有机树脂层(15)。由此,就能够有效抑制边缘部份的缺损及龟裂的产生。另外,除了能够防止来自于玻璃基板(11)的侧面(11c)的杂散光以外,由于有机树脂层(12、15)覆盖表面全体,其结果,又可抑制玻璃基板(11)的翘曲。
权利要求
1.一种闪烁器面板,其特征在于,
具备:
具有放射线透过性的厚度为150μm以下的玻璃基板;
以覆盖所述玻璃基板的一面侧和侧面侧的方式形成的第1有机树脂层;
以覆盖形成有所述第1有机树脂层的所述玻璃基板的另一面侧和侧面侧的方式形成的第2有机树脂层;
在形成有所述第1有机树脂层和所述第2有机树脂层的所述玻璃基板的所述一面侧形成的闪烁器层;及
以覆盖形成有所述第1有机树脂层和所述第2有机树脂层的所述玻璃基板并且覆盖所述闪烁器层的方式形成的耐湿性的保护层。
2.如权利要求1所述的闪烁器面板,其特征在于,
所述第1有机树脂层含有白色颜料,所述第2有机树脂层含有黑色颜料。
3.如权利要求2所述的闪烁器面板,其特征在于,
所述白色颜料选自二氧化钛、氧化钇、氧化锌及氧化铝,所述黑色颜料选自碳黑或四氧化三铁。
4.一种闪烁器面板,其特征在于,
具备:
具有放射线透过性的厚度为150μm以下的玻璃基板;
以覆盖所述玻璃基板的另一面侧和侧面侧的方式形成的第1有机树脂层;
以覆盖形成有所述第1有机树脂层的所述玻璃基板的一面侧和侧面侧的方式形成的第2有机树脂层;
在形成有所述第1有机树脂层和所述第2有机树脂层的所述玻璃基板的所述一面侧形成的闪烁器层;及
以覆盖形成有所述第1有机树脂层和所述第2有机树脂层的所述玻璃基板并且覆盖所述闪烁器的方式形成的耐湿性的保护层。
5.如权利要求4所述的闪烁器面板,其特征在于,
所述第1有机树脂层含有黑色颜料,所述第2有机树脂层含有白色颜料。
6.如权利要求5所述的闪烁器面板,其特征在于,
所述白色颜料选自二氧化钛、氧化钇、氧化锌及氧化铝,所述黑色颜料选自碳黑或四氧化三铁。
7.一种放射线检测器,其特征在于,
具备:
权利要求1至6中任一项所述的闪烁器面板;及
与形成有所述保护层的所述闪烁器层相对配置的受光元件。
说明书
技术领域
本发明涉及闪烁器面板及放射线检测器。
背景技术
现有的闪烁器面板,例如有专利文献1所记载的闪烁器面板。该现有的闪烁器面板的结构,采用0.05mm的玻璃基板做为闪烁器层的支撑体。此外,在框体和闪烁器层之间配置有用于缓和来自框体外部的力的缓冲材及比闪烁器层刚性高的高刚性构件。
此外,专利文献2所记载的闪烁器面板,采用由聚酰亚胺类树脂膜或聚对二甲苯膜所覆盖的石墨基板做为支撑体。此外,专利文献3所记载的闪烁器面板,以聚对二甲苯膜等中间膜覆盖由无定形碳等形成的基板的全面。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-58124号公报
专利文献2:国际公开WO2009/028275号资料
专利文献3:日本特开2007-279051号公报
发明内容
发明所要解决的问题
对于应用在例如被称为薄膜晶体管(TFT)面板的固体检测器的闪烁器面板,所要求的是其可挠性足以跟随固体检测器的形状。此外,当TFT面板的热膨胀系数和闪烁器面板的基板的热膨胀系数之间有差异时,闪烁器面板的基板上的细微创伤,或利用蒸镀形成闪烁器层13时由异常成长部产生在与TFT面板之间的创伤,恐怕会因为动作时的热而相对于受光面产生移动,以致校准的工夫烦杂的问题产生。
为了解决上述可挠性的问题及热膨胀系数的问题,可考虑采用例如厚度为150μm以下的极薄玻璃做为闪烁器面板的基板。然而,采用极薄玻璃时,玻璃的端部(边缘部份)冲击性脆弱,会有缺损及产生龟裂的问题。
本发明是为了解决上述课题而完成,目的在于提供一种能够防止玻璃基板缺损及龟裂的产生且同时还能够确保可挠性的闪烁器面板及使用该闪烁器面板的放射线检测器。
解决问题的手段
为了解决上述问题,本发明所涉及的闪烁器面板,其特征为,具备:具有放射线透过性的厚度为150μm以下的玻璃基板;以覆盖玻璃基板的一面侧和侧面侧的方式形成的第1有机树脂层;以覆盖形成有第1有机树脂层的玻璃基板的另一面侧和侧面侧的方式形成的第2有机树脂层;在形成有第1有机树脂层和第2有机树脂层的玻璃基板一面侧形成的闪烁器层;及以覆盖形成有第1有机树脂层和第2有机树脂层的玻璃基板并且覆盖闪烁器层的方式形成的耐湿性的保护层。
该闪烁器面板,其以厚度150μm以下的玻璃基板为支撑体,由此可获得优异的放射线透过性及可挠性,且还可缓和热膨胀系数的问题。此外,该闪烁器面板,以覆盖玻璃基板的一面侧和侧面侧的方式形成第1有机树脂层,且以覆盖已形成有第1有机树脂层的玻璃基板的另一面侧和侧面侧的方式形成第2有机树脂层。由此,有机树脂层就会使玻璃基板强化,能够有效抑制边缘部份的缺损及龟裂的产生。另外,除了能够防止来自于玻璃基板的侧面的杂散光以外,由于第1有机树脂层和第2有机树脂层覆盖表面全体,其结果,可抑制玻璃基板的翘曲。
此外,优选为第1有机树脂层含有白色颜料,第2有机树脂层含有黑色颜料。在该形态时,第1有机树脂层具有反射光功能,由此可获得对应于用途的放射线特性。另外,第2有机树脂层具有吸收光功能,由此可防止光外泄,能够提高解像度。
另外,上述白色颜料,可选自二氧化钛、氧化钇、氧化锌及氧化铝;上述黑色颜料,可以选自碳黑或四氧化三铁。
另外,本发明所涉及的闪烁器面板,其特征为,具备:具有放射线透过性的厚度为150μm以下的玻璃基板;以覆盖玻璃基板的另一面侧和侧面侧的方式形成的第1有机树脂层;以覆盖形成有第1有机树脂层的玻璃基板的一面侧和侧面侧的方式形成的第2有机树脂层;在形成有第1有机树脂层和第2有机树脂层的玻璃基板一面侧形成的闪烁器层;及以覆盖形成有第1有机树脂层和第2有机树脂层的玻璃基板并且覆盖闪烁器层的方式形成的耐湿性的保护层。
该闪烁器面板,其以厚度150μm以下的玻璃基板为支撑体,由此可获得优异的放射线透过性及可挠性,且还可缓和热膨胀系数的问题。此外,该闪烁器面板,其以覆盖玻璃基板的另一面侧和侧面侧的方式形成第1有机树脂层,且以覆盖形成有第1有机树脂层的玻璃基板的一面侧和侧面侧的方式形成第2有机树脂层。由此,玻璃基板被2层的有机树脂层补强,能够有效抑制边缘部份的缺损及龟裂的产生。另外,除了能够防止来自于玻璃基板的侧面的杂散光以外,由于第1有机树脂层和第2有机树脂层覆盖表面全体,其结果可抑制玻璃基板翘曲。
此外,优选第1有机树脂层含有黑色颜料,第2有机树脂层含有白色颜料。在该形态时,第1有机树脂层具有吸光功能由此可防止泄光,能够提高解像度。另外,第2有机树脂层具有反光功能由此可获得对应于用途的放射线特性。
另外,上述白色颜料,可以选自二氧化钛、氧化钇、氧化锌及氧化铝;上述黑色颜料,可以选自碳黑或四氧化三铁。
另外,本发明所涉及的放射线检测器,其特征为,具备上述闪烁器面板及与形成有保护层的闪烁器层相对配置的受光元件。
该放射线检测器,其以厚度150μm以下的玻璃基板为闪烁器面板的支撑体,由此可获得优异的放射线透过性及可挠性,且还可缓和热膨胀系数的问题。此外,该放射线检测器,利用有机树脂层对玻璃基板补强,因此能够有效抑制边缘部份的缺损及龟裂的产生。另外,除了能够防止来自于玻璃基板的侧面的杂散光以外,由于第1有机树脂层和第2有机树脂层覆盖表面全体,其结果可抑制玻璃基板的翘曲。
发明效果
根据本发明时,能够防止玻璃基板的缺损及龟裂的产生,同时还能够确保可挠性。
附图说明
图1为表示本发明的第1实施方式所涉及的放射线检测器的结构的剖面图。
图2为表示本发明的第2实施方式所涉及的放射线检测器的结构的剖面图。
具体实施方式
以下,参照附图并对本发明所涉及的闪烁器面板及放射线检测器的优选实施方式进行详细说明。
[第1实施方式]
图1为表示本发明的第1实施方式所涉及的放射线检测器的结构的剖面图。如该图所示,放射线检测器1A,通过在闪烁器面板2A固定受光元件3而构成。受光元件3,例如是在玻璃基板上排列有光电二极管(PD)和薄膜晶体管(TFT)而成的TFT面板。
受光元件3,其以受光面3a对闪烁器面板2的下述闪烁器层13成相对的状态贴附在闪烁器面板2的一面侧。另外,受光元件3,除了TFT面板以外,还可采用CCD等影像传感器经由光纤板(FOP:数显微的光纤束札制成的光学设备,例如滨松Photonics公司制J5734)连接后构成的元件。
闪烁器面板2,由下述构成,即:成为支撑体的玻璃基板11:保护玻璃机板11的有机树脂层(第1有机树脂层)12及有机树脂层(第2有机树脂层)15;要将入射后的放射线转换成可视光的闪烁器层13;及保护闪烁器层13避免其受湿气侵袭的耐湿性的保护层14。
玻璃基板11,例如是厚度为150μm以下,优选为100μm以下极为薄的基板。通过将玻璃基板11的厚度形成为极薄,因此就可获得足够的放射线透过性及可挠性,能够确保贴附在受光元件3的受光面3a时闪烁器面板2的跟随性。
有机树脂层12及有机树脂层15,例如由硅类树脂、聚氨酯类树脂、环氧类树脂、氟类树脂等利用旋转涂布机涂布形成。有机树脂层12及有机树脂层15的厚度,例如为100μm程度。
有机树脂层12,其形成为覆盖玻璃基板11的一面侧11a和侧面11c侧。另一方面,有机树脂层15,其形成为覆盖形成有有机树脂层12的玻璃基板11的另一面11b侧和侧面11c侧。由此,玻璃基板11,其成为一面侧11a被有机树脂层12覆盖,另一面侧11b被有机树脂层15覆盖,侧面侧11c从内侧依有机树脂层12、有机树脂层15的顺序被覆盖成2层的状态。此外,有机树脂层12,其含有白色颜料例如二氧化钛、氧化钇、氧化锌、氧化铝等;有机树脂层15,其含有黑色颜料例如碳黑、四氧化三铁等。
闪烁器层13,其通过将例如掺杂Tl的Csl的柱状结晶利用蒸镀法使其成长及沉积,以形成在形成有有机树脂层12及有机树脂层15的玻璃基板11的一面11a侧(有机树脂层12上)。闪烁器层13的厚度,例如为250μm。闪烁器层13,其吸湿性高,若直接外露恐怕空气中的湿气会使其潮解。因此,对于闪烁器层13,需要有耐湿性的保护层14。
保护层14,其通过将例如聚对二甲苯等利用CVD法等气相沉积法使其成长,以覆盖形成有机树脂层12的玻璃基板11并且覆盖闪烁器层13的方式形成。保护层14的厚度,例如为10μm左右。
在具有以上所示的结构的放射线检测器1A,从玻璃基板11侧入射的放射线会在闪烁器层13转换成光,由受光元件3检测出。在闪烁器面板2A,由于其以厚度150μm以下的玻璃基板11为支撑体,因此就可获得优异的放射线透过性及可挠性。
由于玻璃基板11具有足够的可挠性,因此就能够满足闪烁器面板2A贴附在受光元件3的受光面3a时的形状跟随性。此外,受光元件3采用TFT面板,其受光面3a为玻璃制的面板时,就能够使受光面3a的热膨胀系数和闪烁器面板2A的玻璃基板11的热膨胀系数一致。因此,就能够防止玻璃基板11上的细微创伤或利用蒸镀形成闪烁器层13时由异常成长部产生在与TFT面板之间的创伤会因为动作时的热而相对于受光面3a产生移动,同时还能够避免校准的工夫变得烦杂。
此外,在该闪烁器面板2A,形成有有机树脂层12覆盖玻璃基板11的一面11a侧和侧面11c侧,且形成有有机树脂层15覆盖已形成有有机树脂层12的玻璃基板11的另一面11b侧和侧面11c侧。由此,玻璃基板11被有机树脂层12、15补强,能够有效抑制边缘部份的缺损及龟裂的产生。另外,玻璃基板11的侧面11c由有机树脂层12、15覆盖成双层覆盖,因此除了能够防止来自于侧面11c的杂散光以外,由于有机树脂层12和有机树脂层15覆盖表面全体,其结果可抑制玻璃基板11的翘曲。
另外,有机树脂层12和有机树脂层15形成为覆盖玻璃基板11表面全体,因此还能够以闪烁器层13形成时形成为适宜的表面能量及表面粗度的方式调整玻璃基板11的表面状态。
此外,在闪烁器面板2A,其有机树脂层12含有白色颜料,其有机树脂层15含有黑色颜料。在该形态时,通过有机树脂层12具有反射光功能,可使闪烁器面板2A获得对应于乳房X光摄影或胸部X光摄影等各种用途的放射线特性。另外,通过有机树脂层15具有吸收光功能可防止光外泄,能够提高解像度。
[第2实施方式]
图2为表示本发明第2实施方式所涉及的放射线检测器结构的剖面图。如该图所示,第2实施方式所涉及的放射线检测器1B,针对闪烁器面板2B,其有机树脂层12及有机树脂层15的配置位置与第1实施方式不同。
更具体而言,有机树脂层12,其形成为覆盖玻璃基板11的另一面11b侧和侧面11c侧。另一方面,有机树脂层15,其形成为覆盖已经形成有有机树脂层12的玻璃基板11的一面11a侧和侧面11c侧。由此,玻璃基板11,其就成为一面侧11a被有机树脂层15覆盖,另一面侧11b被有机树脂层12覆盖,侧面侧11c从内侧依有机树脂层12、有机树脂层15的顺序被覆盖成2层的状态。此外,有机树脂层12,其含有黑色颜料例如碳黑、四氧化三铁等;有机树脂层15其含有白色颜料例如二氧化钛、氧化钇、氧化锌、氧化铝等。
在上述所示结构中,其与上述实施方式相同,由于玻璃基板11被有机树脂层12、15补强,因此就能够抑制边缘部份的缺损及龟裂的产生。另外,除了能够防止来自于玻璃基板11的侧面11c的杂散光以外,通过表面全体覆盖有有机树脂层12、15,因此又可抑制玻璃基板11的翘曲。再加上,在玻璃基板11的侧面11c,基于含有黑色颜料的有机树脂层12位于内侧,因此能够更加有效防止来自于侧面11c的杂散光。
符号说明
1A、1B:放射线检测器
2A、2B:闪烁器面板
3:受光元件
11:玻璃基板
11a:一面
11b:另一面
11c:侧面
12:有机树脂层(第1有机树脂层)
13:闪烁器层
14:保护层
15:有机树脂层(第2有机树脂层)
闪烁器面板及放射线检测器专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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