专利摘要

专利摘要

本实用新型提供一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其包括屏蔽体，屏蔽体内的左侧壁上凸设左屏蔽板，屏蔽体内的右侧壁上凸设右屏蔽板，屏蔽体的底壁上设有支撑架，屏蔽体通过左屏蔽板、右屏蔽板和支撑架分隔为主屏蔽室、左辅助屏蔽室和右辅助屏蔽室，左侧壁上设有外入口，右侧壁上设有外出口，支撑架分别与左屏蔽板和右屏蔽板之间形成内入口和内出口，左辅助屏蔽室与主屏蔽室相连通，主屏蔽室与右辅助屏蔽室相连通，支撑架上设有多个导向辊，固设于支撑架上的吸收靶与固设于屏蔽体顶壁的电子加速器的扫描窗上下相对，主屏蔽室内的覆胶帘布经过吸收靶与所述扫描窗之间。其在屏蔽射线的同时，有效利用空间分配，占地面积小，材料损耗和重量小。

权利要求

1.一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置包括空心的屏蔽体，所述屏蔽体内的左侧壁上凸设水平设置的左屏蔽板，所述屏蔽体内的右侧壁上凸设水平设置的右屏蔽板，所述屏蔽体的底壁上设有位于所述左屏蔽板和所述右屏蔽板之间的支撑架，所述屏蔽体通过所述左屏蔽板、所述右屏蔽板和所述支撑架分隔为位于上方的主屏蔽室和位于下方的左辅助屏蔽室与右辅助屏蔽室，所述左侧壁上设有供覆胶帘布穿入所述左辅助屏蔽室的外入口，所述右侧壁上设有供所述覆胶帘布穿出所述右辅助屏蔽室的外出口，所述支撑架与所述左屏蔽板之间形成内入口，所述支撑架与所述右屏蔽板之间形成内出口，所述左辅助屏蔽室通过所述内入口与所述主屏蔽室相连通，所述主屏蔽室通过所述内出口与所述右辅助屏蔽室相连通，所述支撑架上设有多个引导所述覆胶帘布依次穿过所述内入口、所述内出口和所述外出口的导向辊，所述支撑架上固设吸收靶，所述屏蔽体的顶壁固设电子加速器，所述吸收靶与所述电子加速器的扫描窗上下相对，进入所述主屏蔽室内接受辐照的所述覆胶帘布经过所述吸收靶与所述扫描窗之间。

2.根据权利要求1所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述主屏蔽室内设有能摆动的束流挡板，所述束流挡板的一端枢接于所述屏蔽体，所述束流挡板的另一端能挡设于所述扫描窗与所述吸收靶之间。

3.根据权利要求2所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述束流挡板、所述吸收靶和所述导向辊均由不锈钢制成，所述束流挡板和所述吸收靶内设有循环冷却水，所述导向辊的直径为100mm～250mm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述导向辊为四个，两个所述导向辊对称设于所述支撑架的上方，另两个所述导向辊分别与所述外入口和所述外出口相对。

5.根据权利要求1所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述主屏蔽室内设有风冷却机构，所述风冷却机构位于所述电子加速器的一侧，所述风冷却机构的出风口与所述扫描窗的出口相对。

6.根据权利要求1所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述屏蔽体的侧壁包括所述左侧壁、所述右侧壁、前侧壁和后侧壁，所述屏蔽体的顶壁和侧壁均是由四层钢板叠设而成，所述左屏蔽板和所述右屏蔽板均是由三层钢板叠设而成。

7.根据权利要求6所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述屏蔽体的顶壁和侧壁的厚度均为150mm～300mm，所述左屏蔽板和所述右屏蔽板的厚度均为100mm～200mm。

8.根据权利要求1所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述外入口和所述外出口水平共线，所述内入口和所述内出口均与所述屏蔽体的底壁相垂直。

9.根据权利要求1或8所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述外入口的宽度、所述外出口的宽度、所述内入口的宽度和所述内出口的宽度均为10mm～15mm，所述外入口和所述外出口距地面的高度均为50mm～70mm。

10.根据权利要求1所述的覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其特征在于，所述主屏蔽室内接受辐照的所述覆胶帘布与所述扫描窗之间的距离为60mm～100mm。

说明书

技术领域

本实用新型涉及橡胶辐射加工技术领域，具体是一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置。

背景技术

随着轮胎行业技术改造升级的进行，越来越多的轮胎厂家在轮胎生产中引入了辐照预硫化技术和装备，这种变革性的轮胎制造技术已在相关专利技术中得到了体现例如中国发明专利CN200810105983.X、CN200810105985.9、CN200810105986.3及CN200910090089.4。该技术要求在轮胎生产线中加入模块式的电子加速器辐照系统，并要求该系统设备结构紧凑、占地面积小。特别是针对一些老的生产线改造，由于厂房已经定型、事先未为辐照系统预留位置，对电子加速器辐照系统设备提出了更高的要求，而决定电子加速器辐照系统占地面积最主要的因素便是自屏蔽结构的设计和束下运输系统的设计。

目前，国内外现有的电子加速器的自屏蔽结构和束下装置，为了保证自屏蔽结构的屏蔽效果，都是采用在产品的传输方向上直接增加屏蔽空间、增加屏蔽用档板等措施，从而导致自屏蔽结构占地面积大，体积大，屏蔽体耗材和重量也随之上升，无法满足上述要求。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其在屏蔽射线的同时，有效利用空间分配，结构紧凑，占地面积小，材料损耗和重量小。

本实用新型的上述目的可采用下列技术方案来实现：

本实用新型提供一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其包括空心的屏蔽体，所述屏蔽体内的左侧壁上凸设水平设置的左屏蔽板，所述屏蔽体内的右侧壁上凸设水平设置的右屏蔽板，所述屏蔽体的底壁上设有位于所述左屏蔽板和所述右屏蔽板之间的支撑架，所述屏蔽体通过所述左屏蔽板、所述右屏蔽板和所述支撑架分隔为位于上方的主屏蔽室和位于下方的左辅助屏蔽室与右辅助屏蔽室，所述左侧壁上设有供覆胶帘布穿入所述左辅助屏蔽室的外入口，所述右侧壁上设有供所述覆胶帘布穿出所述右辅助屏蔽室的外出口，所述支撑架与所述左屏蔽板之间形成内入口，所述支撑架与所述右屏蔽板之间形成内出口，所述左辅助屏蔽室通过所述内入口与所述主屏蔽室相连通，所述主屏蔽室通过所述内出口与所述右辅助屏蔽室相连通，所述支撑架上设有多个引导所述覆胶帘布依次穿过所述内入口、所述内出口和所述外出口的导向辊，所述支撑架上固设吸收靶，所述屏蔽体的顶壁固设电子加速器，所述吸收靶与所述电子加速器的扫描窗上下相对，进入所述主屏蔽室内接受辐照的所述覆胶帘布经过所述吸收靶与所述扫描窗之间。

在优选的实施方式中，所述主屏蔽室内设有能摆动的束流挡板，所述束流挡板的一端枢接于所述屏蔽体，所述束流挡板的另一端能挡设于所述扫描窗与所述吸收靶之间。

在优选的实施方式中，所述束流挡板、所述吸收靶和所述导向辊均由不锈钢制成，所述束流挡板和所述吸收靶内设有循环冷却水，所述导向辊的直径为100mm～250mm。

在优选的实施方式中，所述导向辊为四个，两个所述导向辊对称设于所述支撑架的上方，另两个所述导向辊分别与所述外入口和所述外出口相对。

在优选的实施方式中，所述主屏蔽室内设有风冷却机构，所述风冷却机构位于所述电子加速器的一侧，所述风冷却机构的出风口与所述扫描窗的出口相对。

在优选的实施方式中，所述屏蔽体的侧壁包括所述左侧壁、所述右侧壁、前侧壁和后侧壁，所述屏蔽体的顶壁和侧壁均是由四层钢板叠设而成，所述左屏蔽板和所述右屏蔽板均是由三层钢板叠设而成。

在优选的实施方式中，所述屏蔽体的顶壁和侧壁的厚度均为150mm～300mm，所述左屏蔽板和所述右屏蔽板的厚度均为100mm～200mm。

在优选的实施方式中，所述外入口和所述外出口水平共线，所述内入口和所述内出口均与所述屏蔽体的底壁相垂直。

在优选的实施方式中，所述外入口的宽度、所述外出口的宽度、所述内入口的宽度和所述内出口的宽度均为10mm～15mm，所述外入口和所述外出口距地面的高度均为50mm～70mm。

在优选的实施方式中，所述主屏蔽室内接受辐照的所述覆胶帘布与所述扫描窗之间的距离为60mm～100mm。

本实用新型覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置的特点及优点是：

1、本实用新型在屏蔽体内相对的两个侧壁上对称的设置两个屏蔽板、并于屏蔽体的底壁上设置位于两个屏蔽板之间的支撑架，以通过支撑架和两个屏蔽板将屏蔽体分隔为位于上方的主屏蔽室和位于主屏蔽室下方且呈对称设置的左辅助屏蔽室和右辅助屏蔽室，既满足了屏蔽性能的要求，又进行了巧妙的空间设计，充分利用了屏蔽体内空间，节约了在产品的传输方向上的空间，使屏蔽系统在产品的传输方向上的占地由现有的2.0米缩短到1.2米左右，结构紧凑，减小了占地面积和体积，大大降低了屏蔽系统的耗材。

2、本实用新型通过在屏蔽体的左侧壁上设置外入口、右侧壁上设置外出口、支撑架与左屏蔽板和右屏蔽板之间分别设置内入口和内出口，使覆胶帘布在多个导向辊的引导下，依次经外入口进入左辅助屏蔽室内、经内入口进入主屏蔽室内、经内出口进入右辅助屏蔽室内、经外出口穿出右辅助屏蔽室，实现在主屏蔽室内对覆胶帘布进行辐照，同时能减小占地面积，减少屏蔽系统的材料损耗和重量。

3、本实用新型通过在屏蔽体的顶壁设置电子加速器、在支撑架上设置吸收靶，并使电子加速器的扫描窗与吸收靶上下相对，以使电子加速器的扫描窗对覆胶帘布进行辐照后的射线由吸收靶吸收；同时在主屏蔽室内设置束流挡板，以在无需辐照时，通过束流挡板将电子加速的扫描窗与覆胶帘布隔离；并通过在主屏蔽室内设置风冷却机构，实现对电子加速器的扫描窗的出口的冷却，及通过向束流挡板和吸收靶内通入循环冷却水，实现降温冷却。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置的结构示意图。

附图标号说明：

1、覆胶帘布；2、外入口；3、左辅助屏蔽室；4、左屏蔽板；5、内入口；6、导向辊；7、风冷却机构；8、主屏蔽室；9、屏蔽体；10、左侧壁；11、顶壁；12、右侧壁；13、扫描窗；14、束流挡板；15、吸收靶；16、支撑架；17、内出口；18、右屏蔽板；19、右辅助屏蔽室；20、外出口；21、地面；22、底壁。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

除非单独定义指出的方向以外，本文中涉及到的上、下、左、右、前、后等方向均是以本实用新型所示的图1中的上、下、左、右、前、后等方向为准，在此一并说明。

如图1所示，本实用新型提供一种覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，其包括空心的屏蔽体9，所述屏蔽体9内的左侧壁10上凸设水平设置的左屏蔽板4，所述屏蔽体9内的右侧壁12上凸设水平设置的右屏蔽板18，所述屏蔽体9的底壁22上设有位于所述左屏蔽板4和所述右屏蔽板18之间的支撑架16，所述屏蔽体9通过所述左屏蔽板4、所述右屏蔽板18和所述支撑架16分隔为位于上方的主屏蔽室8和位于下方的左辅助屏蔽室3与右辅助屏蔽室19，所述左侧壁10上设有供覆胶帘布1穿入所述左辅助屏蔽室3的外入口2，所述右侧壁12上设有供所述覆胶帘布1穿出所述右辅助屏蔽室19的外出口20，所述支撑架16与所述左屏蔽板4之间形成内入口5，所述支撑架16与所述右屏蔽板18之间形成内出口17，所述左辅助屏蔽室3通过所述内入口5与所述主屏蔽室8相连通，所述主屏蔽室8通过所述内出口17与所述右辅助屏蔽室19相连通，所述支撑架16上设有多个引导所述覆胶帘布1依次穿过所述内入口5、所述内出口17和所述外出口20的导向辊6，所述支撑架16上固设吸收靶15，所述屏蔽体9的顶壁11固设电子加速器，所述吸收靶15与所述电子加速器的扫描窗13上下相对，进入所述主屏蔽室8内接受辐照的所述覆胶帘布1经过所述吸收靶15与所述扫描窗13之间。

具体的，本实用新型的屏蔽体9大体呈箱体状，其由顶壁、四个侧壁和底壁围设而成，使覆胶帘布1于其内进行辐照，避免对工作人员等造成辐射，屏蔽体9的高度大于屏蔽体9的宽度，以节省产品传输方向上的空间，在屏蔽体9内的相对的左侧壁10和右侧壁12上分别水平的凸设左屏蔽板4和右屏蔽板18，即左屏蔽板4和右屏蔽板18均与侧壁垂直设置，也即左侧壁10上凸设左屏蔽板4，二者可焊接相连或采用其他方式相连，右侧壁12上凸设右屏蔽板18，二者可焊接相连或采用其他方式相连，左屏蔽板4和右屏蔽板18水平共线，且沿屏蔽体9的竖向中心轴线对称设置，另外，还可在侧壁上与扫描窗13的出口相对的位置处设置辅助屏蔽板，以增强屏蔽效果；支撑架16固设于屏蔽体9的底壁上并向上延伸，且支撑架16介于左屏蔽板4与右屏蔽板18之间，以将屏蔽体9分为位于上方的主屏蔽室8和位于下方两侧的左辅助屏蔽室3与右辅助屏蔽室19，以更好的隔离射线，支撑架16的左侧边与外入口2及左屏蔽板4相对，支撑架16的右侧边与外出口20及右屏蔽板18相对，使支撑架16的左侧边与左屏蔽板4之间形成内入口5、支撑架16的右侧边与右屏蔽板18之间形成内出口17，支撑架16的上方设有凹槽，凹槽内固设吸收靶15，吸收靶15的横截面大体呈直角形，且其两端分别固设于凹槽的两个侧壁，使吸收靶15的直角端与扫描窗13上下相对且位于屏蔽体9的竖向中心轴线上，以更好的吸收射线，屏蔽体9内的顶壁11上固设电子加速器，以对进入主屏蔽室8内且对应移动至电子加速器下方的覆胶帘布1进行辐照，电子加速器为现有技术中已知的技术，在此不再赘述。

进一步的，如图1所示，所述主屏蔽室8内设有能摆动的束流挡板14，所述束流挡板14的一端枢接于所述屏蔽体9，所述束流挡板14的另一端能挡设于所述扫描窗13与所述吸收靶15之间，具体的，束流挡板14用于在产品不需要进行辐照时，处于扫描窗13的出口与被辐照的产品之间，以挡住电子加速器的扫描窗13的出口，防止电子束流辐照到产品，而在产品需要辐照时，束流挡板14能移动至扫描窗13的一侧，使电子束流能不受阻挡的辐照到产品上；束流挡板14的横截面大体呈L形，束流挡板14的下端为自由端，其能挡设于扫描窗13与吸收靶15之间，也可不挡设于二者之间，束流挡板14上端能通过横杆固设于屏蔽体9的前侧壁或后侧壁上，且束流挡板14与横杆之间能摆动的相连，或者束流挡板14的上端与电子加速器的外壳上的横板相连，且束流挡板14与横板之间为能摆动的相连，束流挡板14的上端与PLC控制系统的摆动臂相连，以通过PLC控制系统控制摆动臂摆动，进而通过摆动臂带动束流挡板14摆动，并通过摆动角度的设置实现定位，使束流挡板14位于打开位置或关闭位置，其中，PLC控制系统是通过气动装置驱动并由定位器控制，其主要包括控制单元和驱动单元，控制单元包括控制器和显示器，以实时显示束流挡板14的位置，驱动单元包括摆动臂和气缸，气缸与控制单元电连接，以受控制单元的控制器设定的程序的控制驱动摆动臂摆动，其中，PLC控制系统为现有技术中已知的产品，在此不再赘述。

进一步的，如图1所示，所述导向辊6为四个，两个所述导向辊6对称设于所述支撑架16的上方，另两个所述导向辊6分别与所述外入口2和所述外出口20相对，具体的，导向辊6大体呈圆柱状，其两端均穿设有轴承，导向辊6通过轴承能转动的安装于支撑架16的安装架上，其中，支撑架16的上方的两侧分别设有一个安装架，支撑架16的两侧边上分别设有一个安装架，每个安装架沿前后方向延伸，每个安装架上沿其延伸方向间隔的设置两个轴承，每个安装架的两个轴承之间固设一个导向辊6，使导向辊6能带动覆胶帘布1转动，通过在该四个位置设置导向辊6，以便于经外入口2进入左辅助屏蔽室3的覆胶帘布1完成90度角度变化而进入主屏蔽室8内，且便于主屏蔽室8内的覆胶帘布1大致呈水平状，以利于接收辐照，还便于接收辐照完的覆胶帘布1完成90度角度变化后进入右辅助屏蔽室19，再水平的从外出口20穿出，较佳的，导向辊6的一端可穿出轴承并与电机的输出轴通过减速器相啮合，以通过电机带动各导向辊6转动，关于导向辊6数量的设置，也可根据实际需要设置为其他数量，例如6个、8个或更多个，只要能满足传输要求即可，在此不做限制，其中，导向辊6、轴承和支撑架16的设计承受张力均大于2.0吨，以满足使用需求。

优选的，所述束流挡板14、所述吸收靶15和所述导向辊6均由不锈钢制成，其中的不锈钢材料可为304系列或316系列，当然也可采用其他合适的材料，在此不做限制；所述束流挡板14和所述吸收靶15内设有循环冷却水，其中，束流挡板14内部设有通道，屏蔽体9外设有盛装冷却水的容器和第一循环泵，第一循环泵的入口与容器连通，第一循环泵的出口与束流挡板14的通道的入口连通，束流挡板14的通道的出口与容器连通，由此实现通往束流挡板14的通道内的冷却水的循环，实现降温，同理，吸收靶15内设有通道，屏蔽体9外设有第二循环泵，第二循环泵的入口与容器连通，第二循环泵的出口与吸收靶15的通道的入口连通，吸收靶15的通道的出口与容器连通，由此实现通往吸收靶15内的通道内的冷却水的循环，实现降温；所述导向辊6的直径为100mm～250mm，该尺寸的设置既利于屏蔽体9内空间的利用，又能充分满足对覆胶帘布1的导向要求，当然，也可根据实际需要设置为其他合适尺寸，在此不做限制。

进一步的，如图1所示，所述主屏蔽室8内设有风冷却机构7，所述风冷却机构7位于所述电子加速器的一侧，所述风冷却机构7的出风口与所述扫描窗13的出口相对，以对扫描窗13的钛膜进行冷却，其中，风冷却机构7包括风机和疏风管道，风机设于屏蔽体9外，疏风管道自屏蔽体9的顶壁11或侧壁穿入并延伸至扫描窗13的出口处，使疏风管道的出风口与扫描窗13的出口相对，以将风机抽入的冷风经疏风管道输送后再经出风口喷出，实现降温。

进一步的，如图1所示，所述屏蔽体9的侧壁包括所述左侧壁10、所述右侧壁12、前侧壁和后侧壁，所述屏蔽体9的顶壁11和侧壁均是由四层钢板叠设而成，屏蔽体9的底壁22由一层钢板形成，所述左屏蔽板4和所述右屏蔽板18均是由三层钢板叠设而成，以满足辐照屏蔽需求，当然也可根据实际需要设置为其他数量的钢板叠加，在此不做设置，多层钢板之间可通过粘接、焊接、压接等工艺实现；优选的，所述屏蔽体9的顶壁11和侧壁的厚度均为150mm～300mm，所述左屏蔽板4和所述右屏蔽板18的厚度均为100mm～200mm，以实现更好的辐照屏蔽。

进一步的，如图1所示，所述外入口2和所述外出口20水平共线，即外入口2和外出口20均为水平设置，所述内入口5和所述内出口17均与所述屏蔽体9的底壁22相垂直，即内入口5和内出口17均为竖直设置，以充分利用空间，实现覆胶帘布1的传输和辐照。优选的，所述外入口2的宽度、所述外出口20的宽度、所述内入口5的宽度和所述内出口17的宽度均为10mm～15mm，以便于覆胶帘布1无阻碍的穿设，所述外入口2和所述外出口20距地面21的高度均为50mm～70mm，以使外入口2与主屏蔽室8左下方的左辅助屏蔽室3对应并连通、外出口20与主屏蔽室8右下方的右辅助屏蔽室19对应并连通。

进一步的，所述主屏蔽室8内接受辐照的所述覆胶帘布1与所述扫描窗13之间的距离为60mm～100mm，以更好的接受辐照。

本实用新型覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置，更具体的是一种覆胶帘布辐射预硫化用电子加速器自屏蔽束下装置，其呈轴对称结构设计，适用于具有骨架材料的覆胶帘布和具有一定强度的塑料卷材的辐射交联加工，在一优选的实施例中，其屏蔽体9的顶壁11和侧壁的厚度均为200mm，屏蔽体9的底壁22的厚度为50mm，屏蔽体9的左侧壁10和右侧壁12之间的宽度(也即屏蔽系统在产品的传输方向上的占地宽度)为1.2m，左屏蔽板4和右屏蔽板18的厚度均为150mm，外入口2、外出口20、内入口5和内出口17的宽度均为15mm，外入口2和外出口20距地面21的高度为60mm，扫描窗13与主屏蔽室8内呈水平状态的覆胶帘布1之间的距离为100mm，导向辊的直径为150mm，在距离屏蔽体9外表面20mm处的辐照泄漏剂量率为0.8μSv/h(微希沃特/小时)。

本实用新型覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置在进行辐照工作前，先通过PLC系统控制束流挡板14摆动，使其离开电子加速器的扫描窗13的出口，到达打开位置，避开阻挡X射线，同时打开与束流挡板14和吸收靶15分别连通的第一循环泵和第二循环泵，并开启风冷却机构7的风机；在进行辐照工作时，覆胶帘布1水平的经屏蔽体9的左侧壁10上的外入口2进入左辅助屏蔽室3，并经位于左辅助屏蔽室3内且固设于支撑架16外侧上的一导向辊6的导引而逆时针改变90度的角度，竖直向上的经左屏蔽板4与支撑架16之间的内入口5进入主屏蔽室8内，并经位于主屏蔽室8内且固设于支撑架16左上方的一导向辊6的导引而顺时针改变90度的角度，水平的从扫描窗13下经过，以进行辐照处理，然后通过位于主屏蔽室8内且固设于支撑架16右上方的一导向辊6的导引而顺时针改变90度的角度，竖直向下的经内出口17进入右辅助屏蔽室19内，并经位于右辅助屏蔽室19内且固设于支撑架16外侧上的一导向辊6的导引而逆时针改变90度的角度，水平的经外出口20穿出右辅助屏蔽室19，完成辐照处理；完成辐照工作后，通过PLC系统控制束流挡板14摆动，使其回位到扫描窗13与吸收靶15之间，也即关闭位置，以阻挡射线造成的辐射，并待各部件冷却后，关闭与束流挡板14和吸收靶15分别连接的第一循环泵和第二循环泵，并关闭风冷却机构7的风机即可。

本实用新型覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置的特点及优点是：

1、本实用新型在屏蔽体9内相对的两个侧壁(即左侧壁10和右侧壁12)上对称的设置两个屏蔽板(即左屏蔽板4和右屏蔽板18)、并于屏蔽体9的底壁22上设置位于两个屏蔽板之间的支撑架16，以通过支撑架16和两个屏蔽板将屏蔽体9分隔为位于上方的主屏蔽室8和位于主屏蔽室8下方且呈对称设置的左辅助屏蔽室3和右辅助屏蔽室19，既满足了屏蔽性能的要求，又进行了巧妙的空间设计，充分利用了屏蔽体9内空间，节约了在产品的传输方向上的空间，使屏蔽系统在产品的传输方向上的占地由现有的2.0米缩短到1.2米左右，结构紧凑，减小了占地面积和体积，大大降低了屏蔽系统的耗材。

2、本实用新型通过在屏蔽体9的左侧壁10上设置外入口2、右侧壁12上设置外出口20、支撑架16与左屏蔽板4和右屏蔽板18之间分别设置内入口5和内出口17，使覆胶帘布1在多个导向辊6的引导下，依次经外入口2进入左辅助屏蔽室3内、经内入口5进入主屏蔽室8内、经内出口17进入右辅助屏蔽室19内、经外出口20穿出右辅助屏蔽室19，实现在主屏蔽室8内对覆胶帘布1进行辐照，同时能减小占地面积，减少屏蔽系统的材料损耗和重量。

3、本实用新型通过在屏蔽体9的顶壁11设置电子加速器、在支撑架16上设置吸收靶15，并使电子加速器的扫描窗13与吸收靶15上下相对，以使电子加速器的扫描窗13对覆胶帘布1进行辐照后的射线由吸收靶15吸收；同时在主屏蔽室8内设置束流挡板14，以在无需辐照时，通过束流挡板14将电子加速的扫描窗13与覆胶帘布1隔离；并通过在主屏蔽室8内设置风冷却机构7，实现对电子加速器的扫描窗13的出口的冷却，及通过向束流挡板14和吸收靶15内通入循环冷却水，实现降温冷却。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型做任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本实用新型技术方案的范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

覆胶帘布辐照用自屏蔽束下装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。