专利摘要

专利摘要

本公开提供一种腔式紫外激光杀病毒装置，包括紫外激光系统以及壳体；所述紫外激光系统用于产生波长为200‑256nm的可调谐紫外光；所述壳体用于容纳待杀毒的气体，所述壳体的前端设有进气道，壳体的后端设有出气道，所述进气道与出气道位于壳体相对的两侧且呈非对称设置；所述进气道和出气道处均设有遮光板，所述遮光板包括两个多孔板，所述多孔板上均匀开设有通孔，所述两个多孔板上的通孔相互错开设置；所述壳体包括光入射口，所述光入射口设置透射光栅，所述紫外光经过所述透射光栅衍射成多束沿不同方向传播的紫外光；所述壳体内壁设置多个漫反射板，所述紫外光经所述漫反射板在所述壳体内多次反射进行杀毒。本公开装置能够有效对空气进行杀毒。

权利要求

1.一种腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：包括紫外激光系统以及壳体；所述紫外激光系统用于产生波长为200-266nm的可调谐紫外光；

所述壳体用于容纳待杀毒的气体，所述壳体的前端设有进气道，壳体的后端设有出气道，所述进气道与出气道位于壳体相对的两侧且呈非对称设置；所述进气道和出气道处均设有遮光板，所述遮光板包括两个多孔板，所述多孔板上均匀开设有通孔，所述两个多孔板上的通孔相互错开设置；

所述壳体包括光入射口，所述光入射口设置透射光栅，所述紫外光经过所述透射光栅衍射成多束沿不同方向传播的紫外光；所述壳体内壁设置多个漫反射板，所述紫外光经所述漫反射板在所述壳体内多次反射进行杀毒。

2.根据权利要求1所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述漫反射板包括底板和设置于所述底板上的光学结构，所述光学结构使得入射至上面的紫外激光向不特定方向反射。

3.根据权利要求2所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述光学结构包括多个间隔设置的锥体，每个所述锥体截面均不相同，所述间隔为1-10mm。

4.根据权利要求3所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述锥体包括三棱锥、四棱锥、五棱锥和圆锥；所述三棱锥、四棱锥、五棱锥的棱与所述底板的角度均不相同。

5.根据权利要求4所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述锥体侧面包括多个离散的不规则突起，所述突起的高度小于1-5mm。

6.根据权利要求1所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述漫反射板包括模压的有机材料板，所述有机材料板具有不规则表面，所述不规则表面使入射的紫外激光发生漫反射。

7.根据权利要求1所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述进气道包括送风系统，用于提升进气速度，所述出气道包括抽风系统，用于将杀毒完毕的净化气体抽离所述壳体。

8.根据权利要求1所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：还包括气体检测装置，用于对所述壳体内的气体进行检测；所述气体检测装置包括位于所述壳体顶部的气体抽取装置和与所述气体抽取装置连接的气体分析装置，所述气体分析装置用于对气体抽取装置抽取的气体进行实时检测。

9.根据权利要求1所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述透射光栅的线密度3000-5000线/毫米，深度为1.8微米，占空比为1/3。

10.根据权利要求1所述的腔式紫外激光杀病毒装置，其特征在于：所述紫外激光系统包括：泵浦激光器发射的泵浦光入射至隔离装置，经所述隔离装置透射的泵浦光入射至第一全反镜,所述第一全反镜为临界角为0°的全反镜，经所述全反镜透射的泵浦光入射至晶体，所述晶体沿光入射的方向的长度为15mm，泵浦光经所述晶体吸收后产生第一波长激光，所述第一波长激光入射至第二全反镜，所述第二全反镜为临界角为45°的全反镜；经第二全反镜全反射的第一波长激光入射至倍频组件，经所述倍频组件倍频后产生第二波长的紫外光，所述紫外光从输出耦合镜输出。

一种腔式紫外激光杀病毒装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。