专利转让平台_买专利_卖专利_中国高校专利技术交易-买卖发明专利上知查网

全部分类
全部分类
基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法

基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法

IPC分类号 : G03H1/00,G02B27/00

申请号
CN201811037258.3
可选规格

    看了又看

  • 专利类型:
  • 法律状态: 有权
  • 公开号: CN109270815B
  • 公开日: 2019-01-25
  • 主分类号: G03H1/00
  • 专利权人: 武汉大学

专利摘要

专利摘要

本发明提供了一种基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1.构造混合图像:对于两幅图像,选取每个图像指定频率范围内的信息,并将其进行叠加得到混合图像;步骤2.基于混合图像的超表面全息设计:基于工作波长λ,采用电磁仿真软件,以圆偏光垂直照射纳米砖单元基本结构,优化设计出反射交叉偏振转化效率高、反射同向偏振转化效率低的纳米砖参数;将混合图像作为超表面阵列的目标全息图像,用G‑S算法进行相位优化;步骤3.构造纳米砖阵列实现光学信息隐藏:基于步骤2的设计,将优化后的单个纳米砖单元进行排列,即构造出可以实现光学信息隐藏的超表面阵列结构。

权利要求

1.一种基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1.构造混合图像

对于两幅图像,基于人眼观察目标的特性和图像的频率信息,选取每个图像指定频率范围内的信息,并将其进行叠加得到混合图像;混合图像式中为待隐藏的图像l1经过低频滤波器滤波后的部分,为图像l2经过高通滤波器滤波后的部分;所述高通滤波器和低通滤波器都选用高斯滤波器;

步骤2.基于混合图像的超表面全息设计

基于工作波长λ,采用电磁仿真软件,以圆偏光垂直照射纳米砖单元基本结构,优化设计出反射交叉偏振转化效率高、反射同向偏振转化效率低的纳米砖单元结构参数:单元尺寸C、纳米砖的高度H、长度L、宽度W;把构造的混合图像选为全息的目标影像,进行超表面全息设计;首先选取工作波长为633nm,然后,针对该波长,采用电磁仿真软件对硅纳米砖单元的结构参数进行仿真,仿真以左旋圆偏光垂直入射、以反射的右旋圆偏光的转化效率作为优化对象,扫描单元结构尺寸C、纳米砖长度L、宽度W,以获得最佳参数,在对应的中心波长633nm处实现交叉偏振的高效率转化、且同时实现同向偏振的有效抑制;

将混合图像作为超表面阵列的目标全息图像,用G-S算法进行相位优化;

步骤3.获得光学信息隐藏器件

基于步骤2的设计,将优化后的单个纳米砖单元进行排列,即构建出能光学信息隐藏的超表面阵列结构,仅仅通过改变观测距离便可以实现图像的隐藏和获取,

其中,所述超表面阵列采用反射式的SOI材料,三层结构分别为晶体硅纳米砖,二氧化硅层,和晶体硅基底;所述二氧化硅层的厚度为2000nm,顶层硅高度为220nm。

2.根据权利要求1所述的基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法,其特征在于:

其中,在步骤1中,为了保证信息隐藏的安全性和可用性,需要在设定高通滤波器的高斯核σhigh和低通滤波器的高斯核σlow时进行参数权衡,首先对混合前的各图像分别进行频谱分析,以1/2增益值对应的频率为初始值,然后结合人眼视觉对比敏感度对参数进行微调。

3.根据权利要求1所述的基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法,其特征在于:

其中,所述超表面阵列为周期性排列的纳米砖阵列结构,每一个周期包含多个均匀分布、尺寸相同、朝向不同的纳米砖。

4.根据权利要求3所述的基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法,其特征在于:

其中,建立所述硅纳米砖单元的工作面坐标系,x轴方向和y轴方向分别与介质基底的两组边平行,所述纳米砖单元在x轴方向和y轴方向的周期dx、dy分别为dx=mλ/[2tan(θx/2)],dy=nλ/[2tan(θy/2)],式中θx和θy分别表示目标全息图像在x轴方向和y轴方向的投影角度,m和n分别表示目标全息图像在x轴方向和y轴方向的像素数。

基于几何相位超表面全息的光学信息隐藏方法专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

动态评分

0.0

没有评分数据
没有评价数据