专利摘要

本实用新型提供了一种遮光片。遮光片沿光轴方向具有物侧面和像侧面，包括：主体部，主体部具有中空结构，至少中空结构的侧壁上设置有染色层，染色层的表面由主体部的物侧表面向主体部的像侧表面倾斜向上延伸；第一表层，第一表层贴设在物侧表面上；第二表层，第二表层贴设在像侧表面上，且第一表层的内侧表面、第二表层的内侧表面和染色层的表面均在同一平面上。本实用新型解决了现有技术中遮光片存在杂散光的问题。

权利要求

1.一种遮光片，其特征在于，所述遮光片沿光轴方向具有物侧面和像侧面，包括：

主体部(10)，所述主体部(10)具有中空结构(11)，至少所述中空结构(11)的侧壁上设置有染色层(12)，所述染色层(12)的表面由所述主体部(10)的物侧表面向所述主体部(10)的像侧表面倾斜向上延伸；

第一表层(20)，所述第一表层(20)贴设在所述物侧表面上；

第二表层(30)，所述第二表层(30)贴设在所述像侧表面上，且所述第一表层(20)的内侧表面、所述第二表层(30)的内侧表面和所述染色层(12)的表面均在同一平面上。

2.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，所述染色层(12)的表面的倾斜角度a大于等于20度且小于等于70度。

3.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，所述染色层(12)至少吸收波长为380纳米至780纳米的光。

4.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，

所述第一表层(20)包括至少一层材料；和/或

所述第二表层(30)包括至少一层材料。

5.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，

所述第一表层(20)至少包括碳层；和/或

所述第二表层(30)至少包括碳层。

6.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，所述主体部(10)是圆环状结构、方环状结构、三角环状结构中的一种。

7.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，所述主体部(10)包括聚对苯二甲酸乙二酯层、聚酰亚胺层中的一层。

8.根据权利要求1所述的遮光片，其特征在于，所述染色层(12)由两种材料组成。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的遮光片，其特征在于，

所述遮光片的内侧面直径A大于等于0.1毫米且小于等于15毫米；

所述遮光片的外侧面直径B大于等于0.3毫米且小于等于15毫米；

所述外侧面与所述内侧面之间的差值C大于等于0.2毫米且小于等于10毫米。

10.根据权利要求1至8中任一项所述的遮光片，其特征在于，

所述第一表层(20)的厚度D大于等于1微米且小于等于10微米；

所述第二表层(30)的厚度E大于等于1微米且小于等于10微米；

所述主体部(10)的厚度F大于等于5微米且小于等于50微米。

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学成像设备技术领域，具体而言，涉及一种遮光片。

背景技术

随着具有摄影功能的电子产品的快速发展，人们对成像镜头的品质要求越来越高，杂散光严重影响成像镜头的成像质量，在提高成像镜头的成像质量的路上，杂散光是亟待解决的问题。

也就是说，现有技术中遮光片存在杂散光的问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种遮光片，以解决现有技术中遮光片存在杂散光的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种遮光片，遮光片沿光轴方向具有物侧面和像侧面，包括：主体部，主体部具有中空结构，至少中空结构的侧壁上设置有染色层，染色层的表面由主体部的物侧表面向主体部的像侧表面倾斜向上延伸；第一表层，第一表层贴设在物侧表面上；第二表层，第二表层贴设在像侧表面上，且第一表层的内侧表面、第二表层的内侧表面和染色层的表面均在同一平面上。

进一步地，染色层的表面的倾斜角度a大于等于20度且小于等于70度。

进一步地，染色层至少吸收波长为380纳米至780纳米的光。

进一步地，第一表层包括至少一层材料；和/或第二表层包括至少一层材料。

进一步地，第一表层至少包括碳层；和/或第二表层至少包括碳层。

进一步地，主体部是圆环状结构、方环状结构、三角环状结构中的一种。

进一步地，主体部包括聚对苯二甲酸乙二酯层、聚酰亚胺层中的一层。

进一步地，染色层由两种材料组成。

进一步地，遮光片的内侧面直径A大于等于0.1毫米且小于等于15毫米；遮光片的外侧面直径B大于等于0.3毫米且小于等于15毫米；外侧面与内侧面之间的差值C大于等于0.2毫米且小于等于10毫米。

进一步地，第一表层厚度D大于等于1微米且小于等于10微米；第二表层厚度E大于等于1微米且小于等于10微米；主体部的厚度F大于等于5微米且小于等于50微米。

应用本实用新型的技术方案，遮光片沿光轴方向具有物侧面和像侧面，遮光片包括主体部、第一表层和第二表层，主体部具有中空结构，至少中空结构的侧壁上设置有染色层，染色层的表面由主体部的物侧表面向主体部的像侧表面倾斜向上延伸；第一表层贴设在物侧表面上；第二表层贴设在像侧表面上，且第一表层的内侧表面、第二表层的内侧表面和染色层的表面均在同一平面上。

通过在中空结构的侧壁上设置染色层使得射入到染色层上的光被吸收，进而减少了光在中空结构的侧壁上来回反射，进而减少了杂散光的产生。第一表层和第二表层均能够吸收射入到第一表层和第二表层上的光，以减少对光线的反射，进而大大减少了杂散光的产生。通过将染色层的表面设置成斜面可以使得射入到染色层上且不能被吸收的光线被反射到中空结构内，进而不再与遮光片发生干涉，以进一步减少杂散光的产生。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了本实用新型的一个可选实施例的遮光片的结构示意图；以及

图2示出了图1中遮光片的入射光线和反射光线的位置关系图；

图3示出了图1中的主体部的结构示意图；

图4示出了图1中的遮光片的主体部、第一表层和第二表层的厚度关系图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、主体部；11、中空结构；12、染色层；20、第一表层；30、第二表层。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

需要指出的是，除非另有指明，本申请使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本实用新型。

为了解决现有技术中遮光片存在杂散光的问题，本实用新型提供了一种遮光片。

如图1至图4所示，遮光片沿光轴方向具有物侧面和像侧面，遮光片包括主体部10、第一表层20和第二表层30，主体部10具有中空结构11，至少中空结构11的侧壁上设置有染色层12，染色层12的表面由主体部10的物侧表面向主体部10的像侧表面倾斜向上延伸；第一表层20贴设在物侧表面上；第二表层30贴设在像侧表面上，且第一表层20的内侧表面、第二表层30的内侧表面和染色层12的表面均在同一平面上。

通过在中空结构11的侧壁上设置染色层12使得射入到染色层12上的光被吸收，进而减少了光在中空结构11的侧壁上来回反射，进而减少了杂散光的产生。第一表层20和第二表层30均能够吸收射入到第一表层20和第二表层30上的光，以减少对光线的反射，进而大大减少了杂散光的产生。通过将染色层12的表面设置成斜面可以使得射入到染色层12上且不能被吸收的光线被反射到中空结构11内，进而不再与遮光片发生干涉，以进一步减少杂散光的产生。

需要说明的是，第一表层20和第二表层30均是中空结构的，而上述的第一表层20的内侧表面和第二表层30的内侧表面均是指中空结构的侧壁面。

具体的，染色层12的表面的倾斜角度a大于等于20度且小于等于70度。这样设置可以保证加工的便利性的同时保证消除杂散光的效果。

如图2所示，光线以入射角b射向染色层12后以出射角c射出，以使光线被反射到中空结构11内。

在本实施例中，将染色层12的表面设置成斜面可以增加染色层12与光的接触面积，吸收更多的光。

需要说明的是，光线的入射角度小于染色层12的表面的倾斜角度a的光均被反射到中空结构11内，而不再与遮光片相互作用，以消除杂散光。染色层12的表面的倾斜角度可以根据具体的遮光片的使用需求来设计。

具体的，染色层12至少吸收波长为380纳米至780纳米的光。由于杂散光主要产生于可见光波段，将染色层12吸收可见光波段的光，可以大大减少杂散光，进而提高遮光片的遮光效率。

可选地，第一表层20包括至少一层材料；和/或第二表层30包括至少一层材料。多层材料可以增加对光线的吸收能力，进而减少杂散光的产生。

具体的，第一表层20至少包括碳层；和/或第二表层30至少包括碳层。碳层具有很好的光线吸收能力，可以吸光可见光，以减少杂散光的产生，进而可以增加镜头的成像质量。

在本实施例中，主体部10是圆环状结构、方环状结构、三角环状结构中的一种。主体部10仅需要有中空结构11让光线通过即可，不会对光线形成遮挡就可以。主体部10的形状可以是圆环状结构、方环状结构或者三角环状结构，但主体部10的形状不限于此，也可以是多边形环状结构，只需要遮光片可以安装到镜筒上，可以让光线通过即可。

在本实施例中，主体部10包括聚对苯二甲酸乙二酯层、聚酰亚胺层中的一层。这样设置主体部10的机械强度高、不易变形，各个位置处的厚度更均匀，使得主体部10更易加工。

在本实施例中，染色层12由两种材料组成。

需要说明的是，在本申请中，在主体部10上涂覆染色剂，而染色剂会有一部分渗入到主体部10中，而主体部10上外部的染色剂和主体部10上渗入染色剂的部分构成染色层12。本申请中的染色层12由两种材料组成指的是染色剂是一种材料，主体部10是一种材料，并不是指染色剂渗入到主体部10后形成的新材料。

需要说明的是，染色层12是黑色的，黑色具有良好的吸收光线的能力，反射光线的能力较差，进而减少杂散光的产生。

在本实施例中，遮光片的内侧面直径A大于等于0.1毫米且小于等于15毫米；遮光片的外侧面直径B大于等于0.3毫米且小于等于15毫米；外侧面与内侧面之间的差值C大于等于0.2毫米且小于等于10毫米。这样设置使得遮光片的不会遮挡成像的光线，而仅仅能吸收杂散光，以降低杂散光的产生。此外，这样设置还便于遮光片的成型制作。

如图3所示，第一表层20、主体部10和第二表层30的形状是一样的，主体部10的内侧面直径就是遮光片的内侧面直径A，主体部10的外侧面直径就是遮光片的外侧面直径B。

在本实施例中，第一表层20的厚度D大于等于1微米且小于等于10微米；第二表层30的厚度E大于等于1微米且小于等于10微米；主体部10的厚度F大于等于5微米且小于等于50微米。这样设置可以保证遮光片吸收光线的效率，且能满足遮光片的机械强度，进而可以保证遮光片工作的稳定性。

需要说明的是，在本实施例中，染色层12是通过染色剂染到主体部10上的，对于主体部10的染色可以有两种方式，一种是先对主体部10进行染色，然后再将第一表层20、主体部和第二表层30连接在一起。还有一种是先将第一表层20、主体部10和第二表层堆叠而成，再对主体部10的中空结构11的侧壁进行染色以形成染色层12。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

遮光片专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。