IPC分类号 : C09K11/02; C09K11/59; C23C16/26; C25F3/12
专利摘要
本发明提供了一种高光致发光性能的石墨烯‑多孔硅材料及制备方法,制备步骤如下:1、通过CVD法在铜箔上制备单层石墨烯,得到有石墨烯覆盖的铜箔;2、选择n型单晶硅片,进行双面抛光;3、将步骤2中处理好的n型单晶硅片依次在无水乙醇、去离子水中超声清洗,清洗后吹干;将吹干的n型单晶硅片在氢氟酸/无水乙醇混合溶液中进行电化学腐蚀,电化学腐蚀完成后用去离子水清洗,并吹干得到多孔硅;4、将石墨烯处理后,使多孔硅表面与石墨烯复合;最后将石墨烯与多孔硅复合的材料置于丙酮中去胶,得到所述的高光致发光性能的石墨烯‑多孔硅材料。本发明制备的石墨烯‑多孔硅材料,显著提高了多孔硅的光学性能指标,拓宽了其光学应用前景。
专利附图
一种高光致发光性能的石墨烯-多孔硅材料及制备方法专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
动态评分
0.0