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一种钼酸锰微纳米束及其制备方法

一种钼酸锰微纳米束及其制备方法

IPC分类号 : C01G45/00

申请号
CN201710318684.3
可选规格
  • 专利类型: 发明专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日:
  • 公开号:
  • 公开日: 2018-09-18
  • 主分类号: C01G45/00
  • 专利权人: 陕西科技大学

专利摘要

本发明提供的一种钼酸锰微纳米束及其制备方法,包括以下步骤:第一步,配置浓度为0.1~3mol/L的四水醋酸锰水溶液;第二步,配置0.05~0.2mol/L的二水钼酸钠溶液;第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:(1~2)的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行水热反应,充分反应后得到中间产物;第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下进行煅烧,煅烧3~5h后,进行冷却至室温后,得到钼酸锰微纳米束。本发明制备所得的微纳米束具有X形结构的微观形貌,具有较大的比表面积,提高了钼酸锰的电化学性能,并且其成本低、纯度高以及较为简单制备方法,使得钼酸锰微纳米束在纳米电子器件领域具有潜在的市场前景。

权利要求

1.一种钼酸锰微纳米束的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

第一步,配置浓度为3mol/L的四水醋酸锰水溶液;

第二步,配置0.1~0.2mol/L的二水钼酸钠溶液;

第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:(1.4~2)的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行水热反应,充分反应后得到中间产物,其中,水热反应的工艺参数为,反应温度:100℃~140℃,反应时间:3~5h;

第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下进行煅烧,煅烧3~5h后,进行冷却至室温后,得到X形钼酸锰微纳米束,其中,煅烧的工艺参数为,煅烧温度为400℃~600℃,升温速率为3℃·min-1,煅烧时间为3~5h。

2.根据权利要求1所述的一种钼酸锰微纳米束的制备方法,其特征在于:制备所得的钼酸锰微纳米束是由长度为25微米、直径为150纳米的纳米线交叉堆叠而成的X形结构。

3.一种钼酸锰微纳米束,其特征在于,通过权利要求1-2中任一项所述的制备方法制备所得。

4.根据权利要求3所述的一种钼酸锰微纳米束,其特征在于:所述钼酸锰微纳米束是由长度为25微米、直径为150纳米的纳米线交叉堆叠而成的X形结构。

说明书

技术领域

本发明属于无机微纳米材料制备领域,尤其涉及一种钼酸锰微纳米束及其制备方法。

背景技术

微纳米钼酸盐(MMoO4)由于其晶体结构的特殊性,在光、电、磁等领域广泛应用,并拥有广阔的市场前景,因此吸引了众多科研者的目光,尤其MnMoO4成为研究的焦点。如中国专利CN102502846A公开了纳米片组装成微米棒结构的钼酸锰材料的制备方法;中国专利CN102154701A公开了钼酸锰钼酸钴分级异质结构纳米线的制备方法;上述发明的制备方法需要在制备过程中需要加入大量的表面活性剂(CTAB),并且制备工艺相对复杂,产物纯度不高等问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种X形钼酸锰微纳米束的制备方法,解决了现有钼酸锰材料的制备过程需要加入大量的表面活性剂、工艺相对复杂的问题。

为了达到上述目的,本发明采用的技术方案具体如下:

本发明提供的一种钼酸锰微纳米束的制备方法,包括以下步骤:

第一步,配置浓度为0.1~3mol/L的四水醋酸锰水溶液;

第二步,配置0.05~0.2mol/L的二水钼酸钠溶液;

第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:(1~2)的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行水热反应,充分反应后得到中间产物;

第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下进行煅烧,煅烧3~5h后,进行冷却至室温后,得到钼酸锰微纳米束。

优选地,第三步中,水热反应的工艺参数为,反应温度:100℃~140℃,反应时间:3~5h。

优选地,第四步中,煅烧的工艺参数为,煅烧温度为400℃~600℃,升温速率为3℃·min-1,煅烧时间为为3~5h。

优选地,制备所得的钼酸锰微纳米束是由长度为25微米、直径为150纳米的纳米线交叉堆叠而成的X形结构。

一种钼酸锰微纳米束,通过权利要求1-4所述的制备方法制备所得。

优选地,所述钼酸锰微纳米束是由长度为25微米、直径为150纳米的纳米线交叉堆叠而成的X形结构。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

本发明提供的一种钼酸锰微纳米束的制备方法,首先通过利用水热、煅烧的方法,不需要天界表面活性剂,能够制备出具有高纯度的钼酸锰微纳米束。该微纳米束具有X形结构的微观形貌,较大了钼酸锰的比表面积,提高了钼酸锰的电化学性能,并且其成本低、纯度高以及较为简单制备方法,使得钼酸锰微纳米束在纳米电子器件领域具有潜在的市场前景。

附图说明

图1为X形钼酸锰微纳米束扫描电镜图;

图2为X形钼酸锰微纳米束的XRD图;

图3为X形钼酸锰微纳米束在1C电流密度下的循环性能图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例进一步详细说明。

本发明提供的一种钼酸锰微纳米束的制备方法,包括以下步骤:

第一步,配置浓度为0.1~3mol/L的四水醋酸锰水溶液;

第二步,配置0.05~0.2mol/L的二水钼酸钠溶液;

第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:1~2的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行密封,同时在100℃~140℃的温度下水热反应3~5h,充分反应后将其抽滤、洗涤、干燥,得到中间产物;

第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下,煅烧温度为400℃~600℃,升温速率为3℃·min-1,煅烧3~5h后,充分反应后进行冷却至室温后,得到钼酸锰微纳米束。

图1,为样品的SEM图,图中可得到所得的钼酸锰微是由长度为25微米、直径150纳米的纳米线交叉堆叠而成的X形结构微纳米束;该形貌具有较大的比表面积,有利于提高钼酸锰的电化学性能;

图2为制备出的钼酸锰的XRD图,其测试的2θ范围为10°~80°。从图中可以看出其衍射峰尖锐,衍射强度较高,和标准卡片的衍射峰角度基本一致,并未出现其它的杂峰,表明该制备方法合成的物质纯度高、结晶性良好。

图3为制备出的X形钼酸锰微纳米束在1C的电流密度下恒流充放电循环性能测试图,该测试进行了200次循环,电压区间为0.01—3.0V,从图中可以看出该样品的循环曲线较为平稳,并具有较高的可逆比容量。在循环200次以后,其可逆比容量维持在338mAh/g,表明该结构的钼酸锰具有良好的电化学性能。

实施例1

第一步,配置浓度为0.1mol/L的四水醋酸锰水溶液;

第二步,配置0.05mol/L的二水钼酸钠溶液;

第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:1的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行密封,同时在120℃的温度下水热反应3h,然后将其抽滤、洗涤、干燥,得到中间产物;

第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下,煅烧温度为400℃,升温速率为3℃·min-1,煅烧3h,冷却至室温后,得到钼酸锰微纳米束。

实施例2

第一步,配置浓度为1mol/L的四水醋酸锰水溶液;

第二步,配置0.1mol/L的二水钼酸钠溶液;

第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:1.4的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行密封,同时在100℃的温度下水热反应4h,然后将其抽滤、洗涤、干燥,得到中间产物;

第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下,煅烧温度为500℃,升温速率为3℃·min-1,煅烧4h,冷却至室温后,得到钼酸锰微纳米束。

实施例3

第一步,配置浓度为2mol/L的四水醋酸锰水溶液;

第二步,配置0.15mol/L的二水钼酸钠溶液;

第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:1.7的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行密封,同时在130℃的温度下水热反应5h,然后将其抽滤、洗涤、干燥,得到中间产物;

第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下,煅烧温度为600℃,升温速率为3℃·min-1,煅烧5h,冷却至室温后,得到钼酸锰微纳米束。

实施例4

第一步,配置浓度为3mol/L的四水醋酸锰水溶液;

第二步,配置0.2mol/L的二水钼酸钠溶液;

第三步,将四水醋酸锰水溶液和二水钼酸钠溶液按照1:2的体积比进行混合,搅拌均匀后,倒入反应釜中,并进行密封,同时在140℃的温度下水热反应3h,然后将其抽滤、洗涤、干燥,得到中间产物;

第四步,将上述所得中间产物放入管式炉中,并在氩气气氛下,煅烧温度为500℃,升温速率为3℃·min-1,煅烧4h,冷却至室温后,得到钼酸锰微纳米束。

以上内容仅为说明本发明的技术思想,不能以此限定本发明的保护范围,凡是按照本发明提出的技术思想,在技术方案基础上所做的任何改动,均落入本发明权利要求书的保护范围之内。

一种钼酸锰微纳米束及其制备方法专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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