专利摘要

专利摘要

本实用新型涉及一种带回字形凹槽的草坪砖，包括砖体，所述砖体的顶面沿其中心向边沿发展的方向依次开设有若干条横向剖面呈回字形的凹槽。本实用新型提供的草坪砖的顶面上开设有若干条横向剖面呈回字形的凹槽用于种植草类植物，应用该草坪砖，能够隔离植物种植的土壤和屋顶，避免施加的肥料和水分长时间与屋顶接触而对屋顶造成损坏。

权利要求

1.一种带回字形凹槽的草坪砖，包括砖体，其特征在于：所述砖体的顶面沿其中心向边沿发展的方向依次开设有若干条横向剖面呈回字形的凹槽；

所述开设的横向剖面呈回字形的凹槽的数量不少于2条；

所述若干条横向剖面呈回字形的凹槽的中心与砖体顶面的中心重合；

所述砖体顶面的中心处开设有一横向剖面呈矩状的凹槽；

所述横向剖面呈矩状的凹槽与横向剖面呈回字形的凹槽间或横向剖面呈回字形的凹槽与邻近的横向剖面呈回字形凹槽间的间距等于一固定值。

2.根据权利要求1所述的带回字形凹槽的草坪砖，其特征在于：所述砖体上开设有两条横向剖面呈呈回字形的凹槽，分别为第一凹槽、第二凹槽，其中第一凹槽开设在第二凹槽环绕的砖体内，横向剖面呈矩状的凹槽开设于第一凹槽环绕的砖体内，且横向剖面呈矩状的凹槽的开设位置位于砖体顶面的中心处。

3.根据权利要求1~2任一项所述的带回字形凹槽的草坪砖，其特征在于：所述开设在砖体上的所有的凹槽的开设深度为一固定值。

4.根据权利要求3所述的带回字形凹槽的草坪砖，其特征在于：所述砖体的长为30.00cm，宽为15.00cm，高为4.00cm。

5.根据权利要求3所述的带回字形凹槽的草坪砖，其特征在于：所述横向剖面呈回字形的凹槽其左右两侧的槽宽为2.00cm，上下两侧的槽宽为1.30cm。

6.根据权利要求3所述的带回字形凹槽的草坪砖，其特征在于：所述横向剖面呈矩状的凹槽的长为10.00cm，宽为2.00cm。

说明书

技术领域

本实用新型涉及屋顶绿化领域，更具体地，涉及一种带回字形凹槽的草坪砖。

背景技术

现有技术在对屋顶进行绿化时一般是将草类植物直接种植在屋顶的土壤中的。由于草类植物的生长过程中是需要施加肥料和水分的，肥料及水分长时间与屋顶接触会对木质或混凝土质的屋顶造成腐蚀，从而损坏屋顶的结构。

实用新型内容

本实用新型为解决以上现有技术的缺陷，提供了一种带回字形凹槽的草坪砖，该草坪砖的顶面上开设有若干条横向剖面呈回字形的凹槽用于种植草类植物，应用该草坪砖，能够隔离植物种植的土壤和屋顶，避免施加的肥料和水分长时间与屋顶接触而对屋顶造成损坏。

为实现以上实用新型目的，采用的技术方案是：

一种带回字形凹槽的草坪砖，包括砖体，所述砖体的顶面沿其中心向边沿发展的方向依次开设有若干条横向剖面呈回字形的凹槽。

优选地，所述开设的横向剖面呈回字形的凹槽的数量不少于2条。

优选地，所述若干条横向剖面呈回字形的凹槽的中心与砖体顶面的中心重合。

优选地，所述砖体顶面的中心处开设有一横向剖面呈矩状的凹槽。

优选地，所述横向剖面呈矩状的凹槽与横向剖面呈回字形的凹槽间或横向剖面呈回字形的凹槽与邻近的横向剖面呈回字形凹槽间的间距等于一固定值。

优选地，所述砖体上开设有两条横向剖面呈呈回字形的凹槽，分别为第一凹槽、第二凹槽，其中第一凹槽开设在第二凹槽环绕的砖体内，横向剖面呈矩状的凹槽开设于第一凹槽环绕的砖体内，且横向剖面呈矩状的凹槽的开设位置位于砖体顶面的中心处。

优选地，所述开设在砖体上的所有的凹槽的开设深度为一固定值。

优选地，所述砖体的长为30.00cm，宽为15.00cm，高为4.00cm。

优选地，所述横向剖面呈回字形的凹槽其左右两侧的槽宽为2.00cm，上下两侧的槽宽为1.30cm。

优选地，所述横向剖面呈矩状的凹槽的长为10.00cm，宽为2.00cm。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型提供的草坪砖的顶面上开设有若干条横向剖面呈回字形的凹槽用于种植草类植物，应用该草坪砖，能够隔离植物种植的土壤和屋顶，避免施加的肥料和水分长时间与屋顶接触而对屋顶造成损坏。

附图说明

图1为草坪砖的结构示意图。

具体实施方式

附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；

以下结合附图和实施例对本实用新型做进一步的阐述。

实施例1

如图1所示，带回字形凹槽的草坪砖包括砖体1，所述砖体的顶面沿其中心向边沿发展的方向依次开设有若干条横向剖面呈回字形的凹槽11。横向剖面呈回字形的凹槽11用于种植草类植物比如绵竹草等。

其中，如图1所示，砖体1的长为30.00cm，宽为15.00cm，高为4.00cm；横向剖面呈回字形的凹槽11其左右两侧的槽宽为2.00cm，上下两侧的槽宽为1.30cm。

实施例2

本实施例的草坪砖的结构与实施例1的结构类似，唯一不同的地方在于，如图1所示，砖体1顶面的中心处开设有一横向剖面呈矩状的凹槽12。而砖体上开设有两条横向剖面呈回字形的凹槽11，分别为第一凹槽101、第二凹槽102，其中第一凹槽101开设在第二凹槽102环绕的砖体1内，横向剖面呈矩状的凹槽12开设于第一凹槽101环绕的砖体1内。其中，第一凹槽101、第二凹槽102的中心与砖体1顶面的中心重合。横向剖面呈矩状的凹槽12与第一凹槽101之间，或第一凹槽101与第一凹槽102之间的间距等于一固定值。

如图1所示，开设在砖体1上的所有的凹槽的开设深度为一固定值。

如图1所示，所述横向剖面呈矩状的凹槽12的长为10.00cm，宽为2.00cm。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

一种带回字形凹槽的草坪砖专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。