专利摘要

本发明的实施例提供了一种射频线圈装置，其包括线圈支架和线圈，线圈支架的内表面形成中空腔体，线圈支架的外表面用于固定线圈；线圈支架的外表面上形成凹槽，凹槽的内部包括多个子凹槽，线圈在多个子凹槽中依次缠绕排列形成多匝线圈，线圈产生的磁场方向与线圈支架的中心轴线垂直。本发明的实施例还提供了一种磁力仪，包括上述的射频线圈装置和原子气室，其中，原子气室设于线圈支架形成的中空腔体内。本发明实施例的射频线圈装置，减小了线圈的占用空间，外形和尺寸灵活可调，且便于安装；磁力仪组成中，使得线圈和原子气室形成的整体构型更加小型化。

权利要求

1.一种射频线圈装置，包括线圈支架和线圈，其中，

所述线圈支架的内表面形成中空腔体，所述中空腔体用于容纳原子气室，并且所述中空腔体的形状、尺寸和所述原子气室的形状、尺寸相适应，所述线圈支架的外表面用于固定所述线圈；

所述线圈支架的外表面上形成凹槽，所述凹槽设置成固定所述线圈，所述线圈支架的内表面形成圆柱形中空腔体，所述凹槽包括沿圆柱形圆周方向的上弧形凹槽和下弧形凹槽，所述上弧形凹槽和下弧形凹槽分别临近所述线圈支架的圆柱形外表面的上下两个圆周表面设置，所述上弧形凹槽和下弧形凹槽的相邻两端分别通过直形凹槽连接，所述直形凹槽为平行于圆柱形的中心轴线方向；所述线圈产生的磁场方向与所述线圈支架的中心轴线垂直。

2.根据权利要求1所述的射频线圈装置，其中，

所述凹槽的内部包括多个子凹槽，所述多个子凹槽的形状与所述凹槽的形状相同；

所述多个子凹槽的每相邻两个子凹槽之间的间距相同；

所述线圈在所述多个子凹槽中依次缠绕排列形成多匝线圈。

3.根据权利要求1所述的射频线圈装置，其中，

所述凹槽的数量为两个，分别为第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽和第二凹槽相对于圆柱形的中心轴线对称。

4.根据权利要求1所述的射频线圈装置，其中，

所述上弧形凹槽和下弧形凹槽相互对称；与所述上弧形凹槽和下弧形凹槽的相邻两端分别连接的直形凹槽相互对称。

5.根据权利要求3所述的射频线圈装置，其中，

所述上弧形凹槽和下弧形凹槽中分别设置多个上弧形子凹槽和下弧形子凹槽；

所述直形凹槽中设置多个直形子凹槽；

所述多个上弧形子凹槽、下弧形子凹槽以及直形子凹槽分别连接形成多个子凹槽；

所述多个子凹槽在所述第一凹槽和/第二凹槽中等间距排列。

6.根据权利要求1所述的射频线圈装置，其中，

所述上弧形凹槽和下弧形凹槽分别与所述直形凹槽相连接的位置，上弧形凹槽和下弧形凹槽以及直形凹槽各自延伸出一段距离，用于引出线圈的末端引出线。

7.根据权利要求3或5所述的射频线圈装置，其中，

所述线圈从第一凹槽中开始缠绕固定，线圈在所述第一凹槽中缠绕完成后继续在所述第二凹槽中缠绕固定；

所述线圈在所述第一凹槽和第二凹槽中缠绕的方向相同；

所述线圈在所述第一凹槽和第二凹槽中产生的磁场方向相同，所述磁场方向与所述圆柱形的中心轴线垂直。

8.根据权利要求1所述的射频线圈装置，其中，

根据线圈材料的磁导率、直径以及线圈匝数，计算通入所述线圈的激励电流和产生的磁场强度之间的关系，使得射频线圈在应用时，已知激励电流的大小便能够对应得到射频线圈产生的磁场强度的大小。

9.一种磁力仪，包括射频线圈装置和原子气室，其中，

所述射频线圈装置包括线圈支架和线圈，所述线圈支架的内表面形成中空腔体，所述中空腔体设置成容纳所述原子气室，所述中空腔体的形状、尺寸和所述原子气室的形状、尺寸相适应，所述线圈支架的外表面用于固定所述线圈；

所述线圈支架的外表面上形成凹槽，所述凹槽设置成固定所述线圈，所述线圈支架的内表面形成圆柱形中空腔体，所述凹槽包括沿圆柱形圆周方向的上弧形凹槽和下弧形凹槽，所述上弧形凹槽和下弧形凹槽分别临近所述线圈支架的圆柱形外表面的上下两个圆周表面设置，所述上弧形凹槽和下弧形凹槽的相邻两端分别通过直形凹槽连接，所述直形凹槽为平行于圆柱形的中心轴线方向；所述线圈产生的磁场方向与所述线圈支架的中心轴线垂直。

10.一种磁力仪，包括射频线圈装置和原子气室，其中，

所述原子气室为圆柱形；

所述射频线圈装置包括线圈支架和线圈，所述线圈支架的内表面形成圆柱形中空腔体，所述中空腔体设置成容纳所述原子气室，所述中空腔体的形状、尺寸和所述原子气室的形状、尺寸相适应；

所述线圈支架的外表面上形成凹槽，所述凹槽设置成固定所述线圈；

所述凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽和第二凹槽相对于圆柱形的中心轴线对称；

所述第一凹槽和第二凹槽均包括沿圆柱形圆周方向的上弧形凹槽和下弧形凹槽，所述上弧形凹槽和下弧形凹槽分别临近所述线圈支架的圆柱形外表面的上下两个圆周表面设置；所述上弧形凹槽和下弧形凹槽的相邻两端分别通过直形凹槽连接，所述直形凹槽为平行于圆柱形的中心轴线方向；所述线圈产生的磁场方向与所述线圈支架的中心轴线垂直。

11.根据权利要求10所述的磁力仪，其中，

所述线圈支架的外表面具有一侧边开口，所述侧边开口平行于圆柱形的中心轴线方向，所述侧边开口位于第一凹槽和第二凹槽的相邻的两个直形凹槽之间；所述侧边开口设置成容纳原子气室的突出部位。

光泵磁力仪射频线圈装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。