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一种轻武器射击虚光消减装置

一种轻武器射击虚光消减装置

IPC分类号 : F41G11/00I,F41G1/00I

申请号
CN201920701657.9
可选规格

    看了又看

  • 专利类型:
  • 法律状态: 有权
  • 公开号: CN210089502U
  • 公开日: 2020-02-18
  • 主分类号: F41G11/00I
  • 专利权人: 中国人民解放军陆军军事交通学院汽车士官学校

专利摘要

专利摘要

本实用新型公开一种轻武器射击虚光消减装置,包括呈矩形的遮光板,遮光板沿底边间隔设有一组凹槽,使遮光板底部形成梳齿;遮光板的梳齿部能够与枪支上护盖及枪支表尺共同形成的齿状间隙对应形成插接配合;通过遮光板将枪支上护盖及枪支表尺共同形成的齿状间隙进行遮挡,从而阻止多余的光线照射,消除虚光,提高射手处理准星尖与觇孔平正关系的精确度,确保瞄准时准星尖位于觇孔中心,提高射击时的瞄准精确度。

权利要求

1.一种轻武器射击虚光消减装置,其特征在于,包括呈矩形的遮光板,遮光板沿底边间隔设有一组凹槽,使遮光板底部形成梳齿;遮光板的梳齿部能够与枪支上护盖及枪支表尺共同形成的齿状间隙对应形成插接配合。

2.根据权利要求1所述的一种轻武器射击虚光消减装置,其特征在于,所述遮光板长24mm、宽12mm;所述凹槽包含第一凹槽、第二凹槽与第三凹槽,第一凹槽位于遮光板中心,第二凹槽与第三凹槽分别对称设于第一凹槽两侧;第一凹槽长5mm、宽3mm;第二凹槽与第三凹槽的长均为2mm、宽均为3mm。

3.根据权利要求1或2所述的一种轻武器射击虚光消减装置,其特征在于,所述遮光板采用泡沫、塑料或木材。

说明书

技术领域

本实用新型涉及射击配件技术领域,具体是一种轻武器射击虚光消减装置。

背景技术

在轻武器射击领域,对于觇孔式瞄准机构,当进行射击瞄准时,正确的做法是觇孔、准星与射击目标三点一线。对于我军目前大量装备的95式自动步枪来说,其在用机械瞄准器瞄准射击时,无论选定哪一表尺,正确的瞄准都应该是肉眼通视觇孔、准星,使准星尖位于觇孔中心,并保持枪面水平,同时瞄向瞄准点。

然而,从实际的操作来看,由于觇孔周围透光性较强,也即觇孔周围是枪支上护盖及枪支表尺共同形成的齿状间隙,光线由齿状间隙照进,使得瞄准时,射手在处理准星尖与觇孔的平正关系时不够精确,射手受到“虚光”的干扰,使得瞄准容易存在一定的误差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种轻武器射击虚光消减装置,该装置能够有效降低觇孔周围的透光性,消除虚光,提高瞄准精度。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:

一种轻武器射击虚光消减装置,包括呈矩形的遮光板,遮光板沿底边间隔设有一组凹槽,使遮光板底部形成梳齿;遮光板的梳齿部能够与枪支上护盖及枪支表尺共同形成的齿状间隙对应形成插接配合。

进一步的,所述遮光板长24mm、宽12mm;所述凹槽包含第一凹槽、第二凹槽与第三凹槽,第一凹槽位于遮光板中心,第二凹槽与第三凹槽分别对称设于第一凹槽两侧;第一凹槽长5mm、宽3mm;第二凹槽与第三凹槽的长均为2mm、宽均为3mm。

进一步的,所述遮光板采用泡沫、塑料或木材。

本实用新型的有益效果是,通过遮光板将枪支上护盖及枪支表尺共同形成的齿状间隙进行遮挡,从而阻止多余的光线照射,消除虚光,提高射手处理准星尖与觇孔平正关系的精确度,确保瞄准时准星尖位于觇孔中心,提高射击时的瞄准精确度。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的使用示意图;

图3是图2中枪支上护盖及枪支表尺的示意图。

具体实施方式

如图1所示,本实用新型提供一种轻武器射击虚光消减装置,包括呈矩形的遮光板1,遮光板1沿底边间隔设有一组凹槽,使遮光板1底部形成梳齿1a;本实施例包含三个凹槽,即第一凹槽2、第二凹槽3与第三凹槽4,第一凹槽2位于遮光板中心,第二凹槽3与第三凹槽4分别对称设于第一凹槽2两侧。遮光板1的长度a=24mm、宽度b=12mm;第一凹槽2的长度c=5mm、宽度d=3mm;第二凹槽3与第三凹槽4的长度e均为2mm、宽度与第一凹槽相同均为3mm。

作为优选的,遮光板1采用泡沫、塑料或木材制成。遮光板的厚度可以与枪支表尺厚度相同,或是略薄于枪支表尺。

结合图2与图3所示,遮光板1的梳齿部1a能够与枪支上护盖5及枪支表尺6共同形成的齿状间隙7对应形成插接配合。

由于遮光板1将齿状间隙7进行了遮挡,所以能够阻止多余的光线照射,消除觇孔8周围的虚光,提高射手处理准星尖与觇孔平正关系的精确度,确保瞄准时准星尖位于觇孔中心,提高射击时的瞄准精确度。

以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制;任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰,均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。

一种轻武器射击虚光消减装置专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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