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一种具有断电保护装置的光刻设备

一种具有断电保护装置的光刻设备

IPC分类号 : G03F7/20,H02H5/00

申请号
CN202020803584.7
可选规格

    看了又看

  • 专利类型:
  • 法律状态: 有权
  • 公开号: CN212160348U
  • 公开日: 2020-12-15
  • 主分类号: G03F7/20
  • 专利权人: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司,苏州大学

专利摘要

专利摘要

本实用新型公开了一种具有断电保护装置的光刻设备,包括基座、设置在所述基座上的平台、设置在所述平台上方的光刻机构、用于实现所述光刻机构相对于所述平台运动的驱动机构,以及用于在所述光刻机构超出预设运动行程时实现所述驱动机构断电的断电保护装置。通过上述结构,能够在运动失控时及时实现运动停止,防止光刻机构因脱离而飞出造成的损坏。

权利要求

1.一种具有断电保护装置的光刻设备,其特征在于,包括基座、设置在所述基座上的平台、设置在所述平台上方的光刻机构、用于实现所述光刻机构相对于所述平台运动的驱动机构,以及用于在所述光刻机构超出预设运动行程时实现所述驱动机构断电的断电保护装置。

2.如权利要求1所述的具有断电保护装置的光刻设备,其特征在于,所述断电保护装置包括碰撞开关、交流接触器和通路开关,所述碰撞开关的一端连接所述交流接触器,另一端接地,所述通路开关一端连接电源,另一端连接所述交流接触器。

3.如权利要求2所述的具有断电保护装置的光刻设备,其特征在于,所述通路开关设有点动按钮或者时间继电器,所述碰撞开关为弹簧杆式行程开关。

4.如权利要求1所述的具有断电保护装置的光刻设备,其特征在于,还设有用于连接所述驱动机构和所述光刻机构的导向机构,所述导向机构设置在所述基座上,所述导向机构包括用于实现所述光刻机构水平运动的第一导向装置或/和用于实现所述光刻机构纵向运动的第二导向装置。

5.如权利要求4所述的具有断电保护装置的光刻设备,其特征在于,所述第一导向装置包括设置在所述基座两相对侧的第一导轨,以及安装在所述第一导轨上的第一滑动件,所述第二导向装置包括横梁、设置在所述横梁两相对侧的第二导轨,以及安装在所述第二导轨上的第二滑动件。

6.如权利要求5所述的具有断电保护装置的光刻设备,其特征在于,所述第一导轨两端外侧的所述基座上或所述第一导轨上的两端设置所述断电保护装置,所述第二导轨的两端外侧的横梁上或所述第二导轨上的两端设置所述断电保护装置。

7.如权利要求4所述的具有断电保护装置的光刻设备,其特征在于,两个相对应的所述断电保护装置之间设有两个缓冲限位块,两个所述缓冲限位块之间的距离大于或等于所述第二导向装置或所述光刻机构的运动行程。

说明书

技术领域

本实用新型涉及光刻设备保护技术领域,特别是涉及一种具有断电保护装置的光刻设备。

背景技术

在光刻设备中,通过光刻机构运动实现光刻,而光刻机构在高速中,光刻机构运行轴失控或者限位失效会对整个设备造成巨大的影响,好的结果缓冲器可以阻挡住光刻机构在高速下的撞击力,坏的结果高速运动的光刻机构撞坏缓冲器飞出整个设备或者将其他机构撞坏,因此需要一个装置在光刻机构失控或者限位失效的情况下对运动控制系统及时作出断电处理,使得电机失去动力,及时阻止光刻机构在失控或者限位失效情况下出现的电机继续高速运行的情况,同时要保证控制系统在失电后需要人为给系统上电操作。

前面的叙述在于提供一般的背景信息,并不一定构成现有技术。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有断电保护装置的光刻设备,能够在运动失控时及时实现运动停止。

本实用新型提供一种具有断电保护装置的光刻设备,包括基座、设置在所述基座上的平台、设置在所述平台上方的光刻机构、用于实现所述光刻机构相对于所述平台运动的驱动机构,以及用于在所述光刻机构超出运动行程时实现所述驱动机构断电的断电保护装置。

在其中一实施例中,所述断电保护装置包括碰撞开关、交流接触器和通路开关,所述碰撞开关的一端连接所述交流接触器,另一端接地,所述通路开关一端连接电源,另一端连接所述交流接触器。

在其中一实施例中,所述通路开关设有点动按钮或者时间继电器,所述碰撞开关为弹簧杆式行程开关。

在其中一实施例中,所述驱动机构包括电机和用于连接所述基座和所述光刻机构的导向机构,所述电机设置在所述基座内部,且所述电机连接所述断电保护装置和所述导向机构,所述导向机构包括用于实现所述光刻机构水平运动的第一导向装置或/和用于实现所述光刻机构纵向运动的第二导向装置。

在其中一实施例中,所述第一导向装置包括设置在所述基座两相对侧的第一导轨,以及安装在所述第一导轨上的第一滑动件,所述第二导向装置包括横梁、设置在所述横梁两相对侧的第二导轨,以及安装在所述第二导轨上的第二滑动件。

在其中一实施例中,所述第一导轨两端外侧的所述基座上或所述第一导轨上的两端设置所述断电保护装置,所述第二导轨的两端外侧的横梁上或所述第二导轨上的两端设置所述断电保护装置。

在其中一实施例中,两个相对应的所述断电保护装置之间设有两个缓冲限位块,两个所述缓冲限位块之间的距离大于或等于所述第二导向装置或所述光刻机构的运动行程。

本实用新型提供的具有断电保护装置的光刻设备,通过用于在所述光刻机构超出运动行程时实现所述驱动机构断电的断电保护装置,能够在运动失控时及时实现运动停止,防止光刻机构因脱离而飞出造成的损坏。

附图说明

图1为本实用新型实施例具有断电保护装置的光刻设备的结构示意图;

图2为本实用新型实施例具有断电保护装置的光刻设备的线路连接示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。

请参图1和图2,本实用新型实施例中提供的具有断电保护装置的光刻设备,包括基座1、设置在基座1上用于放置导光板的平台11、设置在平台 11上方用于光刻导光板的光刻机构4、用于实现光刻机构4相对于平台运动的驱动机构2,以及用于在光刻机构4超出运动行程时实现驱动机构2断电的断电保护装置8。

基座1中间凸起,形成截面的呈凸形;凸起的顶部面用于放置平台11。

基座1连接电源。该电源可以为断电保护装置8供电,从而实现断电保护装置8处于工作状态。

驱动机构2包括电机(图中未画出)。电机可以设置在基座1的内部,也可以不设置在基座1上。

具有断电保护装置的光刻设备还设有用于连接驱动机构2和光刻机构4 的导向机构3。具体地,导向机构3安装在基座1上,且导向机构3电性连接电机和断电保护装置8。

导向机构3包括用于实现光刻机构4水平运动的第一导向装置31或/和用于实现光刻机构4纵向运动的第二导向装置32。

在本实施例中,导向机构3设置第一导向装置31和第二导向装置32。第一导向装置31分别连接基座1和第二导向装置32,第二导向装置32连接光刻机构4。

第一导向装置31包括第一导轨311和第一滑动件312。第一导轨311设置在基座1两相对侧的边缘,放置导光板的平台11位于两个第一导轨311之间;第一滑动件312安装在第一导轨311上,且第一滑动件312固定在第二导向装置32上,以使第一滑动件312沿第一导轨311来回运动时带动第二导向装置32水平运动,从而带动光刻机构4水平运动。

第二导向装置32包括横梁323、第二导轨321和第二滑动件。横梁323 上表面中间部分沿光刻机构4纵向运动方向开设贯穿横梁323的凹槽3231;横梁323下表面固定连接第一滑动件312;第二导轨321设置在横梁323上表面两相对侧的边缘,即第二导轨321设置在凹槽3231两侧凸起的顶部面;第二滑动件安装在第二导轨321上,且第二滑动件固定在光刻机构4上,以使第二滑动件沿第二导轨321运动时带动光刻机构4纵向运动。

第一导轨311两端外侧的基座1上均安装一断电保护装置8。

在其它实施例中,第一导轨311上的两端均安装一断电保护装置8。

第二导轨321的两端外侧的横梁323上均安装一断电保护装置8,具体地,断电保护装置8安装横梁323的侧面。

在其它实施例中,第二导轨321上的两端均安装一断电保护装置8。

需要说明的是,无论是何种安装方式,都需保证在第二导向装置32或/ 和光刻机构4超出运动行程时能及时触碰到断电保护装置8。

断电保护装置8包括碰撞开关81、交流接触器82和通路开关83。碰撞开关81的一端连接交流接触器82,另一端接地;通路开关83一端连接电源,另一端连接交流接触器82。

在其它实施例中,断电保护装置8可以为采用其它方式实现驱动机构2 断电的断电保护装置8,如,通过光感应。

通路开关83设有点动按钮;碰撞开关81为弹簧杆式行程开关;交流接触器82设有线圈821。具体地,碰撞开关81一端接入交流接触器82的线圈 821,另一端接地;通路开关83一端连接电源6,另一端连接交流接触器82 的线圈821。

在其它实施例中,通路开关设有时间继电器。

工作时,如图2所示,通路开关83接通,碰撞开关81处于闭合状态,使得交流接触器82吸合,驱动机构2通电工作;当发生异常,例如限位失效,即导向机构3或/和光刻机构4的触碰到断电保护装置8中的碰撞开关81,使得碰撞开关81处于开路状态,交流接触器82断开,使得驱动机构2断电停止工作,从而使得导向机构3停止运动。当导向机构3离开碰撞开关81回到正常运动行程内后,碰撞开关81处于闭合状态,按动通路开关83,交流接触器82吸合,驱动机构2重新通电工作。

具有断电保护装置的光刻设备还设有缓冲保护机构,缓冲保护机构包括缓冲限位块7或/和机械缓冲块9。其中,缓冲限位块7可拆卸固定,用以在光刻不同尺寸的产品时对第二导向装置32和光刻机构4的运动行程进行限位调整。

在本实施例中,缓冲保护机构包括缓冲限位块7和机械缓冲块9。

缓冲限位块7设置在两个相对应的断电保护装置8之间,即,两个缓冲限位块7之间的距离小于两个相对应的断电保护装置8之间的距离,且两个缓冲限位块7之间的距离大于或等于第二导向装置32或/和光刻机构4的运动行程;用以对第二导向装置32或/和光刻机构4的运动行程进行限位,以及在第二导向装置32或/和光刻机构4未能及时停止时起缓冲阻挡作用,防止第二导向装置32或/和光刻机构4超出运动行程,或者,降低第二导向装置32或/和光刻机构4的速度以降低第二导向装置32或/和光刻机构4超出运动行程后对断电保护装置8的撞击力,防止因撞击力过大损坏断电保护装置8。机械缓冲块9设置在两个相对应的断电保护装置8的外侧,即,两个机械缓冲块9之间的距离大于两个相对应的断电保护装置8之间的距离,用以在断电后防止第二导向装置32或/和光刻机构4因惯性冲出轨道。

具体地,用于缓冲限位第二导向装置32的缓冲限位块7设置在基座1中间凸起朝第一轨道311的一侧的侧面,用于缓冲限位光刻机构4的缓冲限位块7设置在横梁323的凹槽3231的侧壁上。用于防止第二导向装置32冲出的机械缓冲块9设置在与其相对应的缓冲限位块7的后方,用于防止光刻机构冲出的机械缓冲块9设置在与其相对应的缓冲限位块7的后方(凹槽3231 内)。

在其它实施例中,在两条第一导轨311和两条第二导轨321上均设置缓冲限位块7。

在其它实施例中,第一导轨311和第二导轨321上的两端均设置机械缓冲块9。

需要说明的是,无论是何种安装方式,都需保证在第二导向装置32或/ 和光刻机构4超出运动行程时能触碰到缓冲限位块7,以及保证在第二导向装置32或/和光刻机构4在冲出轨道时能触碰机械缓冲块9。

光刻机构4包括固定板41和光刻装置(图中未画出)。具体地,固定板 41一端设有安装光刻装置的安装结构411,该安装结构411使光刻装置与放置导光板的平台11垂直;固定板41的下表面固定连接第二滑动件。需注意的是,光刻机构4运动至最大行程时,固定板41与机械限位块9接触。

具有断电保护装置的光刻设备还设有控制系统,控制系统分别连接驱动机构2和光刻机构4。其中,控制系统可以预设运动行程及预设运动轨迹。需要说明的是,该预设运动行程是指光刻机构4水平和纵向运动时允许光刻机构4运动的最大行程,而非光刻机构4的光刻轨迹上的最大行程;该预设运动轨迹是指光刻机构4光刻图形所需运动的轨迹。

在附图中,为了清晰起见,会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是,当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”、“设置在”或“位于”另一元件上时,该元件可以直接设置在所述另一元件上,或者也可以存在中间元件。相反,当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时,不存在中间元件。

在本文中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语的具体含义。

在本文中,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了表达技术方案的清楚及描述方便,因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本文中,用于描述元件的序列形容词“第一”、“第二”等仅仅是为了区别属性类似的元件,并不意味着这样描述的元件必须依照给定的顺序,或者时间、空间、等级或其它的限制。

在本文中,除非另有说明,“多个”、“若干”的含义是两个或两个以上。

在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,除了包含所列的那些要素,而且还可包含没有明确列出的其他要素。

以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

一种具有断电保护装置的光刻设备专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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