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一种控制MXene二维材料降解的方法

一种控制MXene二维材料降解的方法

IPC分类号 : C01G23/00,C01G31/00,C01G33/00,C01G35/00,C01G39/00

申请号
CN201811477345.0
可选规格
  • 专利类型: 发明专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2018-12-04
  • 公开号: 109607603B
  • 公开日: 2019-04-12
  • 主分类号: C01G23/00
  • 专利权人: 北京航空航天大学

专利摘要

本发明公开了一种控制MXene二维材料降解的方法,首次提出了通过改变物理条件(光、热)或化学条件(OH基团保护或改性)可以控制MXene的分解。由于MXene材料的分解产物是更小尺寸的TiO2纳米颗粒和二氧化碳,更容易被排出体外,因此,MXene材料的可控降解能够应用于热疗和药物释放领域,且对其进行表面改性,使得在水溶液中制造基于MXene材料的器件成为可能。对MXene材料的改性不仅增加了材料的应用领域,而且延长了MXene的使用寿命。本发明所提出的控制MXene二维材料降解的方法对于拓展MXene材料的应用前景具有重大意义。

权利要求

1.一种控制MXene二维材料降解的方法,MXene由层叠的二维片层组成,其采用公式Mn+1XnTx来表示,其中,M代表早期过渡金属,如Ti、Ta、Mo、Nb、V和Zr,X代表C或N,T代表表面官能团,如O、OH、F,其特征在于,通过改变物理条件或化学条件来控制MXene的降解。

2.一种根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述MXene二维材料为Ti3C2Tx

3.一种根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述物理条件为激光照射,所述激光照射能够显著促进MXene在水溶液中的降解,且通过提高辐照功率可以提高降解速率。

4.一种根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述激光照射为材料本身等离子吸收波段的激光照射,优选为功率0.9W、重复频率1KHz、波长800nm、脉宽120fs、光束直径7mm的飞秒激光,或功率0.7W、波长808nm、光束直径3mm的连续激光。

5.一种根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述物理条件为热处理,且通过提高热处理的温度可以提高降解速率。

6.一种根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述化学条件为表面改性,从而延缓MXene的降解。

7.一种根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述表面改性为对材料表层羟基进行修饰,优选为采用表面活性剂对羟基进行保护或者化学表面修饰取代羟基。

8.对根据权利要求1-7任一项所述方法的应用。

9.一种根据权利要求8所述的应用,其特征在于,所述应用为热疗、药物释放或在水溶液中制造基于MXene材料的器件。

一种控制MXene二维材料降解的方法专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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