专利摘要

专利摘要

本实用新型涉及流体导流技术领域，公开了一种实现液态工质均匀铺展的装置，包括底座、分别与底座的两端贯通的入管和排出管、所述底座上与入管贯通连接的一端设有与入管贯通的入口液池、均匀开设在底座顶面上的微槽，所述入口液池的顶面通过螺栓螺纹固定有盖板，所述盖板全覆盖入口液池，并且覆盖一部分微槽。本实用新型通过微槽道对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座的表面形成均匀铺展和稳定流动，同时漏斗形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积，改变了传统的通过平板导流的结构不具备分流功能，并且流体以及金属粉末流入平板表面之后不能均匀铺展，以致无法控制形成的液膜厚度的弊端。

权利要求

1.一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：包括底座(6)、分别与底座(6)的两端贯通的入管(1)和排出管(8)、所述底座(6)上与入管(1)贯通连接的一端开设有与入管(1)贯通的入口液池(2)、所述底座(6)上与排出管(8)贯通连接的一端开设有与排出管(8)贯通的漏斗(7)、均匀开设在底座(6)顶面上的微槽道(5)，所述入口液池(2)的顶面通过螺栓(3)与底座(6)螺纹固定有盖板(4)，所述盖板(4)全覆盖入口液池(2)，并且覆盖一部分微槽道(5)。

2.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述入口液池(2)呈正三角状。

3.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述漏斗(7)的开口水平面低于微槽道(5)的高度。

4.根据权利要求2所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述入口液池(2)的宽度与底座(6)上开设的微槽道(5)的宽度一致。

5.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述底座(6)顶面上的微槽道(5)、入口液池(2)和漏斗(7)均与底座一体成型。

6.根据权利要求1所述的一种实现液态工质均匀铺展的装置，其特征在于：所述微槽道(5)表面的材质选用无磁性的316L型不锈钢，所述微槽道(5)之间的间距一致，微槽道(5)的宽度和深度均为0.1mm-5mm。

说明书

技术领域

本实用新型涉及流体导流技术领域，尤其涉及一种实现液态工质均匀铺展的装置。

背景技术

目前核聚变堆面向等离子体部件以及其他工业装置，为了实现液态、金属粉末均匀铺展和稳定流动，均采用普通平板结构，平板不具备分流作用，流体以及金属粉末流入平板表面之后不能均匀铺展。平板结构不具备导流效应，流体在平板上流动时，难以形成均匀铺展和稳定流动。液体或者金属粉末流过平板结构时，平板结构无法控制形成的液膜厚度。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种实现液态工质均匀铺展的装置，本实用新型通过微槽道对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座的表面形成均匀铺展和稳定流动，同时漏斗形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积和堵塞，改变了传统的通过平板导流的结构不具备分流功能，并且流体以及金属粉末流入平板表面之后不能均匀铺展，以致无法控制形成的液膜厚度的弊端。

本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题：

本实用新型的一种实现液态工质均匀铺展的装置包括底座、分别与底座的两端贯通的入管和排出管、所述底座上与入管贯通连接的一端开设有与入管贯通的入口液池、所述底座上与排出管贯通连接的一端开设有与排出管贯通的漏斗、均匀开设在底座顶面上的微槽，所述入口液池的顶面通过螺栓与底座螺纹固定有盖板，所述盖板全覆盖入口液池，并且覆盖一部分微槽。所述入口液池呈正三角状。所述漏斗的开口水平面低于微槽的高度。所述入口液池的宽度与底座上开设的微槽的宽度一致。底座上的微槽用于对流入装置的液体或者金属粉末进行均匀分流；微槽对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座表面形成均匀铺展和稳定流动；漏斗形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积和堵塞；入口处盖板的作用是约束并强制流入装置的液体和金属粉末能过顺利流入微槽道表面。入口和出口圆管用于液体或者金属粉末工质的运输。盖板的作用是约束并强制液体工质或者金属粉末流入微槽道中。液体工质或者金属粉末流入装置后，在类似三角形入口液池以及盖板的共同作用下实现均匀分流。

进一步，所述底座顶面上的微槽、入口液池和漏斗均与底座一体成型。所述微槽道表面的材质选用无磁性的316L型不锈钢，所述槽道之间的间距一致，微槽的宽度和深度均为0.1mm-5mm。

进一步，所述盖板由耐高温材料制成。

本实用新型的工作原理为：液态工质或者金属粉末在外加驱动力的作用下，自下而上从入口圆管流入装置中。在装置的入口处存在一个类似三角形放射状的液池，液池的顶部以及槽道入口段的顶部添加盖板。类似三角形的入口液池可以将液态工质或者金属粉末均匀的分流，并在盖板的约束下流入微槽道中。在微槽道的导流效应下液态工质或者金属粉末在装置表面形成均匀铺展和稳定流动，通过改变外加驱动力的大小，可以改变液态工质或金属粉末的液膜厚度以及流动速度。液体或者金属粉末流过装置的微槽道表面之后进入到漏斗形出口，并从漏斗形的出口流出装置，完成整个流程。

本实用新型的有益效果：本实用新型通过微槽道对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座的表面形成均匀铺展和稳定流动，同时漏斗形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积和堵塞，改变了传统的通过平板导流的结构不具备分流功能，并且流体以及金属粉末流入平板表面之后不能均匀铺展，以致无法控制形成的液膜厚度的弊端。

附图说明

图1是本实用新型一种实现液态工质均匀铺展的装置的整体结构示意图；

图2是本实用新型一种实现液态工质均匀铺展的装置的俯视图；

其中，入管1，排出管8，底座6，入口液池2，漏斗7，微槽道5，螺栓3，盖板4。

具体实施方式

以下将结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明：

如图1-图2所示，本实用新型的一种实现液态工质均匀铺展的装置包括底座6、分别与底座6的两端贯通的入管1和排出管8、所述底座6上与入管1贯通连接的一端开设有与入管1贯通的入口液池2、所述底座6上与排出管8贯通连接的一端开设有与排出管8贯通的漏斗7、均匀开设在底座6顶面上的微槽道5，所述入口液池2的顶面通过螺栓3与底座6螺纹固定有盖板4，所述盖板4全覆盖入口液池2，并且覆盖一部分微槽道5。所述入口液池2呈正三角状。所述漏斗7的开口水平面低于微槽道5的高度。所述入口液池2的宽度与底座6上开设的微槽5的宽度一致。底座上的微槽道5用于对流入装置的液体或者金属粉末进行均匀分流；微槽道5对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座表面形成均匀铺展和稳定流动；漏斗7形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积和堵塞；入口处盖板4的作用是约束并强制流入装置的液体和金属粉末能过顺利流入微槽道5的表面。入管1和出排出管8用于液体或者金属粉末工质的运输。盖板4的作用是约束并强制液体工质或者金属粉末流入微槽道5中。液体工质或者金属粉末流入装置后，在类似三角形入口液池2以及盖板4的共同作用下实现均匀分流。

本实施例中，所述底座6顶面上的微槽道5、入口液池2和漏斗7均与底座一体成型。所述微槽道5表面的材质选用无磁性的316L型不锈钢，所述槽道5之间的间距一致，微槽道5的宽度和深度均为0.1mm-5mm。

本实施例中，所述盖板4由耐高温材料制成。

以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。本实用新型未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。

一种实现液态工质均匀铺展的装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。