专利摘要

本实用新型涉及一种多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：主体外表面侧壁为圆锥面，外表面的圆锥面分布有沟槽状流道，在外圆锥面上还有沟槽状的键槽a，主体内表面侧壁有上下两段圆锥面空腔，上段的圆锥面空腔为比下段的圆锥面空腔锥度小的小锥度锥面孔，在上段的圆锥面空腔内壁下端开有豁口状键槽b。本实用新型的碟片托架底座与碟片托架、堵和碟片配合使用，可以使碟式分离机具备三种流道，进而使碟式分离机具备多功能。

权利要求

1.一种多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：主体外表面侧壁为圆锥面，外表面的圆锥面分布有沟槽状流道，在外圆锥面上还有沟槽状的键槽a，主体内表面侧壁有上下两段圆锥面空腔，上段的圆锥面空腔为比下段的圆锥面空腔锥度小的小锥度锥面孔，在上段的圆锥面空腔内壁下端开有豁口状键槽b。

2.根据权利要求1所述的多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：所述沟槽状流道末端有缩口状结构。

3.根据权利要求1所述的多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：所述沟槽状流道有多个，并且是均布的。

4.根据权利要求1所述的多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：所述键槽a的数量为2-8个，并且是均布的。

5.根据权利要求1所述的多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：所述上段的圆锥面空腔锥度为3-10度。

6.根据权利要求1所述的多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：所述键槽b的数量为2-8个，并且是均布的。

说明书

技术领域

本实用新型属于流体机械领域，涉及一种碟式分离机碟片托架底座，特别涉及一种多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座。

背景技术

目前碟式分离机一般没有碟片托架底座，而是只有碟片托架，进料从碟片托架下部的流体孔道进入碟片之间进行分离，这样的碟式分离机只有一种流道，不能实现多种流道，不能使碟式分离机具备多功能。而且，这种流道一般容易堵塞，不利于清理淤堵。

实用新型内容

实用新型目的

为了实现多功能和一种机型多种用途，本实用新型设计了一种多流道的碟式分离机的碟片托架底座，能够实现多种流道。该结构的碟片托架底座与碟片托架、堵和碟片配合使用，可以使碟式分离机具备三种流道。这种具有三种流道的碟式分离机可以实现液—液两相分离和提纯、固—液两相分离和提纯，也可以实现液－液－固三相分离，实现一种机型机多种用途。

技术方案

一种多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，其特征在于：主体外表面侧壁为圆锥面，外表面的圆锥面分布有沟槽状流道，在外圆锥面上还有沟槽状的键槽a，主体内表面侧壁有上下两段圆锥面空腔，上段的圆锥面空腔为比下段的圆锥面空腔锥度小的小锥度锥面孔，在上段的圆锥面空腔内壁下端开有豁口状键槽b。

所述沟槽状流道末端有缩口状结构。

所述沟槽状流道有多个，并且是均布的。

所述键槽a的数量为2-8个，并且是均布的。

所述上段的圆锥面空腔锥度为3-10度。

所述键槽b的数量为2-8个，并且是均布的。

优点及效果

（1）使用时，碟片托架底座与碟片托架分离的结构，不易淤堵，也便于清理淤堵,便于加工制造和便于装配。

（2）碟片托架底座外圆锥面上的沟槽状流道，结构简单，方便加工制造。

（3）沟槽状流道末端缩口状结构可以安装堵，也可以不安装堵，配合碟片托架和碟片使用，可实现多种流道。

（4）内表面上段的圆锥面空腔内壁下端开有豁口状键槽b与转鼓下体上的对应凸键配合，通过凸键为碟片托架底座提供动力，带动碟片托架底座高速旋转,且能防止相对错位。

（5）外表面上的沟槽状的键槽a与碟片托架下部内壁上的对应凸键配合安装，通过凸键为碟片托架提供动力，带动碟片托架高速旋转，且能防止相对错位。

附图说明

图1为碟片托架底座剖视结构图；

图2为碟片托架底座正视图；

图3为碟片托架底座俯视图；

图4为碟片托架底座仰视图；

图5为碟片托架底座与碟片托架、转股下体、碟片和堵配合使用上部流道的示意图；

图6为碟片托架底座与碟片托架、转股下体、碟片和堵配合使用下部流道的示意图；

图7为碟片托架底座与碟片托架、转股下体、碟片和堵配合使用碟片托架和碟片托架底座之间流道的示意图。

附图标记说明：1-沟槽状流道、2-缩口状结构、3-堵、4-键槽a、5-键槽b、6-碟片托架、7-转鼓下体、8-碟片、9-碟片托架底座。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的说明：

如图1、图2、图3和图4所示，一种多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座，主体外表面侧壁为圆锥面，外表面的圆锥面分布有沟槽状流道1，沟槽状流道1有多个，并且是均布的，沟槽状流道1末端有缩口状结构2，用于安装封闭该流道的堵3。在外圆锥面上还有沟槽状的键槽a 4，用于与碟片托架6上的凸键配合安装，优选的，键槽a 4的数量为2-8个，并且是均布的。

主体内表面侧壁有上下两段圆锥面空腔，上段的圆锥面空腔为比下段的圆锥面空腔锥度小的小锥度锥面孔，在上段的圆锥面空腔内壁下端开有豁口状键槽b 5，用于与转鼓下体7安装。上段的圆锥面空腔锥度为3-10度。优选的，键槽b 5的数量为2-8个，并且是均布的。

原理说明：

本碟片托架底座在碟式分离机中的安装情况如图5—图7所示。碟片托架底座9安装在转鼓下体7上方，通过上段的圆锥面空腔与转鼓下体7上的圆锥面配合安装，接触面具有摩擦力，碟片托架底座9内壁上的键槽b 5与转鼓下体7上的对应凸键配合，转鼓下体7通过凸键为碟片托架底座提供部分动力，带动碟片托架底座高速旋转。在碟片托架底座9上方通过外锥面配合安装有碟片托架6，接触面具有摩擦力，碟片托架底座9外圆锥面上的键槽a4与碟片托架6上的对应凸键配合，通过凸键为碟片托架6提供部分动力，带动碟片托架高速旋转。碟片托架6与碟片托架底座9围成均布流道，在流道末端可安装堵3。碟片托架6与碟片托架底座9、堵3和碟片8配合使用可以使碟式分离机具有三种流道，分别如图5、图6和图7所示。

碟片托架底座表面还可以进行表面镀膜，以提高碟片托架底座表面疏水性和疏油性，进一步提高分离机的防淤堵能力和分离效率，也可以进一步提高碟片托架底座的耐腐蚀性能。

一种多流道的多功能碟式分离机的碟片托架底座专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。