专利摘要

本发明实施例公开了一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置及方法，通过调节柔性抛光垫刚度实现工件双面粗抛光到精抛光的全过程，并解决传统加工过程中工件不同位置与抛光垫之间的相对速度不一致而造成工件加工不均匀的问题。本发明实施例中一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置，包括：所述可变刚度集群磁控抛光垫发生机构包括对称设置的第一磁场发生块和第二磁场发生块；所述第一磁场发生块和第二磁场发生块均包括：壳体、偏摆主轴、偏心凸轮轴、磁铁安装座、永磁铁和电机；所述工件快速装夹机构包括工作槽、夹板、连杆、铰板、固定铰、方形磁铁、电工软铁块、圆环形铸铁和条形永磁铁；所述工件运动驱动机构包括支撑块、横梁、水平直线电机、垂直梁和垂直直线电机。

专利附图

一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置及方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。