IPC分类号 : B29C51/00,B29C51/26,B29C51/30,B29L11/00
专利摘要
本实用新型属于半成品镜片加工设备领域,特别涉及一种有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置:气缸的缸体固定于顶板上,气缸的活塞杆垂直向下穿过顶板且下端固接有压板和气囊,气囊正下方设置有用于放置镜片的下模,在对镜片进行压弯操作时引入活动模夹于镜片与气囊之间;同时还设有风扇、金属材质的支撑座及支撑座外表面上分布的散热片,用于加速压弯后的镜片的冷却。
权利要求
1.一种有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置,其特征在于:所述的压弯装置包括机架,
所述机架包括底板(1)、侧板(2)、顶板(3)和支撑杆(4),所述侧板(2)和所述支撑杆(4)均垂直固接于所述底板(1)的上板面,所述顶板(3)与所述底板(1)平行设置,所述顶板(3)一端固接于所述侧板(2)的顶端、对应端则固接于所述支撑杆(4)的顶端;
所述的压弯装置还包括气缸(5)、压板(6)、气囊(7)、活动模(8)、下模(9)、圆锥柱形支撑座(10)、风扇(11),
所述气缸(5)的缸体固定于所述顶板(3)上,所述气缸(5)的活塞杆垂直向下穿过所述顶板(3)且所述活塞杆的下端固接有所述压板(6),所述气囊(7)安装在所述压板(6)的底面上,所述压板(6)和所述气囊(7)通过所述活塞杆的控制可进行上下往复移动,
所述圆锥柱形支撑座(10)为实心结构,所述圆锥柱形支撑座(10)的下底面固接于所述底板(1)的上板面,所述下模(9)安装在所述圆锥柱形支撑座(10)的上底面上且位于所述气囊(7)的正下方,所述下模(9)顶部为用于镜片弯曲成型的下模凹腔(91),所述活动模(8)底部为与所述下模凹腔(91)形状相配合的凸起(81),所述活动模(8)顶部设有与所述气囊(7)经充气鼓泡后的底部形状相配合的活动模凹腔(82),所述活动模(8)为不锈钢材料制成的活动模且表面光滑,所述活动模(8)在所述装置对镜片进行压弯操作时夹于所述镜片与所述气囊(7)之间,
所述侧板(2)上开设有通孔(21),所述通孔(21)内安装有所述的风扇(11),所述风扇(11)吹出的风吹向所述下模(9)。
2.如权利要求1所述的有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置,其特征在于:所述活塞杆的下端固接于所述压板(6)的顶面中央。
3.如权利要求1所述的有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置,其特征在于:所述圆锥柱形支撑座(10)为金属材料制成的圆锥柱形支撑座。
4.如权利要求3所述的有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置,其特征在于:所述圆锥柱形支撑座(10)的锥面上分布有若干散热片(101)。
5.如权利要求3所述的有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置,其特征在于:所述的压弯装置还包括一横梁(12),所述横梁(12)一端固接在所述侧板(2)上,所述横梁(12)另一端通过卡箍(13)卡接在所述圆锥柱形支撑座(10)锥面的中上部位置。
说明书
技术领域
本实用新型属于半成品镜片加工设备领域,特别涉及一种有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置。
背景技术
在眼镜镜片加工过程中,需要对眼镜镜片进行弯曲加工。目前有的压弯操作中,通过气缸向气囊中充气,使气囊鼓成球泡形下压下模,可将放置在下模上的眼镜片压弯成型。
很多气囊的表面附有硅胶或者气囊本身就是硅胶材料所制成,而在压弯前眼镜镜片需要在烤弯机中加热使镜片软化后,才方便压弯,高温镜片与硅胶材料直接紧密接触并保持一段时间,此过程中硅胶受热会有物质挥发,挥发的物质最终会沉积在光学镜片表面,影响产品性能。另一方面,在很多情况下,压弯操作完成后立即将上下模立即分离、将镜片取出,此时镜片还是热的,而在后续的冷却过程中镜片会发生一定程度的收缩,影响了形状、尺寸的精度。
实用新型内容
针对上述技术问题,本实用新型提供了一种有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置,包括机架,
机架包括底板、侧板、顶板和支撑杆,侧板和支撑杆均垂直固接于底板的上板面,顶板与底板平行设置(面面平行,下同),顶板一端固接于侧板的顶端,对应端则固接于支撑杆的顶端;
压弯装置还包括气缸、压板、气囊、活动模、下模、圆锥柱形支撑座、风扇,
气缸的缸体固定于顶板上,气缸的活塞杆垂直向下穿过顶板且活塞杆的下端固接有压板,气囊安装在压板底面上,压板和气囊通过活塞杆的控制可进行上下往复移动,
圆锥柱形支撑座为实心结构,圆锥柱形支撑座的下底面完全固接于底板的上板面,下模安装在圆锥柱形支撑座的上底面上且位于气囊正下方,下模具有用于镜片弯曲成型的下模凹腔,活动模下部具有与下模凹腔形状相配合的凸起,活动模上部设有与气囊经充气鼓泡后的底部形状相配合的活动模凹腔,活动模为不易变形的材料所制成,
侧板上开设有通孔,通孔内安装有风扇,风扇吹出的风吹向下模。
作为优选:活塞杆的下端固接于压板的顶面中央,
作为优选:圆锥柱形支撑座为金属材料制成,且锥面上分布有若干散热片,
作为优选:压弯装置还包括一横梁,横梁一端固接在侧板上,横梁另一端通过卡箍卡接在圆锥柱形支撑座锥面的中上部位置。
附图说明
附图1为本实用新型中的有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置的结构示意图,
其中,1—底板,2—侧板,21—通孔,3—顶板,4—支撑杆,5—气缸,6—压板,7—气囊,8—活动模,81—凸起,82—活动模凹腔,9—下模,91—下模凹腔,10—圆锥柱形支撑座,101—散热片,11—风扇,12—横梁,13—卡箍,14—镜片。
具体实施方式
如附图1所示,本实用新型中的有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置首先包括机架,
机架包括底板1、侧板2、顶板3和支撑杆4,侧板2和支撑杆4均垂直固接于底板1的上板面,顶板3与底板1平行设置,顶板3一端固接于侧板2的顶端、对应端则固接于支撑杆4的顶端;
压弯装置还包括气缸5、压板6、气囊7、活动模8、下模9、圆锥柱形支撑座10、风扇11,
气缸5的缸体固定于顶板3上,气缸5的活塞杆垂直向下穿过顶板3且此活塞杆的下端固接有压板6,且活塞杆的下端固接于压板6的顶面中央,气囊7安装在压板6的底面中央,压板6和气囊7通过此活塞杆的控制可进行上下往复移动,
圆锥柱形支撑座10为不锈钢材料制成的实心结构,圆锥柱形支撑座10的下底面固接于底板1的上板面,圆锥柱形支撑座10的锥面上分布有若干散热片101,下模9安装在圆锥柱形支撑座10的上底面上且位于气囊7的正下方,下模9顶部为用于镜片14弯曲成型的下模凹腔91,
活动模8为不锈钢材料制成且表面光滑,活动模8底部为与下模凹腔91形状相配合的凸起81,活动模8顶部设有与气囊7经充气鼓泡后的底部形状相配合的活动模凹腔82,活动模8在该装置对镜片14进行压弯操作时夹于镜片与气囊7之间,
侧板2上开设有通孔21,通孔21内安装有风扇11,风扇11吹出的风吹向下模9,
该压弯装置还包括一横梁12,此横梁12一端固接在侧板2上,另一端通过卡箍13卡接在圆锥柱形支撑座10锥面的中上部位置。
上述压弯装置的大致工作机理及相关优势在于:
经烤弯机加热后的眼镜镜片14放置在下模9顶部,即下模凹腔91的上方,再将活动模8放于该镜片14的上表面并保持活动模8底部的凸起81与下模9顶部的下模凹腔91对准;
此时,气缸5驱动活塞杆带动压板6和气囊7向下移动使气囊7移动到位于活动模8正上方的合适高度,通过对气囊7充气使硅胶气囊7向下鼓起球泡(类似充气球一样),通过鼓起的球泡的底部顶压活动模8,使活动模8顺势垂直向下顶压镜片14,由于活动模8底部的凸起81与下模9顶部的下模凹腔91在形状上为配合设计,软化状态下的镜片14在这两者之间被挤压弯曲形成规则的形状;
压弯充分后开启风扇11,吹出的风使下模9、镜片14、活动模8加速冷却,直至其温度下降至一定程度,最后排出气囊7中的气并通过活塞杆带动压板6和气囊7上升,取下活动模8,将加工好的镜片14取下并对其边界处进行修复。
首先,本方案中引入了与镜片预期结构及气囊7鼓泡后的形状都能相匹配的活动模8,并在装置对镜片14进行压弯操作时将其夹于镜片14与气囊7之间,既保证了镜片14被加工成规则形状,又避免了镜片14直接与硅胶气囊7接触而导致的硅胶受热产生挥发物质沉积在镜片14表面影响光学性能;同时活动模8为光滑的铝合金制品,具有良好的导热、散热性,也不用担心活动模8会粘附在热态下的镜片14上;
为了防止镜片14在热状态下脱模后产生形状上的收缩变化,本方案中安装有风扇11用于对已完成压弯成型但未脱模的镜片14进行加速冷却,这也提高了压弯流水线的工作效率;
本方案采用不锈钢材质的实心圆锥柱形支撑座10作为压弯操作时镜片14的支撑体,不仅敦实耐压,而且材质的导热、散热性好,再加上锥面的表面积及锥面上分布的散热片101,也是为了加快镜片14及下模9的散热;
同时,进一步考虑到实心圆锥柱形支撑座10的重心位于中下部位置,因此本方案通过卡箍13卡接在圆锥柱形支撑座10锥面的中上部位,进一步确保了在压弯操作过程中,圆锥柱形支撑座10不位移、不倾斜。
一种有利于提高半成品镜片光学性能及尺寸精度的压弯装置专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
动态评分
0.0