专利摘要
本发明公开了一种基于真空环境改善制孔质量的激光打孔装置及方法，涉及激光打孔领域，包括电源及控制器、x‑y移动平台、真空舱外接辅助平台、支撑底座、真空舱、高强度高透玻璃、激光头、CCD摄像机、激光器、导光管、z方向移动装置、移动夹具装置、软管接口、软管、气阀、气压表、真空泵、固定管道；根据真空环境可以减少激光打孔光致等离子的产生和真空环境中无氧化氮化反应这一原理，通过在真空环境下激光打孔，减小制孔的锥度，抑制重铸层和减少微裂纹，改善微孔内壁质量，提高基材使用寿命，同时增强深孔加工能力。
专利附图
一种基于真空环境改善制孔质量的激光打孔装置及方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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