专利摘要
本实用新型实施例涉及超构表面之中的超构透镜技术领域，特别是涉及一种成像模组，包括衬底、超构透镜、感光芯片和光学胶。超构透镜包括四种超构透镜单元，其电介质基底设置于衬底，包括第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元，第一超构透镜单元与第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度，第三超构透镜单元，与第一超构透镜单元和第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度，第四超构透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于超构透镜。光学胶设置于超构透镜与感光芯片之间。成像模组的四种超构透镜单元分别对四种偏振光敏感，成像模组可同时进行四种偏振成像。
权利要求
1.一种成像模组，其特征在于，包括：
衬底；
超构透镜，包括四种超构透镜单元，四种所述超构透镜单元的电介质基底均设置于所述衬底，四种所述超构透镜单元分别为第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元，所述第一超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度与所述第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度，所述第三超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度，与，所述第一超构透镜单元和所述第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值均为四十五度，所述第四超构透镜单元可供左圆偏振光或者右圆偏振光通过；
感光芯片，设置于所述超构透镜，且所述感光芯片远离四种所述超构透镜单元的电介质基底；
光学胶，设置于所述超构透镜与所述感光芯片之间，用于将所述超构透镜与所述感光芯片进行粘合。
2.根据权利要求1所述的成像模组，其特征在于，所述第一超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度为零度，所述第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度为九十度，所述第三超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度为四十五度。
3.根据权利要求1所述的成像模组，其特征在于，四种所述超构透镜单元以2x2的排列方式设置于所述衬底。
4.根据权利要求1所述的成像模组，其特征在于，四种所述超构透镜单元的形状均包括圆形、四边形和六边形。
5.根据权利要求1所述的成像模组，其特征在于，所述超构透镜的数量为N
6.根据权利要求1所述的成像模组，其特征在于，所述感光芯片包括电路板和感光元件，所述感光元件设置于所述电路板，所述光学胶设置于所述感光元件。
7.根据权利要求1所述的成像模组，其特征在于，还包括导电层，所述导电层位于所述衬底与所述超构透镜之间。
8.根据权利要求1所述的成像模组，其特征在于，所述超构透镜单元的电介质纳米柱的结构满足400到1500纳米波长的复色光的消色差，其中，所述电介质纳米柱的结构包括高度、长轴尺寸、短轴尺寸和面内角度。
9.根据权利要求8所述的成像模组，其特征在于，所述超构透镜单元的电介质纳米柱的数量为多个，每一所述电介质纳米柱的所述高度的范围均为200nm至1500nm。
10.根据权利要求8所述的成像模组，其特征在于，所述超构透镜单元的电介质纳米柱的数量为多个，每一所述电介质纳米柱的所述长轴尺寸和/或短轴尺寸的范围均为20nm至500nm。
一种成像模组专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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