专利摘要

专利摘要

本实用新型提供了一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，包括一中空回转筒体，所述筒体下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体；所述椎体中部设有旋涡室，所述旋涡室的侧壁上设有用于向所述旋涡室内通入待分离的石膏浆液的进料口；所述椎体上部侧壁上设有用于溢流由所述旋涡室分离的含固率低的石膏浆液的溢流口；所述椎体底部设有用于流出由所述旋涡室分离的含固率高的石膏浆液的底流口；所述椎体下部侧壁上设有切角清洗水入口，所述切角清洗水入口与一清洗水管接通通入清洗水流。本实用新型所述石膏旋流器装置可实现石膏浆液的分离，增加了清洗功能，对旋流器的底流杂质进行冲洗，防止旋流器发生堵塞。

权利要求

1.一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，其特征在于，包括一中空回转筒体，所述筒体下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体；所述椎体中部设有旋涡室，所述旋涡室的侧壁上设有用于向所述旋涡室内通入待分离的石膏浆液的进料口；所述椎体上部侧壁上设有用于溢流由所述旋涡室分离的含固率低的石膏浆液的溢流口；所述椎体底部设有用于流出由所述旋涡室分离的含固率高的石膏浆液的底流口；所述椎体下部侧壁上设有清洗水入口，所述清洗水入口与一清洗水管接通以通入清洗水流。

2.根据权利要求1所述的一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，其特征在于，所述椎体下部侧壁上设有切角清洗水入口。

3.根据权利要求2所述的一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，其特征在于，所述切角清洗水入口的方向与所述旋流器的回转方向相切。

4.根据权利要求1所述的一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，其特征在于，所述进料口设于所述旋涡室的顶端侧壁上。

说明书

技术领域

本实用新型涉及旋流器设备技术领域，尤其是涉及一种具有清洗功能的石膏旋流器装置。

背景技术

旋流器是一种常用的分流分离设备。旋流器的基本原理是将具有一定密度差的液-液、液-固、液-气等两相或多相混合物在离心力的作用下进行分离。将混合液以一定的压力切向进入旋流器，在圆柱腔内产生高速旋转流场，混合物中密度大的组分在旋流场的作用下同时沿轴向向下运动，沿径向向外运动，在到达锥体段沿器壁向下运动，并由底流口排出，这样就形成了外旋涡流场；密度小的组分向中心轴线方向运动，并在轴线中心形成一向上运动的内涡旋，然后由溢流口排出，这样就达到了两相分离的目的。

旋流器作为离心力与重力复合力场的典型设备，因其结构简单、占地面积小、安装操作方便、运行成本低等优点而被广泛地用于诸多领域。在湿法脱硫产生的脱硫石膏浆液处理过程中，需要利用石膏旋流器对石膏浆液进行脱水，进入旋流器的浆液含固率为15％左右，溢流的浆液中含有未反应的石灰石和硫酸钙晶体(直径一般小于20μm)，含固率为3％-5％，溢流浆液返回吸收塔；底流的含固率约为40％-50％，硫酸钙晶体直接一般大于35μm，底流进行后续脱水和清洗。

但是，目前的石膏旋流器都是只具备分流功能(即脱水功能)，而不具备清洗功能，导致脱硫石膏中含有大量氯离子等杂质，不能达到使用需求，需要进行进一步的处理。未经清洗的对石膏浆液进行脱水，容易造成旋流器堵塞，也为后续的清洗除杂处理增加了难度。因此，亟需开发一种具有清洗功能的石膏旋流器，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，该石膏旋流器装置能够解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型提供一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，包括一中空回转筒体，所述筒体下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体；所述椎体中部设有旋涡室，所述旋涡室的侧壁上设有用于向所述旋涡室内通入待分离的石膏浆液的进料口；所述椎体上部侧壁上设有用于溢流由所述旋涡室分离的含固率低的石膏浆液的溢流口；所述椎体底部设有用于流出由所述旋涡室分离的含固率高的石膏浆液的底流口；所述椎体下部侧壁上设有清洗水入口，所述清洗水入口与一清洗水管接通以通入清洗水流。

优选地，所述椎体下部侧壁上设有切角清洗水入口。

优选地，所述切角清洗水入口的方向与所述旋流器的回转方向相切。

优选地，所述进料口设于所述旋涡室的顶端侧壁上。

本实用新型具有的有益效果：将石膏浆液分离，溢流产生的含固率低的石膏浆液可以重新作为湿法脱硫反应液使用，同时对旋流器增加水流清洗功能，能有效降低石膏浆液中氯离子含量，对底流中杂质进行冲洗，可以有效防止底流杂质过多造成堵塞，起到清洗旋流器内部旋涡室及底流口的作用。另外，在旋流器下部引入切角水流进行清洗，清洁水直接混入石膏浆液底流，不影响旋流器原有的水力结构，不影响分流，且切角水流能够在节省水资源同时达到高效清洁的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型旋流器装置的结构的主视示意图；

图2为本实用新型旋流器装置切角清洗水入口与底流方向示意图。

附图标记说明：

1：筒体；

2：椎体；

3：旋涡室；

4：进料口；

5：溢流口；

6：底流口；

7：切角清洗水入口；

8：清洗水管。

具体实施方式

下面将结合实施例对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语"中心"、"纵向"、"横向"、"长度"、"宽度"、"厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"坚直"、"水平"、"顶"、"底"、"内"、"外"、"顺时针"、"逆时针"等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语"第一"、"第二"仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有"第一"、"第二"的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本实用新型的描述中，"多个"的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。此外，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1所示，一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，包括一中空回转筒体1，所述筒体1下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体2；所述椎体2的中部设有用于分离石膏浆液的旋涡室3，所述旋涡室3的侧壁上靠近旋涡室3的顶部处开设有一进料口4，用于向所述旋涡室3内通入待分离的石膏浆液；所述椎体2上部侧壁上设有溢流口5，用于溢流由所述旋涡室3分离的含固率低的石膏浆液；所述椎体2底部设有底流口6，用于流出由所述旋涡室3分离的含固率高的石膏浆液；所述椎体2下部侧壁上设有切角清洗水入口7，所述切角清洗水入口7与一清洗水管8接通，清洗水管8通过一水泵提供通入清洁水，清洁水的流量可以进行调节。

如图2所示，切角清洗水入口7的方向与旋流器椎体2下部侧壁上该处的底流流动方向相切，使由清洗水管8通入的清洁水可以从底流的切向方向汇入底流中，进而对底流中的杂质进行冲洗，防止因底流中杂质过多，而造成旋流器的底流口6发生堵塞，进而影响旋流器的正常工作的情况发生。

本实用新型所述具有清洗功能的石膏旋流器装置的动作原理为：通过进料口4向所述旋涡室3内加入烟气湿法脱硫反应后的待旋流分离的含固率约为15％的石膏浆液，在旋涡室3的离心力与石膏浆液中所含固体的重力的共同作用下，含固率高的石膏浆液(固体主要成分为硫酸钙晶体，即石膏，同时还含有一些杂质)向下做螺旋运动的过程中，与由切角清洗水入口7流入的清洁水混合，对石膏浆液中杂质进行冲洗，防止杂质过多造成底流口6堵塞，形成40-50％的石膏浆液在从底流口6流出，该含固率高的石膏浆液可进行后续的清洗脱水，最终得到可回收利用的石膏，输送到石膏存储库存放；含固率3％-5％的石膏浆液(固体成分含有未反应的石灰石以及硫酸钙晶体，即石膏)，在离心力作用下向上做螺旋运动，由溢流口5流出，该含固率3％-5％的石膏浆液可重新加入到湿法脱硫反应塔中，作为湿法脱硫的反应液，进行重复利用。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

一种具有清洗功能的石膏旋流器装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。