专利摘要

专利摘要

本实用新型公开了带有砂纸的抛光布，包括基布层和抛光层，所述基布层的外侧通过胶水粘合有环状的砂纸，所述基布层和抛光层之间设有胶合层，所述抛光层的表面开设有第一凹槽和多个第二凹槽，所述第一凹槽为圆形结构，所述第二凹槽为条状弧形结构，所述基布层的上下两端分别固定连接有第二凸块和第一凸块。本实用新型中，基布层上设置了胶合层，胶合层上设置了抛光层，基布层的外侧设置了砂纸，采用此设计的好处在于：将抛光布与砂纸通过胶水粘合，在工作时，若材料的表面存在抛光无法清除的划痕，将划痕移至砂纸处，使用砂纸进行打磨，此设计不需要频繁更换加工设备，将打磨抛光一体化，从而有助于提高加工效率。

权利要求

1.带有砂纸的抛光布，包括基布层(1)和抛光层(2)，其特征在于，所述基布层(1)的外侧通过胶水粘合有环状的砂纸(3)，所述基布层(1)和抛光层(2)之间设有胶合层(8)，所述抛光层(2)的表面开设有第一凹槽(4)和多个第二凹槽(5)，所述第一凹槽(4)为圆形结构，所述第二凹槽(5)为条状弧形结构，所述基布层(1)的上下两端分别固定连接有第二凸块(7)和第一凸块(6)。

2.根据权利要求1所述的带有砂纸的抛光布，其特征在于，所述第一凹槽(4)位于抛光层(2)的中心处。

3.根据权利要求1所述的带有砂纸的抛光布，其特征在于，所述多个第二凹槽(5)绕第一凹槽(4)的中心点等角度圆周排列。

4.根据权利要求1所述的带有砂纸的抛光布，其特征在于，所述第一凹槽(4)与多个第二凹槽(5)均连通。

5.根据权利要求1所述的带有砂纸的抛光布，其特征在于，所述第一凸块(6)和第二凸块(7)的形状和数量均与第二凹槽(5)相同。

6.根据权利要求1所述的带有砂纸的抛光布，其特征在于，所述第二凹槽(5)、第二凸块(7)和第一凸块(6)按竖直方向依次对齐排列。

说明书

技术领域

本实用新型涉及抛光布技术领域，尤其涉及带有砂纸的抛光布。

背景技术

在航空材料的加工过程中需要对其进行抛光，这通常使用抛光布来完成。

常规的抛光布在使用时仍然存在不足之处，首先，抛光时如果出现抛光不掉的划痕则需要重新在砂纸上打磨，这样来回反复操作，不仅浪费了加工时间、降低了加工效率，还存在划痕划破抛光布的风险；其次，抛光时大多使用抛光剂来提高材料表面的精细度，而常规的抛光剂无法均匀地涂抹于材料的表面，进而影响抛光效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：为了解决常规抛光布不能进行划痕的打磨以及无法均匀抛光剂的问题，而提出的带有砂纸的抛光布。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

带有砂纸的抛光布，包括基布层和抛光层，所述基布层的外侧通过胶水粘合有环状的砂纸，所述基布层和抛光层之间设有胶合层，所述抛光层的表面开设有第一凹槽和多个第二凹槽，所述第一凹槽为圆形结构，所述第二凹槽为条状弧形结构，所述基布层的上下两端分别固定连接有第二凸块和第一凸块。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第一凹槽位于抛光层的中心处。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述多个第二凹槽绕第一凹槽的中心点等角度圆周排列。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第一凹槽与多个第二凹槽均连通。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第一凸块和第二凸块的形状和数量均与第二凹槽相同。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第二凹槽、第二凸块和第一凸块按竖直方向依次对齐排列。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中，基布层上设置了胶合层，胶合层上设置了抛光层，基布层的外侧设置了砂纸，采用此设计的好处在于：将抛光布与砂纸通过胶水粘合，在工作时，若材料的表面存在抛光无法清除的划痕，将划痕移至砂纸处，使用砂纸进行打磨，此设计不需要频繁更换加工设备，将打磨抛光一体化，从而有助于提高加工效率。

2、本实用新型中，抛光层上设置了第一凹槽和第二凹槽，第一凹槽为圆形，第二凹槽为弧形的条状结构，基布层的两侧分别设置了第一凸块和第二凸块，第一凸块和第二凸块均与第二凹槽形状相同，采用此设计的好处在于：在抛光时将抛光剂挤在第一凹槽中，随后将抛光层贴合材料的表面，随着抛光机的带动抛光布旋转，抛光剂受到离心力的作用填充在第二凹槽中，然后挤压抛光布，通过第一凸块和第二凸块的推动挤压第二凹槽，将抛光剂挤出第二凹槽，此设计使抛光剂可均匀分布于抛光布的表面，从而有助于提高抛光的均匀性以及精细度。

附图说明

图1示出了根据本实用新型实施例提供的抛光布整体结构示意图；

图2示出了根据本实用新型实施例提供的抛光布截面结构示意图。

图例说明：

1、基布层；2、抛光层；3、砂纸；4、第一凹槽；5、第二凹槽；6、第一凸块；7、第二凸块；8、胶合层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：带有砂纸的抛光布，包括基布层1和抛光层2，基布层1的外侧通过胶水粘合有环状的砂纸3，基布层1和抛光层2之间设有胶合层8，抛光层2的表面开设有第一凹槽4和多个第二凹槽 5，第一凹槽4为圆形结构，第二凹槽5为条状弧形结构，基布层1的上下两端分别固定连接有第二凸块7和第一凸块6，当存在抛光无法去除的划痕时，通过砂纸3进行打磨去除划痕。

具体的，如图1所示，第一凹槽4位于抛光层2的中心处，多个第二凹槽5 绕第一凹槽4的中心点等角度圆周排列，第一凹槽4与多个第二凹槽5均连通，此设计有助于抛光剂的均匀分布以及流动。

具体的，如图2所示，第一凸块6和第二凸块7的形状和数量均与第二凹槽 5相同，第二凸块7和第一凸块6按竖直方向依次对齐排列，通过挤压抛光布，使第一凸块6和第二凸块7挤压第二凹槽5的底部，进而将抛光剂逐渐挤出第二凹槽5。

工作原理：使用时，将抛光布安装于抛光机上，在抛光前将抛光剂挤在第一凹槽4中，然后启动抛光机，抛光布旋转时，抛光剂受到离心力的作用向四周扩散，由于抛光层2贴着材料的表面，故抛光剂沿着第二凹槽5填充于其中，同时挤压抛光布上的第一凸块6，第一凸块6进一步挤压第二凸块7，从而挤压第二凹槽5的底部，将抛光剂逐渐挤出第二凹槽5；其次，当材料表面存在未清除的划痕时，将划痕出移动至抛光布的外侧，使用砂纸3进行打磨即可，通过上述的步骤，此设计的抛光布可用于打磨划痕，不需要频繁更换设备，有助于提高加工效率，并且抛光剂分布更均匀，有助于提高抛光的精细度。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

带有砂纸的抛光布专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。