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一种具有双梯度的量子阱结构的近紫外LED制备方法

一种具有双梯度的量子阱结构的近紫外LED制备方法

IPC分类号 : H01L33/00;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32

申请号
CN201810523668.2
可选规格
  • 专利类型: 发明专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2018-05-28
  • 公开号: CN108899398A
  • 公开日: 2018-11-27
  • 主分类号: H01L33/00
  • 专利权人: 东莞理工学院

专利摘要

本发明提供一种具有双梯度的量子阱结构的近紫外LED制备方法,其峰值波长范围在390nm-405nm高亮度近紫外LED;采用双梯度渐变的InGaN/AlGaN多量子阱作为有源层结构,其中在前5个周期的量子阱中阱层Inx1Ga1-x1N的厚度范围在2-4nm,其In组分x1;垒层Aly1Ga1-y1N厚度为5nm-6nm,Al组分y1,在后5个周期量子阱中阱层InxGa1-xN的厚度范围在2-4nm,垒层AlGaN,垒层AlyGa1-yN厚度为10nm-15nm。采用复合电子阻挡层,第一层电子阻挡层为4-6个周期Inx2Ga1-x2N/Aly2Ga1-y2N超晶格,其中InGaN厚度为,2nm-2.5nm,AlGaN厚度为:1.5nm-2nm;第二层电子阻挡层为8-10个周期p-Inx2Ga1-x2N/Aly2Ga1-y2N超晶格,其中InGaN厚度为3nm-4nm,AlGaN厚度为2.5nm-3nm.其中In组分x2,0.01≤x2<x1<x<0.1,其中Al的组分y2,0.05≤y1≤y≤y2≤0.1;所述新型量子阱有源层结构及电子阻挡层结构,可有效提高电子、空穴复合发光效率;适用于高亮度近紫外LED的制作。

专利附图

一种具有双梯度的量子阱结构的近紫外LED制备方法

一种具有双梯度的量子阱结构的近紫外LED制备方法专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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