专利摘要

本发明属于微波铁磁材料技术领域，涉及一种自偏置非均质微波铁磁薄膜材料及其制备方法，在室温下，以铁磁基材料M为铁磁母材料靶，以掺杂元素D为掺杂元素靶，以单晶Si基片为衬底，衬底长度方向沿着圆形样品转盘的辐向，衬底正对铁磁母材料靶，掺杂元素靶的靶位偏离衬底中心一端5-10cm，在磁控溅射真空腔的真空压力低于5.0×10－6Torr后，通入Ar气或N2气进行溅射，制备得到自偏置非均质微波铁磁薄膜材料；其制备方法简单，操作方便，制备的薄膜材料性能稳定，铁磁共振频率高，应用广泛。

一种自偏置非均质微波铁磁薄膜材料及其制备方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。