专利摘要

采用物理气相沉积（Physical Vapor Deposition,PVD）工艺在氮化硅陶瓷切削刀具表面制备氧化铝单层或多层涂层的方法。采用PVD技术制备氧化铝涂层的方法有两种：一种是采用双极脉冲电源、双向磁控溅射（Dual Magnetron Sputtering,DMS）技术在O2或者Ar和O2的混合气氛中通过反应溅射Al靶沉积氧化铝层；另一种是在Ar或Ar和O2的混合气氛中通过双向磁控溅射技术溅射进行了导电掺杂的氧化铝陶瓷靶，制备氧化铝涂层。通过上述两种方法制备单层氧化铝涂层、氮化物氧化铝复合涂层、氮化物和氧化铝交替沉积的多层或纳米复合涂层。氧化铝可以是α‑Αl2O3、β‑Αl2O3、γ‑Αl2O3或非晶Αl2O3。多层复合氧化铝涂层中的硬质氮化物涂层包括二元氮化物涂层、三元氮化物涂层和多元氮化物涂层，或它们的多层复合或纳米涂层。

专利附图

一种采用物理气相沉积工艺在氮化硅切削刀具表面制备Al2O3涂层及其复合涂层的方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。