专利摘要

本发明实施例公开了一种半导体表面清洗剂，按重量份包括如下组份：氟碳溶剂10-60份、氢氟醚10-60份、有机醇1-20份、表面活性剂1-20份、螯合剂1-15份和稳定剂1-15份。本发明半导体表面清洗剂含氟代化合物,因而不易燃、挥发速率快，不含破坏环境的氟氯烃类化合物，对半导体表面污垢具有较好的溶解、清洗性能，适用于半导体表面残留物、助焊剂、松香、树脂、油污、指印、灰尘的清洗，清洗效果良好。也可用在电子、数码、太阳能工业产品的表面清洗上。

专利附图

一种半导体表面清洗剂及其制备方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。