专利摘要

本发明涉及光电检测领域，具体公开了一种基于光电检测的半导体研磨装置，本发明利用光电检测机构对晶片的表面粗糙度进行检测，而且，光电检测机构能够在不需拆下晶片的情况下对晶片的粗糙度进行检测，这样可以在研磨一段时间后利用光电检测机构进行检测，如果合格后则停止研磨，如果不合格则继续研磨，不需要再重新对晶片进行定位，既可以保证晶片的研磨精度又可以提高研磨效率，避免取出检测后重新安装定位后导致误差增大的问题。本发明采用光切法进行检测，并利用烘干机构将晶片表面进行烘干处理，有效避免光电检测时研磨液水珠对光电检测的不利影响，提高检测精度与可靠度，提高半导体研磨可靠性。

专利附图

一种基于光电检测的半导体研磨装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。