专利摘要

本发明是一种磁流变柔性抛光垫的动态磁场自锐抛光装置及其抛光方法，包括抛光盘公转机构和多磁极同步旋转驱动机构，抛光盘公转机构包括传动轴电机、传动轴、转接盘、偏心轴固定盘、杯形抛光盘、传动轴传动机构，多磁极同步旋转驱动机构包括偏心主轴、同步旋转驱动盘、柔性偏心转动轴、偏心套、磁极、偏心轴固定盘、主轴电机等，本发明不需采用循环装置对磁流变液进行更新，且加工过程中不需更换磁流变液，节省空间，一次加工可实现粗抛光到精抛光的全过程，所获工件表面一致性好，加工效率高，无表面和亚表面损伤，成本低，适合大直径光学元件的平面高效率超光滑均匀抛光加工。同时，本发明还适于光学平面材料的材料去除机理和亚表面损伤检测等试验研究。

专利附图

磁流变柔性抛光垫的动态磁场自锐抛光装置及其抛光方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。