IPC分类号 : H01L41/04; H01L41/113; H01L41/18; H01L41/22; H01L41/316; H01L41/35; H01L41/37
专利摘要
本发明属于传感器技术领域,涉及一种SiC/ZnO纳米异质结压力传感器及其制备方法。所述SiC/ZnO纳米异质结压力传感器的制备方法包括以下步骤:(1)制备SiC/ZnO纳米异质结:将SiC纳米线分散于乙醇溶液中,取含有SiC纳米线的乙醇溶液滴在Si片上,自然晾干;然后将载有SiC纳米线的Si片面朝上放入原子层沉积系统,在惰性气氛中,以二乙基锌和水作为生长ZnO层的前驱体,在SiC纳米线表面生长ZnO层,从而获得SiC/ZnO纳米异质结;(2)压力传感器构建:将载有SiC/ZnO纳米异质结的Si片,在原子力显微镜导电模式下构建Pt/Ir‑SiC/ZnO‑Si压力传感器。
专利附图
一种SiC/ZnO纳米异质结压力传感器及其制备方法专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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