专利摘要

本发明涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种用于镀制非均匀多层薄膜的系统，包括镀膜腔体(1)和工控系统，所述镀膜腔体(1)内固定有靶材(2)和用于放置试样(3)的试样台(4)，所述试样台(4)高度可调式连接在镀膜腔体(1)的内底面上，所述一种用于镀制非均匀多层薄膜的系统还包括孔径大小可变的光圈(5)、半径大小可变的遮挡装置(6)、将光圈(5)移送至试样(3)表面中心上方或离开试样(3)上方的第一驱动机构、以及将遮挡装置(6)移送至试样(3)表面中心上方或离开试样(3)上方的第二驱动机构。采用这种结构后，该设备可以镀制非均匀多层薄膜，为科研人员对非均匀多层薄膜的研究工作做铺垫。

一种用于镀制非均匀多层薄膜的系统专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。